等离子体处理设备制造技术

提供一种等离子体处理设备，其特征是通过限定电介质与缝隙之间的位置关系来极大地提高等离子体点火性和点火稳定性。等离子体处理设备（１１）包括：处理室（１２），其具有顶部开口；电介质（１５），在其底面上具有倾斜面（１６ａ和１６ｂ），使得厚度尺寸连续变化，并且该电介质（１５）被布置成封闭处理室（１２）的顶部开口；以及天线（２４），其被布置在电介质（１５）的顶面上，用于向电介质（１５）供给微波，从而在电解质（１５）的底面产生等离子体。此外，天线（２４）设置有定位在倾斜面（１６ａ和１６ｂ）的铅直上方的多个缝隙（２５）。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种等离子体处理设备。
技术介绍
例^口，在曰本净争开2005隱100931号7>才艮(专利文献l )中/> 开了 一种传统的等离子体处理设备。其中说明的等离子体处理 设备包括等离子体产生室，其中容纳被处理基板；天线 (antenna),其产生由微波驱动的电磁场；顶板，其密封等离 子体产生室的开口部；以及锥状凸部或者凹部，其形成在顶板 的底面侧。具有上述构造的等离子体处理设备能够通过连续地改变顶 板的直径方向的厚度而在任何条件下形成最佳的共振 (resonance)区域。结果，在专利文献1中提及了能够产生稳定的等离子体。专利文献l:曰本4争开2005-100931号7^才艮
技术实现思路
在具有上述构造的等离子体处理设备中，从设置在天线中 的缝隙朝向顶板放射微波。因此，认为顶板与缝隙之间的位置 关系对于实现稳定的等离子体产生是重要的。考虑到上述情况，本公开提供了一种等离子体处理设备， 其特征是通过限定电介质与缝隙之间的位置关系来极大地提高 等离子体点火性和点火稳定性。除了石英之外，用于构成具有上述构造的顶板的材料可以 是陶瓷等。这里，由于微波共振区域取决于顶板的材本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体处理设备，其包括：　处理室，其具有顶部开口；　电介质，在其底面上具有倾斜面，使得所述电介质的厚度尺寸连续变化，并且该电介质被布置成封闭所述处理室的所述顶部开口；以及　天线，其被布置在所述电介质的顶面上，用于向所 述电介质供给微波，从而在所述电解质的底面产生等离子体，　其中，所述天线设置有定位在所述倾斜面的铅直上方的多个缝隙。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：松本直树，吉川润，佐佐木胜，加藤和行，四方政史，高桥慎伍，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]