用于将流体介质涂敷到材料幅上的设备制造技术

技术编号:4144990 阅读:157 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种用于将流体介质涂敷到材料幅上的设备,所述设备包括涂敷表面和至少一个分离单元,其中该材料幅能够在整个涂敷表面上被引导,并在涂敷表面的至少一个接触区域中与涂敷表面接触。该流体介质可被涂敷到接触区域(5)中的材料幅上。分离单元覆盖或遮盖涂敷表面上的遮盖区域。材料幅可在附加条件下在整个涂敷表面进给,该附加条件为在遮盖区域内,材料幅和涂敷表面之间不发生接触。借助于至少布置在分离单元的支撑部分中的至少一个供料元件,流体介质可从分离单元的边缘被输送走。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于将流体介质涂敷到材料幅(material web) 上的设备,该设备包括涂敷表面和至少一个分离单元。
技术介绍
上述类型的设备大体上在实践中是公知的。在EP 1 854 915 Al 中,公开了用于将流体介质涂敷到材料幅上的设备,其中材料幅在整 个涂敷表面上被引导。该设备具有遮盖元件,通过该遮盖元件,涂敷 表面在一定区域内被遮盖。上述设备基本上已被很好地验证。所期望 的是,改进将流体介质涂敷到材料幅上的均匀性。
技术实现思路
本专利技术基于该技术要求,提出了前述类型的设备,通过该设备, 能够可靠地、均匀地进而达到可安全操作地将流体介质涂敷到材料幅 上。通过本专利技术所教导的使用用于将流体介质涂敷到材料幅上的设备 而解决了上述技术问题,该设备包括涂敷表面和至少一个分离单元, 其中该材料幅在整个涂敷表面上被引导,并在涂敷表面的至少一个接 触区域中与该涂敷表面接触,其中该流体介质可在接触区域中被涂敷 到材料幅上,该分离单元覆盖或遮盖涂敷表面的遮盖区域,其中该材 料幅可在整个涂敷表面进给,但在遮盖区域中该材料幅和涂敷表面之 间并不接触,其中借助于布置在分离单元的支撑部分内的至少一个供 料元件,该流体介质从分离单元的边缘被输送走。落入本专利技术的保护 范围的是,使用液体介质或者液体或者液体溶液作为流体介质。方便 地,所采用的流体介质是柔软整理涂层(avivage)或者软化剂。值得推荐的是,材料幅的特性尤其是表面特性能够通过将流体介质涂敷到 材料幅上而改变。 一种经过验证的流体介质是,例如,表面活性制剂(surface active agent )、 表面活'I生剂 (surfactant )、 表面活寸生制剂和 表面活性剂的混合物、染料或染料溶液。同样可以使用任何已给定的 乳状液作为流体介质。材料幅可以是非织造或者机织材料幅。便利地,材料幅是非织造 或纺粘的织物。根据优选的实施方式,纺粘织物包括环形长丝。为了 生产纺粘织物,环形长丝优选地借助于喷丝头由至少一个热塑塑料初 步地制造。便利地,该环形长丝在纺纱之后被初步拉伸,然后被沉积 在沉积装置上,以形成纺粘织物。落入本专利技术的范围的是,材料幅的下侧在整个涂敷表面上被引导, 并且材料幅的下侧在涂敷表面的接触区域中被流体介质作用。材料幅料方向。优选地,该分离单元是不透流体的或者基本上不透流体的,并且 便利地布置在该涂敷表面和该材料幅之间,其中,根据本专利技术,在遮 盖区域内,材料幅和涂敷表面之间并不存在接触。根据本专利技术的方法 的一个实施方式,该分离单元的支撑部分覆盖该涂敷表面,但在在整 个涂敷表面上引导材料幅时,材料幅和涂敷表面之间并不存在接触。 便利地,接触发生在支撑部分的表面和材料幅的下侧之间,并发生在 支撑部分的下侧和涂敷表面之间。落入本专利技术保护范围的是,分离单元的支撑部分至少在某些段中搁置在涂敷表面的遮盖区域上,并且支 撑部分在某些区域中遮盖涂敷表面但并不接触或触及它。在优选的实施方式中,该供料元件形成为支撑部分的下侧中的供 料缺口 ,但涂敷到涂敷表面的流体介质从分离单元的一个边缘或多个 边缘被输送走,特别是由于材料幅施加到分离单元上的压力。落入本 专利技术保护范围的是,支撑部分遮盖涂敷表面,但在供料缺口的区域内 并不与其接触或触及。根据一个实施方式,形成为隆起的至少一个供 料元件布置在支撑部分的下侧上,例如,该支撑部分可成型为杆或者杆状外形。优选的是,涂敷到涂敷表面的流体介质通过隆起从分离单 元的边缘输送走。便利地,该分离单元仅仅通过隆起倚靠涂敷表面上, 也就是说,仅仅隆起与涂敷表面接触。由此,将可靠地避免流体介质 在材料幅上的增强的或增加的涂敷,尤其是在分离单元的支撑部分的 边缘区域内。例如,供料缺口形成为槽和/或由多样或多个的点状缺口形成。原 则上,至少在支撑部分的下侧中,该供料缺口可构造成任意外形。已 验证的制造支撑部分的下侧中的供料缺口的方式是通过压印。落入本 专利技术保护范围的是,至少该分离单元的支撑部分的材料幅侧的表面/ 顶侧形成为平面或光滑的。进一步落入本专利技术保护范围的是,分离单元的支撑部分的多于10%、推荐地多于20%、便利地多于30%、优 选地多于50%且更优选地多于70%的面积覆盖涂敷表面的遮盖区域, 但并不接触或触及它。根据本专利技术的方法的一个实施方式,至少两个且优选为多样或多 个的分离单元可以布置在涂敷表面上。优选地,该至少两个分离单元 被定位成相互直接相邻。根据本专利技术,相互直接相邻是指该两个分离 单元之间没有形成间隙或基本上没有形成间隙。由此,该遮盖区域增 大。根据该实施方式的一种变形,相互相邻布置的两个分离单元之间 具有一定的间距,使得优选地在该两个分离单元之间形成带状接触区 域。根据一个实施方式,如果至少两个或优选地多样或多个的分离单 元在涂敷表面上相互间隔地依次布置,那么多个接触区域就形成在涂 敷表面。落入本专利技术保护范围的是,至少两个分离单元被定位成重叠, 以在某些区域中,其中一个分离单元位于另一个分离单元之上,使得 形成连贯或连续的遮盖区域。便利地,分离单元优选地形成为矩形或矩形形状的分离带或遮盖 带,该分离带或遮盖带的纵向延伸定向为平行于或基本平行于供料方 向/横向于涂敷表面。已被验证的是利用纤维增强塑料(优选为涂覆有 聚四氟乙烯(Teflon)的和/或纤维增强塑料)制造分离单元。原则上, 同样可能的是,该分离单元由例如轧制成薄片的金属构成。优选地,该涂敷表面为涂敷辊的表面。便利地,涂敷表面的表面 为圆柱地形成,其中该涂敷辊的纵向轴线优选地定向为横向于或基本 上横向于材料幅的供料方向。落入本专利技术保护范围的是,涂敷辊旋转 并且涂敷辊优选地在一定区域内浸入到具有流体介质的容器中。已经 被验证的是,流体介质被完全或基本上完全地涂敷到涂敷辊的涂敷表 面上。根据一个实施方式,至少一个输送通道至少布置在支撑部分内,但在涂敷表面的i4盖区域内涂敷的流体介质可以通过输送通道排出, 其中该流体通道在分离单元中平行于/基本上平行于的供料方向而分 段地延伸。优选地,该输送通道在分离单元中完全/基本上完全平行于 /基本上平行于的供料方向延伸。便利地,该输送通道至少在支撑部分 的下侧中布置。落入本专利技术保护范围的是,输送通道形成为槽,并且 该槽优选地完全/基本上完全沿着支撑部分的长度延伸。根据本专利技术, 支撑部分的长度指的是支撑部分在供料方向上的范围。根据本专利技术的 设备的一个实施方式,该输送通道在优选为带状的分离单元的下侧上 居中地/基本居中地布置。优选地,槽状的输送通道可以包括中断部分。 推荐的是,流体介质借助于输送通道而排出到容器中,在该容器中储 存有用于涂敷到涂敷表面的流体介质。便利地,该供料元件形成为供料缺口,该供料缺口相对于该供料 方向倾斜布置。推荐的是,该供料缺口相对于该分离单元的中央纵向 轴线倾斜地定向。中央纵向轴线指的是分离单元在供料方向上的纵向 轴线,其布置在分离单元的中央/基本上中央。落入本专利技术保护范围的是,供料元件形成为供料缺口,并且该供 料缺口与供料方向之间形成高达90度的定向角a。优选地,该定向角 在10度到85度之间,或者优选地在25度到50度之间。落入本专利技术 保护范围的是,多样或多个的供料缺口布置在分离单元中。便利地,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于将流体介质涂敷到材料幅上的设备,所述设备包括涂敷表面和至少一个分离单元,其中所述材料幅能够在整个涂敷表面上被引导,并且所述材料幅在所述涂敷表面的至少一个接触区域(5)中与所述涂敷表面接触,其中所述流体介质能够在所述接触区域(5)中涂敷到所述材料幅上,其中所述分离单元覆盖或遮盖所述涂敷表面的遮盖区域,其中所述材料幅能够在整个涂敷表面进给,但在所述遮盖区域内,所述材料幅与所述涂敷表面之间不接触,并且其中,通过至少一个布置在所述分离单元的支撑部分中的供料元件,所述流体介质能够被输送远离所述分离单元的边缘。

【技术特征摘要】
EP 2008-9-27 08017068.11.一种用于将流体介质涂敷到材料幅上的设备,所述设备包括涂敷表面和至少一个分离单元,其中所述材料幅能够在整个涂敷表面上被引导,并且所述材料幅在所述涂敷表面的至少一个接触区域(5)中与所述涂敷表面接触,其中所述流体介质能够在所述接触区域(5)中涂敷到所述材料幅上,其中所述分离单元覆盖或遮盖所述涂敷表面的遮盖区域,其中所述材料幅能够在整个涂敷表面进给,但在所述遮盖区域内,所述材料幅与所述涂敷表面之间不接触,并且其中,通过至少一个布置在所述分离单元的支撑部分中的供料元件,所述流体介质能够被输送远离所述分离单元的边缘。2. 根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述涂敷表面是涂 敷辊(2)的表面。3. 根据权利要求1所述的设备,其特征在于,至少一个输送通道 (11)布置在至少所述支撑部分中,但涂敷到所述涂敷表面的所述遮盖区域中的流体介质能够通过所述输送通道排出,其中所述输送通道 (11)平行于/基本平行于所述分离单元的供料方向而分段地延伸。4. 根据权利要求1至3中的任一项所述的设备,其特征在于,所 述供料元件形成为倾斜于所述供料方向而布置的供料缺口,并且优选 地,所述供料元件形成为倾斜于所述分离单元的中央纵向轴线而布置 的供料缺口。5. 根据权利要求1至4中的任一项所述的设备,其特征在于,所 述供料元件形成为供料缺口,并与所述供料方向形成高达90度的定向 角a。6. 根据权利要求4或5所述的设备,其特征在于,至少两个所述 供料缺口和优选地多样或多个的供料缺口布置在所述分离单元中,并且两个供料缺口分别布置成V形。7. 根据权利要求4至6中的任一项所述的设备,其特征在于,所 述供料缺口以槽状形成和/或由多样或多个的点状缺口形成。8. 根据权利要求1至6中的任一项所述的设备,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:T费特S佐默H舒尔策乌普霍夫W屈恩M尼奇克
申请(专利权)人:赖芬豪泽机械工厂有限及两合有限公司
类型:发明
国别省市:DE[德国]

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