【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及新的二氢苯并呋喃衍生物及含它们作活性成分的除莠组合物。本专利技术还涉及制备所述二氢苯并呋喃衍生物用中间体。人们熟知某些种取代的二氢苯并呋喃衍生物可用作除莠剂的活性成分(参见例如USP 4881967)。但这些化合物的除莠活性不够，并且对作物和杂草间的选择性差，因此不能认为它们总是令人满意的除莠剂活性成分。在这些情况下，本专利技术者深入细致地研究了各种各样的化合物，结果发现了特定种类的二氢苯并呋喃衍生物具有极佳的除莠活性并在作物和杂草间表现出极好的选择性，从而完成了本专利技术。因此，本专利技术提供新的式(Ⅰ)二氢苯并呋喃衍生物 式中A是氢、氟或氯，X是氢、氟、氯或溴，Y是可被一个或多个卤原子取代的甲基，Z是甲基或氨基，R1是氢或C1-C6烷基，及R2是C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6羟基烷基、C1-C6烷氧基(C1-C6)烷基、C1-C6烷氧基(C1-C6)烷氧基(C1-C6)烷基、C1-C7酰氧基(C1-C6)烷基、羧基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6卤代烷氧基羰基、C3-C6环烷氧基羰基、C2-C6炔氧基羰基、氨基羰基、C1-...
【技术保护点】
下式化合物：＊＊＊式中Ｑ是－ＣＲ↑［１］＝ＣＲ↑［３］Ｒ↑［４］或－＊＊＊Ｒ↑［３］Ｒ↑［４］，Ａ是氢、氟或氯，Ｘ是氢、氟、氯或溴，Ｙ是可被一个或多个卤原子取代的甲基，Ｚ是甲基或氨基，Ｒ↑［１］是氢或Ｃ↓［１ ］－Ｃ↓［６］烷基，及Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］相同或不同，是氢或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基，但条件是Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］中的碳原子总数不超过６。
【技术特征摘要】
JP 1993-3-17 57216/931．下式化合物式中Q是-CR1=CR3R4或A是氢、氟或氯，X是氢、氟、氯或溴，Y是可被一个或多个卤原子取代的甲基，Z是甲基或氨...
【专利技术属性】
技术研发人员：竹村晋，鹰野实，齐藤一雄，木泽悟，
申请(专利权)人：住友化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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