【技术实现步骤摘要】
本技术涉及磁控溅射，尤其涉及一种磁控溅射镀膜设备。
技术介绍
1、目前，磁控溅射技术是在物理科学、材料科学领域中已广泛使用的实验和生产的表面改性技术。磁控溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积基片上的技术。
2、经检索，公告号为cn110144558a的专利公开了一种磁控溅射镀膜设备，包括真空室，真空室的内部下端设有基片台，基片台的上端设有靶座，靶座的上端设有固定装置，真空室的内部上端设有旋转装置，旋转装置的下端设有连接件，连接件的一端设有磁控靶，其中，旋转装置包括固定架，固定架的上端与真空室的内部上端连接，固定架上端之间设有两组固定杆，固定杆上套设有滑板，滑板的顶部两侧穿插设有两组活动杆，并且，两组活动杆的一端与连接件的一侧固定连接，两组活动杆远离连接件的一端设有活动块，活动块的下端设有滑块，滑块位于滑槽的内侧，滑块与滑槽相互配合，滑槽位于活动盘的上端，活动盘的下端一侧与固定架连接，滑块内穿插设有与滑块相配合的丝杆。
3、但上述技术方案存在以下问题：在磁控把做圆周运动时，只通过活动块与滑块转动连接带动整个旋转装置进行工作，在长时间使用时，容易导致滑块和活动块连接处受损，容易造成两者分离，或者滑块无法移动，使得磁控把无法调整圆周运动半径。
4、针对上述问题，本技术文件提出了一种磁控溅射镀膜设备，用于解决上述所提到的问题。
技术实现思路
1、本技术提供了一种磁控溅射镀膜设备，解决了现有技术中存在磁控把做圆周运动时，只通过活
2、本技术提供了如下技术方案：
3、一种磁控溅射镀膜设备，包括：
4、真空室和磁控靶，所述真空室的前侧设置有观察口，观察口上设置有透明玻璃，所述真空室的一侧设置有用于拿取和放置工件的孔洞，孔洞上设置有洞门，所述真空室的底部内壁上设置有用于收集废屑或杂质的收集盒；
5、转动机构，转动机构设置在真空室的顶部内壁用于磁控靶的转动；
6、移动机构，移动机构设置在转动机构上用于磁控靶的移动；
7、夹持组件，夹持组件设置在收集盒上用于对工件进行夹持。
8、在一种可能的设计中，所述转动机构包括电机、壳体、两个滤网、转环、四个固定杆和转盘，所述壳体的顶部与真空室的顶部内壁固定连接，所述壳体的两侧开设有散热孔，散热孔的内壁用螺栓与滤网的外侧固定连接，所述电机的顶部与壳体的顶部内壁固定连接，所述电机的输出端贯穿壳体的底部内壁并延伸至转盘内壁，所述电机的输出端与壳体转动连接，所述电机的输出端与转盘固定连接，所述转盘位于壳体下方，所述转盘的外侧滑动连接有转环，所述转环的顶部四处均与固定杆的一端固定连接，四个所述固定杆的另一端均与同一个真空室的顶部内壁固定连接。
9、在一种可能的设计中，所述移动机构包括一号电动伸缩杆、连接架、移动板和滑槽，所述一号电动伸缩杆的外侧与转盘的底部固定连接，所述滑槽设置在转盘的底部，所述一号电动伸缩杆的伸缩端与移动板的一侧固定连接，所述移动板的顶部固定连接有滑块，滑块与滑槽滑动连接，所述移动板的底部与连接架的顶部固定连接，所述磁控靶设置在连接架上。
10、在一种可能的设计中，所述夹持组件包括两个二号电动伸缩杆和两个夹块，两个所述二号电动伸缩杆的固定端与真空室的两侧内壁固定连接，两个所述二号电动伸缩杆的伸缩端分别贯穿收集盒的两侧，并延伸至收集盒的内部，两个二号电动伸缩杆的伸缩端均与夹块的一侧固定连接，两个所述夹块均位于收集盒的上方。
11、在一种可能的设计中，两个所述夹块相靠近的一侧均设置为齿状，两个所述夹块相靠近的一侧均固定连接有用于保护工件的软垫。
12、在一种可能的设计中，所述收集盒的一侧设置有抽拉盒，所述抽拉盒的前侧固定连接有拉柱，拉柱上设置有与手指相适配的凹槽。
13、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本技术。
14、本技术中，在两个夹块之间设置了软垫，使得在工件被加持时，可以减少对工件的损害，保证工件的完整度，在真空室内设置收集盒和抽拉盒，使得在工件进行加工时，便于对废屑和杂质进行收集和处理，并且设置在抽拉盒上的拉柱和凹槽，方便对抽拉盒进行移动；
15、本技术中，在真空室内设置转动和移动机构，以及夹持组件，使得在对工件进行夹持时更加容易和方便，减少人工对准夹持板的劳动量，并且在夹块上设置多个齿，保证对工件夹持更为牢固，也使得可以自由调整磁控靶的位置，进而满足不同型号和尺寸的工件，保证磁控靶可以围绕在工件周围对工件进行加工，同时转环可以通过固定杆对转盘起到固定作用，电机对转盘起到二次固定的作用，防止转盘在长时间使用后对连接处损害的几率，并且设置在壳体上的散热孔和滤网，方便电机的运转。
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1.一种磁控溅射镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述转动机构包括电机(11)、壳体(4)、两个滤网(5)、转环(2)、四个固定杆(3)和转盘(12)，所述壳体(4)的顶部与真空室(1)的顶部内壁固定连接，所述壳体(4)的两侧开设有散热孔，散热孔的内壁用螺栓与滤网(5)的外侧固定连接，所述电机(11)的顶部与壳体(4)的顶部内壁固定连接，所述电机(11)的输出端贯穿壳体(4)的底部内壁并延伸至转盘(12)内壁，所述电机(11)的输出端与壳体(4)转动连接，所述电机(11)的输出端与转盘(12)固定连接，所述转盘(12)位于壳体(4)下方，所述转盘(12)的外侧滑动连接有转环(2)，所述转环(2)的顶部四处均与固定杆(3)的一端固定连接，四个所述固定杆(3)的另一端均与同一个真空室(1)的顶部内壁固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述移动机构包括一号电动伸缩杆(6)、连接架(7)、移动板(14)和滑槽(15)，所述一号电动伸缩杆(6)的外侧与转盘(12)的底部固定连接，
4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述夹持组件包括两个二号电动伸缩杆(13)和两个夹块(9)，两个所述二号电动伸缩杆(13)的固定端与真空室(1)的两侧内壁固定连接，两个所述二号电动伸缩杆(13)的伸缩端分别贯穿收集盒(10)的两侧，并延伸至收集盒(10)的内部，两个二号电动伸缩杆(13)的伸缩端均与夹块(9)的一侧固定连接，两个所述夹块(9)均位于收集盒(10)的上方。
5.根据权利要求4所述的一种磁控溅射镀膜设备，其特征在于，两个所述夹块(9)相靠近的一侧均设置为齿状，两个所述夹块(9)相靠近的一侧均固定连接有用于保护工件的软垫(16)。
6.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述收集盒(10)的一侧设置有抽拉盒(17)，所述抽拉盒(17)的前侧固定连接有拉柱，拉柱上设置有与手指相适配的凹槽。
...【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述转动机构包括电机(11)、壳体(4)、两个滤网(5)、转环(2)、四个固定杆(3)和转盘(12)，所述壳体(4)的顶部与真空室(1)的顶部内壁固定连接，所述壳体(4)的两侧开设有散热孔，散热孔的内壁用螺栓与滤网(5)的外侧固定连接，所述电机(11)的顶部与壳体(4)的顶部内壁固定连接，所述电机(11)的输出端贯穿壳体(4)的底部内壁并延伸至转盘(12)内壁，所述电机(11)的输出端与壳体(4)转动连接，所述电机(11)的输出端与转盘(12)固定连接，所述转盘(12)位于壳体(4)下方，所述转盘(12)的外侧滑动连接有转环(2)，所述转环(2)的顶部四处均与固定杆(3)的一端固定连接，四个所述固定杆(3)的另一端均与同一个真空室(1)的顶部内壁固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述移动机构包括一号电动伸缩杆(6)、连接架(7)、移动板(14)和滑槽(15)，所述一号电动伸缩杆(6)的外侧与转盘(12)的底部固定连接，所述滑槽(15)设置在转盘(1...
【专利技术属性】
技术研发人员：庄湧楚，
申请(专利权)人：深圳市顺益丰实业有限公司，
类型：新型
国别省市：
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