采用ＴｉＯ２陶瓷靶磁控溅射的膜系玻璃结构及方法技术

本发明专利技术涉及一种采用ＴｉＯ２陶瓷靶磁控溅射的膜系玻璃结构及方法；该玻璃的膜层结构自玻璃板向外依次为：玻璃／ＴｉＯ２基层／底层电介质层／底银层／底层阻挡保护层层／中间复合电介质层／顶层银／顶层阻挡保护层／上层电介质层。方法是ａ）基板玻璃清洗、干燥；ｂ）预真空过渡；ｃ）镀陶瓷ＴｉＯ２基层；ｄ）镀底层电介质层；ｅ）镀底层银；ｆ）镀底层阻挡保护层；ｇ）镀中间复合电介质层；ｈ）镀顶层银；ｉ）镀顶层阻挡保护层；ｊ）镀上层电介质层。发明专利技术在具有ＴｉＯ２有折射率高的特点，更有效的降低银层反射。ＴｉＯ２膜有较强的耐腐蚀性能。氧化锌表面更适合于银层成膜，在同样银层厚度的情况下达到较低的辐射率，在氧化锌作为底层电介质层的情况下，先镀制一层陶瓷ＴｉＯ２则结合了两种材料的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种镀有双银层、TiO2为基层的低反射率镀膜玻璃。由该新型的膜系 机构，使玻璃的光学性能和热学性能达到最佳的匹配，属于无机非金属

技术介绍
真空溅射方法用来生产光学薄膜已经有很长的历史，自20世纪70年代中期以来， 由于磁控溅射的出现，大幅度地提高了真空溅射方法的镀膜速度。90年代以来，用真空磁控 溅射生产的低辐射玻璃在欧美发展很快，其作用是在玻璃表面镀制可以反射红外光线的薄 膜，从而降低玻璃表面的辐射率，减少玻璃因热辐射而造成的传热损耗，以提高玻璃窗的保 温隔热能力，这种低辐射玻璃配合双层中空玻璃使用，可以隔绝玻璃传导、对流、辐射三种 传热途径，为一种非常有实用价值的节能环保产品。市场上现有的双银镀膜低辐射玻璃，普遍高透低反，遮阳系数较高，从而目前开发 新型双银镀膜低辐射玻璃大都围绕着降低反射为出发点，而降低反射的一般做法为利用光 的干涉原理，通过膜层中的介质层来做到减反的效果。在一些专利技术中，还出现了复合电介 质层，或在电介质层后面再增加复合吸收层，等等。如王茂良等人在专利技术专利申请公开说 明书CN200710045930[1].9中提出了在底层电介本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用ＴｉＯ↓［２］陶瓷靶磁控溅射的膜系玻璃结构，其特征在于，该玻璃的膜层结构自玻璃板向外依次为：　　玻璃／ＴｉＯ↓［２］基层／底层电介质层／底银层／底层阻挡保护层／中间复合电介质层／顶层银／顶层阻挡保护层／上层电介质层。

【技术特征摘要】
一种采用TiO2陶瓷靶磁控溅射的膜系玻璃结构，其特征在于，该玻璃的膜层结构自玻璃板向外依次为玻璃/TiO2基层/底层电介质层/底银层/底层阻挡保护层/中间复合电介质层/顶层银/顶层阻挡保护层/上层电介质层。2.按权利要求1所述的玻璃结构，其特征在于各膜层的厚度为 TiO2基层膜层厚度为15 25nm ；底层电介质层膜层厚度为15 20nm ； 底层银膜层厚度为7 9nm ； 底层阻挡保护层膜层厚度为1 3nm ； 中间复合电介质层Sn 膜层厚度为29 33nm ； 中间复合电介质层ZnAl 膜层厚度为41 48nm ； 顶层银膜层厚度为14 17nm ； 顶层阻挡保护层膜层厚度为2 3nm ； 上层电介质层膜层厚度为50 70nm。3.一种采用TiO2陶瓷靶磁控溅射的膜系结构玻璃的生产方法，其特征在于步骤如下a)基板玻璃清洗、干燥；b)预真空过渡；c)镀陶瓷TiO2基层；c)镀底层电介质层；d)镀底层银；f)镀底层阻挡保护层；g)镀中间复合电介质层； f)镀顶层银；i)镀顶层阻挡保护层； j)镀上层电介质层。4.按权利要求3所述的生产方法，其特征在于所述的镀陶瓷TiO2基层是将陶瓷TiO2 靶在纯氩或氩氧气氛中进行溅射，溅射气压范围2 X 10_2mbr 3 X 10_4mbr，脉冲电源频率为 15kHz 25kHz ...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨桂祥，岳志峰，赵永进，方志坚，
申请(专利权)人：天津耀皮工程玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：12[中国|天津]