【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造，特别涉及一种石英坩埚的形变校准装置及方法。
技术介绍
1、在多晶硅拉制单晶晶棒过程中，拉晶过程石英坩埚随坩埚轴一同旋转。随着晶棒不断长大，石英坩埚内融化的多晶硅不断减少，又因为石英坩埚在高温下处于软化状态，外侧有石墨坩埚的支撑，而内侧随硅料减少无硅料的压力，石英坩埚会向内侧进行倾斜。在拉晶的后期，硅料余量越少，倾斜的程度越大，甚至会与内侧的导流筒发生接触。导流筒价格昂贵且为高纯石墨件，外侧有涂层保护，石英坩埚与导流筒接触后不断的摩擦粘连，会损伤导流筒的涂层，且掉落的氧化物涂层也会对晶棒的品质产生影响。因为拉晶处于密闭的环境进行，无法对石英坩埚是否发生形变进行监控。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种石英坩埚的形变校准装置及方法，用以解决现有技术中在晶棒的拉制过程中，石英坩埚向内侧倾斜，但拉晶处于密闭的环境进行，无法对石英坩埚是否发生形变进行监控的问题。
2、为了解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：
3、本专利技术实施例提供一种石英坩埚的形变校准装置，包括：
4、至少一组探测组件；
5、所述探测组件包括：
6、显示模块、连接件以及挂件；
7、所述连接件的第一端与所述显示模块连接，第二端与所述挂件连接，且所述连接件能够沿所述石英坩埚的切线方向摆动；
8、所述挂件悬挂于所述石英坩埚上方，且至少部分伸入所述石英坩埚内；
9、在所述石英坩
10、进一步地，所述挂件的材质为钼、陶瓷、钨或者碳化钨。
11、进一步地，所述挂件靠近所述石英坩埚的一侧为弧形。
12、进一步地，
13、所述挂件的顶端与所述石英坩埚顶部边缘的距离小于所述挂件的高度。
14、进一步地，所述显示模块为刻度盘；
15、所述连接件的第一端与所述刻度盘的指针连接。
16、进一步地，所述显示模块为设置有角度传感器的电子显示器；
17、所述连接件的第一端与所述角度传感器连接。
18、进一步地，所述连接件为连接杆；
19、所述连接杆的表面设置有硅涂层。
20、进一步地，所述装置还包括：石墨坩埚、坩埚轴以及导流筒；
21、所述石英坩埚容置于所述石墨坩埚中，且与所述石墨坩埚贴合；所述坩埚轴与所述石墨坩埚连接，用于带动所述石墨坩埚旋转；
22、所述导流筒设置于所述石英坩埚上方，且所述导流筒与所述石英坩埚同轴；
23、所述挂件的高度大于第一高度，所述第一高度为所述石英坩埚上边缘高于所述石墨坩埚上边缘的高度。
24、进一步地，所述显示模块设置于所述导流筒外侧。
25、本专利技术实施例还提供一种石英坩埚的形变校准方法，应用于如上所述的石英坩埚的形变校准装置，包括：
26、根据所述显示模块的显示内容，判断所述石英坩埚是否发生形变；
27、在所述石英坩埚发生形变的情况下，通过所述挂件触碰旋转中的所述石英坩埚，对所述石英坩埚的形变进行修正。
28、本专利技术的有益效果是：
29、本专利技术实施例的石英坩埚的形变校准装置，通过设置至少一组探测组件，能够及时检测到所述石英坩埚是否发生形变；其中，通过所述石英坩埚发生形变后触碰到所述挂件，进而使得所述显示模块的显示内容发生变化，从而能够通过所述显示模块确定所述石英坩埚是否发生形变；并且，通过所述挂件触碰所述石英坩埚能够对发生形变的石英坩埚进行一定程度的修正，避免石英坩埚摩擦导流筒而导致导流筒的涂层被损坏。本专利技术实施例的石英坩埚的形变校准装置，能够解决现有技术中在晶棒的拉制过程中，石英坩埚向内侧倾斜，但拉晶处于密闭的环境进行，无法对石英坩埚是否发生形变进行监控的问题。
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1.一种石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，所述挂件的材质为钼、陶瓷、钨或者碳化钨。
3.根据权利要求1所述的石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，所述挂件靠近所述石英坩埚的一侧为弧形。
4.根据权利要求3所述的石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，所述挂件的顶端与所述石英坩埚顶部边缘的距离小于所述挂件的高度。
5.根据权利要求1所述的石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，所述显示模块为刻度盘；
6.根据权利要求1所述的石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，所述显示模块为设置有角度传感器的电子显示器；
7.根据权利要求1所述的石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，所述连接件为连接杆；
8.根据权利要求1所述的石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，所述装置还包括：石墨坩埚、坩埚轴以及导流筒；
9.根据权利要求8所述的石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，所述显示模块设置于所述导流筒外侧。
10.一种石英坩埚的形变校准方法，
...【技术特征摘要】
1.一种石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，所述挂件的材质为钼、陶瓷、钨或者碳化钨。
3.根据权利要求1所述的石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，所述挂件靠近所述石英坩埚的一侧为弧形。
4.根据权利要求3所述的石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，所述挂件的顶端与所述石英坩埚顶部边缘的距离小于所述挂件的高度。
5.根据权利要求1所述的石英坩埚的形变校准装置，其特征在于，所述显示模块为刻度盘；
6.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：纪天平，张鹏举，江恒泽，刘士靖，
申请(专利权)人：西安奕斯伟材料科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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