【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及玻璃镀膜，具体涉及一种新型集成气路控制系统及控制方法。
技术介绍
1、磁控溅射镀膜在玻璃镀膜领域应用广泛，低辐射镀膜玻璃(low-e)，其核心就是利用磁控溅射镀膜技术在玻璃基底上制备多层复合膜，使其具有高透过率低辐射性能，从而具备节能保温性能。
2、大面积磁控溅射镀膜对薄膜的均匀性要求很高。玻璃面积越大，对薄膜均匀性要求越高；而薄膜均匀性的影响因素有很多，如磁场均匀性、靶材均匀性、工艺气体均匀性；对于反应溅射工艺中的工艺气体，不仅要保障其均匀性，还要根据不同靶材溅射的工艺需求，精准调节不通气体的气氛比。目前大多数提高反应气体均匀性的方法为优化腔体内部供气结构，很难同时实现混合气体通入和输出的气流量精准控制，适用性受限。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于，提供一种新型集成气路控制系统，解决以上技术问题；
2、本专利技术的目的还在于，提供一种新型集成气路控制方法，解决以上技术问题。
3、本专利技术所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现：
4、一种新型集成气路控制系统，包括一集成气路装置，所述集成气路装置上设有，
5、进气口，设于所述集成气路装置的第一侧接入外部工艺气体，包括，
6、多个主气进气口，接入进气主气；
7、与所述主气进气口数量相对应的多个辅气进气口，接入用于调节所述工艺气体的气氛比的进气辅气；
8、混合气路，设于所述集成气路装置内，所述混合气路为包括多段路径
9、出气口，设于所述集成气路装置的第二侧连接所述混合气路的输出端输出所述反应气体，所述出气口包括m个主气出气口和n个辅气出气口；
10、还包括一反应腔体，所述反应腔体通过气道和所述出气口连接，所述反应腔体内划分有k个反应区域，并在所述反应区域内可调节流量地释放所述反应气体，每一所述反应区域包括，
11、m个主气反应区域，分别连接所述主气出气口；
12、n个辅气反应区域，位于所述主气反应区域的一侧，分别连接所述辅气出气口；其中m，n，k均为正整数。
13、优选的，还包括，
14、多个电磁阀，分别设于所述主气进气口和所述辅气进气口上，用于控制所述主气进气口和所述辅气进气口的开关；
15、多个进气流量质量计，分别设置在所述主气进气口和所述辅气进气口的进气气路上，用于测量和控制所述进气主气和所述进气辅气的进气流量。
16、优选的，各所述反应区域分别沿所述反应腔体的纵向方向上排列，每一所述反应区域的各个所述主气反应区域分别沿所述反应腔体的横向方向上排列，各个所述辅气反应区域分别沿和所述主气反应区域相同的分布方向上排列。
17、优选的，各个所述主气反应区域的大小相同或不相同，各所述辅气反应区域的大小相同并且小于所述主气反应区域。
18、优选的，还包括多个出气流量质量计，分别设置在所述主气出气口和所述辅气出气口的出气气路上，用于测量和控制所述主气出气口和所述辅气出气口的出气流量。
19、优选的，所述反应腔体内设有待反应的玻璃，所述反应区域位于所述玻璃的上方。
20、优选的，所述工艺气体包括氩气、氮气和氧气，所述主气进气口包括相对应的氩气主气进气口、氮气主气进气口和氧气主气进气口，所述辅气进气口包括和所述主气进气口相对应的氩气辅气进气口、氮气辅气进气口和氧气辅气进气口。
21、优选的，所述集成气路装置的侧边设有多个辅助孔，通过所述辅助孔向所述集成气路装置内部钻孔形成所述迷宫式气路，所述集成气路装置的内侧壁为所述迷宫式气路的管壁。
22、一种新型集成气路控制方法，应用于所述的新型集成气路控制系统，包括，
23、步骤s1，所述集成气路装置通过所述进气口接入所述工艺气体；
24、步骤s2，所述工艺气体在所述混合气路内流动混合获得反应气体；
25、步骤s3，所述反应气体通过所述出气口输出至所述反应腔体内的所述反应区域，并在所述反应区域内的各个所述主气反应区域和各个所述辅气反应区域可调节流量地释放所述反应气体，对所述反应腔体内的待反应的玻璃进行镀膜操作。
26、优选的，步骤s1包括，所述主气进气口接入所述进气主气，所述辅气进气口接入用于调节所述工艺气体的气氛比的进气辅气用以控制所述玻璃的镀膜的整体厚度。
27、本专利技术的有益效果：由于采用以上技术方案，本专利技术通过集成气路装置内部迷宫式结构设计和反应腔体内部设置主气反应区域和辅气反应区域结合方式，保障气体均匀性。
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1.一种新型集成气路控制系统，其特征在于，包括一集成气路装置，所述集成气路装置上设有，
2.根据权利要求1所述的新型集成气路控制系统，其特征在于，还包括，
3.根据权利要求1所述的新型集成气路控制系统，其特征在于，各所述反应区域分别沿所述反应腔体的纵向方向上排列，每一所述反应区域的各个所述主气反应区域分别沿所述反应腔体的横向方向上排列，各个所述辅气反应区域分别沿和所述主气反应区域相同的分布方向上排列。
4.根据权利要求1所述的新型集成气路控制系统，其特征在于，各个所述主气反应区域的大小相同或不相同，各所述辅气反应区域的大小相同并且小于所述主气反应区域。
5.根据权利要求1所述的新型集成气路控制系统，其特征在于，还包括多个出气流量质量计，分别设置在所述主气出气口和所述辅气出气口的出气气路上，用于测量和控制所述主气出气口和所述辅气出气口的出气流量。
6.根据权利要求1所述的新型集成气路控制系统，其特征在于，所述反应腔体内设有待反应的玻璃，所述反应区域位于所述玻璃的上方。
7.根据权利要求1所述的新型集成气路控制系
8.根据权利要求1所述的新型集成气路控制系统，其特征在于，所述集成气路装置的侧边设有多个辅助孔，通过所述辅助孔向所述集成气路装置内部钻孔形成所述迷宫式气路，所述集成气路装置的内侧壁为所述迷宫式气路的管壁。
9.一种新型集成气路控制方法，应用于如权利要求1-8中任意一项所述的新型集成气路控制系统，其特征在于，包括，
10.根据权利要求9所述的新型集成气路控制方法，其特征在于，步骤S1包括，所述主气进气口接入所述进气主气，所述辅气进气口接入用于调节所述工艺气体的气氛比的进气辅气用以控制所述玻璃的镀膜的整体厚度。
...【技术特征摘要】
1.一种新型集成气路控制系统，其特征在于，包括一集成气路装置，所述集成气路装置上设有，
2.根据权利要求1所述的新型集成气路控制系统，其特征在于，还包括，
3.根据权利要求1所述的新型集成气路控制系统，其特征在于，各所述反应区域分别沿所述反应腔体的纵向方向上排列，每一所述反应区域的各个所述主气反应区域分别沿所述反应腔体的横向方向上排列，各个所述辅气反应区域分别沿和所述主气反应区域相同的分布方向上排列。
4.根据权利要求1所述的新型集成气路控制系统，其特征在于，各个所述主气反应区域的大小相同或不相同，各所述辅气反应区域的大小相同并且小于所述主气反应区域。
5.根据权利要求1所述的新型集成气路控制系统，其特征在于，还包括多个出气流量质量计，分别设置在所述主气出气口和所述辅气出气口的出气气路上，用于测量和控制所述主气出气口和所述辅气出气口的出气流量。
6.根据权利要求1所述的新型集成气路控制系统，其特征在于，所述反...
【专利技术属性】
技术研发人员：张康，葛治亮，井治，张超群，王贝，刘锐，程明，
申请(专利权)人：中国建材国际工程集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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