System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 颗粒检测装置及方法制造方法及图纸_技高网

颗粒检测装置及方法制造方法及图纸

技术编号:40539340 阅读:6 留言:0更新日期:2024-03-05 18:54
一种颗粒检测装置及方法,该装置包括光源、光束转换机构、数字微镜阵列、微透镜阵列、多个CCD和图像处理器,光源提供的入射光经光束转换机构转换为平行光束照射数字微镜阵列;数字微镜阵列中,相邻的微镜一个朝向光源翻转,另一个不朝向光源翻转,朝向光源翻转的微镜反射得到的反射光照射透光基板,不朝向光源翻转的微镜反射得到的反射光不照射透光基板;微透镜阵列接收透过透光基板的透射光,微透镜阵列的每个微透镜一对一地对应各个微镜;每个CCD一对一地对应微透镜,CCD接收透过微透镜的光信号,图像处理器根据CCD的光信号判断CCD的光分布是否变化确定基板上是否有颗粒。本发明专利技术具有检测效率高、可快速检测大面积的基板的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及集成电路制造,特别涉及一种颗粒检测装置及方法


技术介绍

1、掩模基板是在透明的石英基板上沉积有cr、mosi等功能材料的基板,可直接用来制备掩模。掩模基板上的缺陷会影响掩模性能,因此,掩模基板制造工艺中的缺陷控制尤为重要。

2、一般地,基板上的缺陷大多数是外来颗粒,为尽可能减少掩模基板的颗粒对掩模性能的影响,需要对掩模基板及用于制备掩模基板的石英基板进行颗粒检测以便进行颗粒去除操作确保缺陷达标。现有技术中普遍采用基于光学系统的颗粒检测机构对石英基板进行颗粒检测。然而,传统颗粒检测机构普遍采用线照明扫描方式进行颗粒检测,线扫描方式照射面积小,扫描过程耗费时间长,检测效率低,且线照明光源在待检测平面上形成的光斑均匀性差,造成颗粒检测准确性低,使得产品良率低,影响生产成本。

3、综上,传统颗粒检测机构存在检测效率低、检测准确性低,影响掩模基板的生产效率及生产成本的技术问题。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种颗粒检测装置及方法,以解决传统颗粒检测机构存在的检测效率低、检测准确性低,影响掩模基板的生产效率及生产成本的技术问题。

2、为实现上述目的,一方面,本专利技术提供一种颗粒检测装置,包括:光源、光束转换机构、数字微镜阵列、微透镜阵列、多个ccd和图像处理器,光源提供的入射光经光束转换机构转换为平行光束照射数字微镜阵列;数字微镜阵列具有多个可独立翻转的微镜,多个微镜并列排布,且多个微镜被配置为,相邻的微镜中,一个微镜朝向光源翻转,另一个微镜不朝向光源翻转,经过朝向光源翻转的微镜反射得到的反射光照射待检测的透光基板,经过不朝向光源翻转的微镜反射得到的反射光不照射透光基板;微透镜阵列用于接收透过透光基板的透射光,微透镜阵列的每个微透镜分别一对一地对应于各个微镜;每个ccd一对一地对应于微透镜,ccd用于接收透过对应的微透镜的透过光的光信号,图像处理器分别与多个ccd连接,图像处理器用于根据ccd接收到的光信号判断ccd的光分布是否发生变化以确定基板上是否有颗粒。

3、上述的颗粒检测装置通过光束转换机构将光源提供的入射光转换为平行光束,并通过平行光束照射数字微镜阵列(digital micromirror devices,dmd),照射到朝向光源翻转的微镜的光束经过朝向光源翻转的微镜反射后照射至待检测的透光基板,照射到不朝向光源翻转的微镜的光束被反射后不照射透光基板,对应的透光基板部分不被光照射。相应地,与朝向光源翻转的微镜位置对应的微透镜将接收到的透过透光基板的透射光聚焦于对应的ccd,ccd生成亮信号,与不朝向光源翻转的微镜对应的微透镜接收不到光信号,对应的ccd无光信号输入,ccd生成暗信号。从而,在透光基板上有颗粒时,与朝向光源翻转的微镜相对应的ccd检测出比亮信号相对较小的信号,而由于颗粒产生散射光,在相邻的与不朝向光源翻转的微镜对应的区域,散射光的传输不受入射光的干扰,对应的微透镜可以准确地将散射光聚焦于对应的ccd,对应的ccd可以检测出比暗信号相对较大的信号,因此,图像处理器可以快速准确地根据ccd的光分布判断出透光基板是否有颗粒。

4、上述的颗粒检测装置通过光束转换机构将光源提供的入射光转换为平行光束实现面状照射检测,检测光束照射面积大,能够有效节省扫描时间,可以快速检测大面积的基板,提高检测效率。并且,平行光束照射均匀性高,检测光束均匀照射数字微镜阵列,再通过数字微镜阵列排除入射光对颗粒产生的散射光的干扰,可以更快速准确地检测出透光基板(如石英基板)是否有颗粒。因此,上述的颗粒检测机构具有检测准确性高、检测效率高、可以快速检测大面积的基板,有助于提高掩模基板的生产效率,降低掩模基板的生产成本的有益效果。

5、在其中一个实施例中,所述光束转换机构包括:光束扩展器和聚焦系统,所述光束扩展器与所述光源相邻设置,所述聚焦系统设置在所述光束扩展器和所述数字微镜阵列之间。

6、在其中一个实施例中,所述光束转换机构还包括:光均质器,所述光均质器设置于所述光束扩展器和所述聚焦系统之间。

7、在其中一个实施例中,图像处理器对ccd接收到的光信号进行电算处理得到ccd的光分布值,并将ccd的光分布值与预存的标准光分布值进行比较,若ccd的光分布值与标准光分布值不同,则基板上存在颗粒。

8、在其中一个实施例中,图像处理器还用于获取ccd的光分布值与标准光分布值不同的ccd的排列信息以确定颗粒所在的位置。

9、另一方面,本专利技术提供一种颗粒检测方法,包括以下步骤:

10、提供入射光;

11、将入射光转换为平行光束;

12、平行光束照射数字微镜阵列,经过数字微镜阵列中朝向光源翻转的微镜反射的光照射待检测的透光基板;

13、微透镜阵列接收透过透光基板的透射光,并将接收到的光聚焦在ccd上;

14、图像处理器根据ccd接收到的光信号判断ccd的光分布是否发生变化以确定透光基板上是否有颗粒。

15、在其中一个实施例中,图像处理器根据ccd接收到的光信号判断ccd的光分布是否发生变化以确定透光基板上是否有颗粒的步骤包括:

16、图像处理器对ccd接收到的光信号进行电算处理得到ccd的光分布值;

17、将ccd的光分布值与预存的标准光分布值进行比较;

18、当ccd的光分布值与标准光分布值不同时,确定透光基板上存在颗粒。

19、在其中一个实施例中,当ccd的光分布值与标准光分布值不同时,确定透光基板上存在颗粒的步骤之后,还包括以下步骤:

20、图像处理器获取ccd的光分布值与标准光分布值不同的ccd的排列信息;

21、根据获取到的ccd的排列信息确定颗粒所在的位置。

22、在其中一个实施例中,图像处理器根据ccd接收到的光信号判断ccd的光分布是否发生变化以确定透光基板上是否有颗粒的步骤之后,还包括:

23、控制每个微镜翻转,使不朝向光源翻转的微镜朝向光源翻转,并使朝向光源翻转的微镜向不朝向光源的方向翻转;

24、重复执行提供入射光的步骤至图像处理器根据ccd接收到的光信号判断ccd的光分布是否发生变化以确定透光基板上是否有颗粒的步骤。

25、上述的颗粒检测方法通过采用上述的颗粒检测装置,具有检测效率高、检测准确性高,有助于提高掩模基板的生产效率,降低掩模基板的生产成本的有益效果。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种颗粒检测装置,其特征在于,包括:光源、光束转换机构、数字微镜阵列、微透镜阵列、多个CCD和图像处理器,所述光源提供的入射光经所述光束转换机构转换为平行光束照射所述数字微镜阵列;所述数字微镜阵列具有多个可独立翻转的微镜,多个所述微镜并列排布,且多个所述微镜被配置为,相邻的所述微镜中,一个所述微镜朝向所述光源翻转,另一个所述微镜不朝向所述光源翻转,经过朝向所述光源翻转的所述微镜反射得到的反射光照射待检测的透光基板,经过不朝向所述光源翻转的所述微镜反射得到的反射光不照射所述透光基板;所述微透镜阵列用于接收透过所述透光基板的透射光,所述微透镜阵列的每个微透镜分别一对一地对应于各个所述微镜;每个所述CCD一对一地对应于所述微透镜,所述CCD用于接收透过对应的所述微透镜的透过光的光信号,所述图像处理器分别与多个所述CCD连接,所述图像处理器用于根据所述CCD接收到的光信号判断所述CCD的光分布是否发生变化以确定所述基板上是否有颗粒。

2.根据权利要求1所述的颗粒检测装置,其特征在于,所述光束转换机构包括:光束扩展器和聚焦系统,所述光束扩展器与所述光源相邻设置,所述聚焦系统设置在所述光束扩展器和所述数字微镜阵列之间。

3.根据权利要求2所述的颗粒检测装置,其特征在于,所述光束转换机构还包括:光均质器,所述光均质器设置于所述光束扩展器和所述聚焦系统之间。

4.根据权利要求1所述的颗粒检测装置,其特征在于,所述图像处理器对所述CCD接收到的光信号进行电算处理得到所述CCD的光分布值,并将所述CCD的光分布值与预存的标准光分布值进行比较,若所述CCD的光分布值与所述标准光分布值不同,则所述基板上存在颗粒。

5.根据权利要求4所述的颗粒检测装置,其特征在于,所述图像处理器还用于获取所述CCD的光分布值与所述标准光分布值不同的所述CCD的排列信息以确定颗粒所在的位置。

6.一种颗粒检测方法,其特征在于,包括以下步骤:

7.根据权利要求6所述的颗粒检测方法,其特征在于,所述图像处理器根据所述CCD接收到的光信号判断所述CCD的光分布是否发生变化以确定所述透光基板上是否有颗粒的步骤包括:

8.根据权利要求7所述的颗粒检测方法,其特征在于,所述当所述CCD的光分布值与所述标准光分布值不同时,确定所述透光基板上存在颗粒的步骤之后,还包括以下步骤:

9.根据权利要求6所述的颗粒检测方法,其特征在于,所述图像处理器根据所述CCD接收到的光信号判断所述CCD的光分布是否发生变化以确定所述透光基板上是否有颗粒的步骤之后,还包括:

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【技术特征摘要】

1.一种颗粒检测装置,其特征在于,包括:光源、光束转换机构、数字微镜阵列、微透镜阵列、多个ccd和图像处理器,所述光源提供的入射光经所述光束转换机构转换为平行光束照射所述数字微镜阵列;所述数字微镜阵列具有多个可独立翻转的微镜,多个所述微镜并列排布,且多个所述微镜被配置为,相邻的所述微镜中,一个所述微镜朝向所述光源翻转,另一个所述微镜不朝向所述光源翻转,经过朝向所述光源翻转的所述微镜反射得到的反射光照射待检测的透光基板,经过不朝向所述光源翻转的所述微镜反射得到的反射光不照射所述透光基板;所述微透镜阵列用于接收透过所述透光基板的透射光,所述微透镜阵列的每个微透镜分别一对一地对应于各个所述微镜;每个所述ccd一对一地对应于所述微透镜,所述ccd用于接收透过对应的所述微透镜的透过光的光信号,所述图像处理器分别与多个所述ccd连接,所述图像处理器用于根据所述ccd接收到的光信号判断所述ccd的光分布是否发生变化以确定所述基板上是否有颗粒。

2.根据权利要求1所述的颗粒检测装置,其特征在于,所述光束转换机构包括:光束扩展器和聚焦系统,所述光束扩展器与所述光源相邻设置,所述聚焦系统设置在所述光束扩展器和所述数字微镜阵列之间。

3.根据权利要求2所述的颗粒检测装置,其特征在于,所述光束转换机...

【专利技术属性】
技术研发人员:车翰宣金钟洙王延红
申请(专利权)人:上海传芯半导体有限公司
类型:发明
国别省市:

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