平坦度检测装置及方法制造方法及图纸

一种平坦度检测装置及方法，该装置包括光源、光束扩展器、基准棱镜、承载台、聚焦透镜、检测器和处理器，光源提供的入射光经光束扩展器转换为平行光束照射至基准棱镜并透过基准棱镜照射至待检测的透明基板，经基准棱镜和透明基板反射分别得到第一反射光和第二反射光，第一反射光和第二反射光均通过聚焦透镜聚焦至检测器，检测器接收第一反射光和第二反射光生成的干涉图案信号，处理器根据干涉图案信号计算得到透明基板的平坦度，其中，透明基板放置在承载台上，承载台具有用于盛放浸没溶液的容置腔，透明基板的一侧表面浸没于浸没溶液中，浸没溶液的折射率大于空气的折射率。本发明专利技术结构简单、成本低廉、检测准确性高，可广泛应用于工业生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及检测，特别涉及一种利用光以非接触方式测量透明基板的平坦度的平坦度检测装置及方法。

技术介绍

1、掩模基板是在透明的石英基板上沉积有cr、mosi等功能材料的基板，可直接用来制备掩模。石英基板的缺陷会影响掩模性能，因此，掩模基板制造工艺中对石英基板进行平坦度、粗超度、厚度及颗粒等缺陷检测。

2、一般地，现有技术中普遍采用基于劈尖干涉原理的干涉仪对石英基板进行平坦度检测。然而，传统基于劈尖干涉原理的干涉仪存在石英基板上表面(正面)产生的干涉图案与下表面(背面)产生的干涉图案重叠，使得上下表面相互干扰，无法得到准确的上表面或下表面的平坦度，检测准确性低的技术问题。为了克服上述技术问题，开发了具备分析软件的干涉仪，通过特殊算法消除上下表面的干涉图案的重叠，但是，该种干涉仪价格昂贵，无法满足工业应用需求。

3、综上，急需提供一种既能够消除透明基板上下表面的干涉图案的重叠，又价格低廉的平坦度检测装置以满足工业生产需求。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种既能够消除透明基板本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种平坦度检测装置，其特征在于，包括：光源、光束扩展器、基准棱镜、承载台、聚焦透镜、检测器和处理器，所述光源提供的入射光经所述光束扩展器转换为平行光束照射至所述基准棱镜并透过所述基准棱镜照射至待检测的透明基板，经所述基准棱镜和所述透明基板反射分别得到第一反射光和第二反射光，所述第一反射光和所述第二反射光均通过所述聚焦透镜聚焦至所述检测器，所述检测器接收所述第一反射光和所述第二反射光生成的干涉图案信号，所述处理器根据所述干涉图案信号计算得到所述透明基板的平坦度，其中，所述透明基板放置在所述承载台上，所述承载台具有用于盛放浸没溶液的容置腔，所述透明基板的一侧表面浸没于所述浸没溶液中，所述...

【技术特征摘要】

1.一种平坦度检测装置，其特征在于，包括：光源、光束扩展器、基准棱镜、承载台、聚焦透镜、检测器和处理器，所述光源提供的入射光经所述光束扩展器转换为平行光束照射至所述基准棱镜并透过所述基准棱镜照射至待检测的透明基板，经所述基准棱镜和所述透明基板反射分别得到第一反射光和第二反射光，所述第一反射光和所述第二反射光均通过所述聚焦透镜聚焦至所述检测器，所述检测器接收所述第一反射光和所述第二反射光生成的干涉图案信号，所述处理器根据所述干涉图案信号计算得到所述透明基板的平坦度，其中，所述透明基板放置在所述承载台上，所述承载台具有用于盛放浸没溶液的容置腔，所述透明基板的一侧表面浸没于所述浸没溶液中，所述浸没溶液的折射率大于空气的折射率。

2.根据权利要求1所述的平坦度检测装置，其特征在于，所述浸没溶液的折射率不大于所述透明基板的折射率。

3.根据权利要求2所述的平坦度检测装置，其特征在于，所述浸没溶液的折射率不小于1.33，且所述浸没溶液的折射率不大于1.5。

4.根据权利要求3所述的平坦度检测装置，其特征在于，所述浸没溶液为透明溶液。

5.根据权利要求1-4任一项所述的平坦度检测装置，其特征在于，所述平坦度检测装置还包括：超声波发生器，所述超声波发生器浸没于所述浸没溶液中。

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【专利技术属性】
技术研发人员：车翰宣，金钟洙，董思远，
申请(专利权)人：上海传芯半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：