改进的喷嘴结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种改进的喷嘴结构，包含喷嘴本体，此喷嘴本体包括上部、颈部及贯孔，其中，上部呈漏斗状并向下朝内逐渐内缩，颈部接续在上部并由上部向下延伸，贯孔贯穿上部与颈部。此外，上部并包含顶面，此顶面朝向贯孔凸伸有复数个凸缘，每一凸缘之间并彼此间隔出一个流道，这些流道连通于贯孔。因此，可通过喷嘴本体具有漏斗状的结构设计达到大幅减少微粒堆积的目的，另可通过喷嘴本体具有凸缘及其间隔出的流道的结构设计达到分散气流的目的。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种改进的喷嘴结构，尤其涉及一种可大幅减少微粒堆积以及分 散气流的改进的喷嘴结构。
技术介绍
在半导体制程中，因制程需要而会将晶圆片容置在晶圆盒内，之后利用喷嘴装 置填充例如氮气的气体至晶圆盒内，以避免晶圆盒内所容置的晶圆片受到氧化及微粒 (particle)污染。举例而言，在45纳米制程下，晶粒(die)与晶粒之间的间隔更小，故对在 大幅减少微粒堆积污染的要求也越来越严格。请参照图1，其为公知喷嘴结构的喷嘴本体的立体图，在图式中显示有公知喷嘴结 构的喷嘴本体9，其断面是呈锥状，且贯设有气孔91。请参照图2，其为组装图1所示喷嘴本体的喷嘴装置的剖面图。在图式中显示有用 来组装图1的喷嘴本体9的喷嘴装置8，且此喷嘴装置8做为填充气体(例如氮气)至晶圆 盒(图未示)内之用，气体流向如箭号所示。由图2可知，公知喷嘴结构的喷嘴本体9因呈锥状故在夹角区域92容易堆积微 粒，换言之，公知喷嘴结构的喷嘴本体9会因结构上的限制而不易排除内积的微粒，故利用 喷嘴装置8填充气体至晶圆盒内时，前述所堆积的微粒即容易跟着气流进入晶圆盒内而造 成晶圆片受到污染，实非十分理想。因此，如何创作出一种改本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种改进的喷嘴结构，其特征在于，包含喷嘴本体，该喷嘴本体包括上部、颈部及贯孔，该上部呈漏斗状并向下朝内逐渐内缩，该颈部接续于该上部并由该上部向下延伸，该贯孔贯穿该上部与该颈部，该上部并包含顶面，该顶面朝向该贯孔凸伸有复数个凸缘，每一凸缘之间并彼此间隔出一流道，这些流道连通于该贯孔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴俊龙，
申请(专利权)人：华景电通股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]