【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于热镀锌，尤其是涉及一种阵列式处理装置、热镀锌装置及处理方法。
技术介绍
1、脚手架钢管长度达2.5米，重量较大，目前针对脚手架钢管的热镀锌工艺是通过人工将多个钢管连接在一起，利用钩子将多个钢管垂直吊起，此时多个钢管自上而下间隔排布，钩子位于顶部，将钢管移动输送进入处理池，完成镀锌后再将多个钢管垂直吊出，最后利用人工将连在一起的多个钢管拆解成单个钢管。整个过程需要耗费大量的人工，人工成本高，而且钢管在连接和拆解过程势必会影响其热镀锌效果，最终成品的瑕疵较多，镀层均匀性不佳。
技术实现思路
1、为了克服现有技术的不足，本专利技术提供一种可以一次性完成多个脚手架钢管的处理，处理后的镀层均匀，人工成本降低的阵列式处理装置、热镀锌装置及处理方法。
2、本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种阵列式处理装置，包括：
3、上料机构，阵列式码放有多个工件以形成阵列单元；
4、左夹持组件和右夹持组件，分别设有多个限位部，以在阵列单元的轴向两端对多个工件单独限位夹持；
5、纵向升降机构，至少包括第一升降轴和第二升降轴，所述左夹持组件可沿第一升降轴上下移动，所述右夹持组件可沿第二升降轴上下移动；
6、横向移动机构，与纵向升降机构相连，可带动纵向升降机构及左夹持组件、右夹持组件在处理池上方移动；所述第一升降轴和第二升降轴沿横向移动机构移动靠近或远离，以实现左夹持组件和右夹持组件对阵列单元的夹持或放松。
7、进一步
8、进一步的，所述阵列单元的工作位在阵列单元进入处理池的过程中，或在脱离处理池的过程中，或在进出处理池的过程中。
9、进一步的，所述左夹持组件或/和右夹持组件沿第一升降轴或/和第二升降轴上下移动，以使得所述阵列单元整体倾斜。
10、进一步的，所述左夹持组件或/和右夹持组件沿第一升降轴或/和第二升降轴上下移动，叠加第一升降轴或/和第二升降轴沿横向移动机构移动靠近，以使得所述阵列单元整体倾斜。
11、进一步的，所述左夹持组件包括可沿第一升降轴上下移动的左基座，连接于左基座的左承载件，及左夹持件，所述左承载件横向插入左夹持件。
12、进一步的，所述左夹持件的高度方向设有至少两个插口，该插口包括上下相连通的上插孔和下插孔，该上插孔的内径等于左承载件的外径，该下插孔的内径大于等于左承载件的外径。
13、进一步的，所述左承载件的数量为两个，其上下平行设置。
14、进一步的，所述限位部包括单独对工件进行限位的限位孔，及设于限位孔端部的防脱部。
15、进一步的，所述限位孔和防脱部镂空设置。
16、进一步的，还包括壳体，其包括上料口和下料口，所述横向移动机构的数量为至少两个，其分别自上料口和下料口向内移动。
17、进一步的，所述壳体顶部延伸有滑轨，所述横向移动机构沿该滑轨平移。
18、进一步的，所述处理池为镀锌池，或为酸洗池。
19、本专利技术又公开了一种热镀锌装置，包括壳体，位于壳体内的镀锌池，及所述阵列式处理装置。
20、本专利技术还公开了一种阵列式处理装置的处理方法，包括以下步骤：
21、多个工件阵列式码放形成阵列单元；
22、左夹持组件和右夹持组件分别移动靠近阵列单元的轴向两端，将阵列单元的多个工件单独限位夹持；
23、左夹持组件和右夹持组件带着阵列单元整体移动靠近处理池，并进入处理池；
24、完成处理后，左夹持组件和右夹持组件带着阵列单元整体移动脱离处理池。
25、进一步的，所述左夹持组件和右夹持组件带着阵列单元整体移动靠近处理池，并进入处理池步骤中，所述左夹持组件和右夹持组件处于不同水平高度，阵列单元倾斜进入处理池。
26、进一步的，所述完成处理后，左夹持组件和右夹持组件带着阵列单元整体移动脱离处理池步骤中，所述左夹持组件和右夹持组件处于不同水平高度，阵列单元倾斜脱离处理池，且倾斜方向与阵列单元进入处理池的倾斜方向相反。
27、进一步的，所述左夹持组件和右夹持组件带着阵列单元整体移动靠近处理池，并进入处理池步骤中，通过横向移动机构实现整体移动。
28、进一步的，所述横向移动机构包括靠近上料口设置的第一横向移动机构，及靠近下料口设置的第二横向移动机构；第二横向移动机构自下料口移动靠近第一横向移动机构，将至少部分左夹持组件和右夹持组件及阵列单元转移后，传输至下料口。
29、进一步的，所述第二横向移动机构上的第二左承载件、第二右承载件插入第一横向移动机构的第一左夹持件和第一右夹持件，以实现第一左夹持件、第一右夹持件和阵列单元的转移。
30、进一步的，所述第二横向移动机构上带有空置的第二左夹持组件和第二右夹持组件。
31、本专利技术的有益效果是，1)一次性可以进行阵列式摆放的多个工件的处理，处理效率高，且无需人工将多个工件依次连接，降低了人工成本；2)利用左夹持组件和右夹持组件对阵列单元轴向两端进行夹持，夹持稳固，且阵列单元的相邻工件之间不会接触；3)利用左夹持组件、右夹持组件、纵向升降机构和横向移动机构的配合，可以实现阵列单元的倾斜进出处理池，使得处理后的镀层更加均匀，且处理液不会积聚在工件内；4)不仅可以应用在热镀锌处理工艺，也可以应用在酸洗等处理工艺；5)阵列单元的多个工件处理效果一致；6)无需将多个工件依次连接，节约了连接的钢丝，同时节约了附着在钢丝上的镀锌液。
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1.一种阵列式处理装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述阵列单元(2)具有整体倾斜的工作位。
3.根据权利要求2所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述阵列单元(2)的工作位在阵列单元(2)进入处理池(8)的过程中，或在脱离处理池(8)的过程中，或在进出处理池(8)的过程中。
4.根据权利要求1或2所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述左夹持组件(31)或/和右夹持组件(32)沿第一升降轴(51)或/和第二升降轴(52)上下移动，以使得所述阵列单元(2)整体倾斜。
5.根据权利要求1或2所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述左夹持组件(31)或/和右夹持组件(32)沿第一升降轴(51)或/和第二升降轴(52)上下移动，叠加第一升降轴(51)或/和第二升降轴(52)沿横向移动机构(6)移动靠近，以使得所述阵列单元(2)整体倾斜。
6.根据权利要求1所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述左夹持组件(31)包括可沿第一升降轴(51)上下移动的左基座(311)，连接于左基座(311)的左
7.根据权利要求6所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述左夹持件(313)的高度方向设有至少两个插口(314)，该插口(314)包括上下相连通的上插孔(316)和下插孔(315)，该上插孔(316)的内径等于左承载件(312)的外径，该下插孔(315)的内径大于等于左承载件(312)的外径。
8.根据权利要求6所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述左承载件(312)的数量为两个，其上下平行设置。
9.根据权利要求1所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述限位部(4)包括单独对工件(21)进行限位的限位孔(41)，及设于限位孔(41)端部的防脱部(42)。
10.根据权利要求9所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述限位孔(41)和防脱部(42)镂空设置。
11.根据权利要求1所述的阵列式处理装置，其特征在于：还包括壳体(7)，其包括上料口(71)和下料口(72)，所述横向移动机构(6)的数量为至少两个，其分别自上料口(71)和下料口(72)向内移动。
12.根据权利要求11所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述壳体(7)顶部延伸有滑轨(73)，所述横向移动机构(6)沿该滑轨(73)平移。
13.根据权利要求1所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述处理池(8)为镀锌池，或为酸洗池。
14.一种热镀锌装置，其特征在于：包括壳体，位于壳体内的镀锌池，及如权利要求1-13中任一项所述的阵列式处理装置。
15.一种阵列式处理装置的处理方法，其特征在于，包括以下步骤：
16.根据权利要求15所述的处理方法，其特征在于：所述左夹持组件(31)和右夹持组件(32)带着阵列单元(2)整体移动靠近处理池(8)，并进入处理池(8)步骤中，所述左夹持组件(31)和右夹持组件(32)处于不同水平高度，阵列单元(2)倾斜进入处理池(8)。
17.根据权利要求16所述的处理方法，其特征在于：所述完成处理后，左夹持组件(31)和右夹持组件(32)带着阵列单元(2)整体移动脱离处理池(8)步骤中，所述左夹持组件(31)和右夹持组件(32)处于不同水平高度，阵列单元(2)倾斜脱离处理池(8)，且倾斜方向与阵列单元(2)进入处理池(8)的倾斜方向相反。
18.根据权利要求16所述的处理方法，其特征在于：所述左夹持组件(31)和右夹持组件(32)带着阵列单元(2)整体移动靠近处理池(8)，并进入处理池(8)步骤中，通过横向移动机构实现整体移动。
19.根据权利要求18所述的处理方法，其特征在于：所述横向移动机构包括靠近上料口(71)设置的第一横向移动机构，及靠近下料口(72)设置的第二横向移动机构；第二横向移动机构自下料口(72)移动靠近第一横向移动机构，将至少部分左夹持组件(31)和右夹持组件(32)及阵列单元(2)转移后，传输至下料口(72)。
20.根据权利要求19所述的处理方法，其特征在于：所述第二横向移动机构上的第二左承载件、第二右承载件插入第一横向移动机构的第一左夹持件和第一右夹持件，以实现第一左夹持件、第一右夹持件和阵列单元的转移。
21.根据权利要求19所述的处理方法，其特征在于：所述第二横向移动机构上带有空置的第二左夹持组件和第二右夹持组件。
...【技术特征摘要】
1.一种阵列式处理装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述阵列单元(2)具有整体倾斜的工作位。
3.根据权利要求2所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述阵列单元(2)的工作位在阵列单元(2)进入处理池(8)的过程中，或在脱离处理池(8)的过程中，或在进出处理池(8)的过程中。
4.根据权利要求1或2所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述左夹持组件(31)或/和右夹持组件(32)沿第一升降轴(51)或/和第二升降轴(52)上下移动，以使得所述阵列单元(2)整体倾斜。
5.根据权利要求1或2所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述左夹持组件(31)或/和右夹持组件(32)沿第一升降轴(51)或/和第二升降轴(52)上下移动，叠加第一升降轴(51)或/和第二升降轴(52)沿横向移动机构(6)移动靠近，以使得所述阵列单元(2)整体倾斜。
6.根据权利要求1所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述左夹持组件(31)包括可沿第一升降轴(51)上下移动的左基座(311)，连接于左基座(311)的左承载件(312)，及左夹持件(313)，所述左承载件(312)横向插入左夹持件(313)。
7.根据权利要求6所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述左夹持件(313)的高度方向设有至少两个插口(314)，该插口(314)包括上下相连通的上插孔(316)和下插孔(315)，该上插孔(316)的内径等于左承载件(312)的外径，该下插孔(315)的内径大于等于左承载件(312)的外径。
8.根据权利要求6所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述左承载件(312)的数量为两个，其上下平行设置。
9.根据权利要求1所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述限位部(4)包括单独对工件(21)进行限位的限位孔(41)，及设于限位孔(41)端部的防脱部(42)。
10.根据权利要求9所述的阵列式处理装置，其特征在于：所述限位孔(41)和防脱部(42)镂空设置。
11.根据权利要求1所述的阵列式处理装置，其特征在于：还包括壳体(7)，其包括上料口(71)和下料口(72)，所述横向移动机构(6)的数量为至少两个，其分别自上...
【专利技术属性】
技术研发人员：陆军明，陆静文，陆靖康，
申请(专利权)人：嘉兴宝利机械股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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