【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体新材料制备领域，尤其涉及一种半导体新材料制备用小尺寸反应釜。
技术介绍
1、在当今的科技领域，半导体新材料的研究与开发已经成为一项至关重要的工作。半导体新材料指的是具有优异电学性能的新型半导体材料，例如二维半导体、拓扑半导体、低维纳米半导体等。这些新型半导体材料因其独特的物理属性和潜在的应用价值，在电子、光电子、信息储存、能源转换和生物医学等多个领域都显示出广泛的应用前景。
2、制备半导体新材料通常需要使用各种设备，而反应釜是其中的一种关键设备。反应釜是一种用于实施化学反应的设备。它在化学、制药、化工等多个领域都有广泛的应用。在新型半导体材料的制备过程中，反应釜提供了一个受控的环境，使得制备人员可以在特定的温度、压力和其他条件下，进行材料的合成和反应。
3、使用小尺寸反应釜制备半导体新材料具有许多优点。首先，小尺寸反应釜可以提供更精细的控制，对于需要精确控制反应条件的实验，小尺寸反应釜能提供更稳定、更精确的反应环境；其次，小尺寸反应釜使用的原料较少，可以降低材料制备的成本。
4、然而，使用小尺寸反应釜制备半导体新材料后，需要对反应釜进行彻底的清洗，以确保下一次反应的纯度和精度。传统的清洗方式主要是手动物理清洗，包括使用刷子、布料等工具进行擦拭和刷洗。这种方式虽然简便易行，但是对于小尺寸反应釜来说，效率却不够理想。因为反应釜的内部空间较小且结构复杂，使得手动清洗过程非常耗时，大大降低了清洗效率。
技术实现思路
1、针对现有技术的
2、为实现上述目的，本专利技术提供了如下技术方案：
3、一种半导体新材料制备用小尺寸反应釜，包括釜体，所述釜体的顶部可拆卸连接有釜盖，所述釜盖的顶部设有用于搅拌原料的搅拌件，所述搅拌件延伸至所述釜体内；所述釜体的内侧壁设有若干用于清洗所述釜体内侧壁的清洗件，所述釜体的侧壁还设有若干用于驱动所述清洗件转动的第一驱动件，所述第一驱动件通过驱动所述清洗件转动清洗所述釜体的内侧壁。
4、采用上述技术方案，当使用小尺寸反应釜制备完半导体新材料后，往釜体中加入一定量的水，然后驱动第一驱动件，第一驱动件驱动清洗件转动，使得清洗件清洗釜体的内侧壁，通过第一驱动件以及清洗件的设置，利用机械清洗反应釜的内侧壁，有利于减少人工物理清洗反应釜的情况，减少了人工物理清洗的需求，减少了清洗釜体内侧壁的时间，从而提高了清洗效率；同时，当制备完半导体新材料后，驱动第一驱动件就能在反应完成后即刻对反应釜的内侧壁进行清洗，避免了反应物长时间附着在反应釜内壁，导致难以清除的问题，也减少了可能影响下一步反应的杂质残留。
5、优选的，所述清洗件包括设于所述釜体内侧壁的若干清洗管，所述清洗管的一端与第一驱动件转动连接，所述清洗管远离第一驱动件的一端突出有若干气囊，所述气囊呈长条状，且所述气囊在充气状态下贴于所述釜体的内侧壁设置，所述气囊的外侧壁突出有若干用于洗刷所述釜体内侧壁的刷毛。
6、采用上述技术方案，当使用小尺寸反应釜制备完半导体新材料后，往釜体内加入一定量的水，然后往气囊中冲入气体，使得气囊充满气体，然后驱动第一驱动件，第一驱动件带动清洗管转动，清洗管带动气囊转动，气囊带动刷毛洗刷反应釜的内侧壁，通过上述的设置，有利于解决反应釜内侧壁清洗的问题，降低了人工清洗需求，提高了清洗效率；同时，气囊的膨胀与收缩也可以实现对釜壁表面的轻微刮擦，有助于去除釜壁上的顽固污渍；另外，刷毛可以更深入地清洗釜壁表面，尤其是对于粘性大或者具有一定结晶性的物质，刷毛可以更有效地将其清除，减少反应物残留，影响下一步反应。
7、优选的，所述清洗管设有用于驱动气囊突出于所述清洗管外或收缩于所述清洗管内的第二驱动件。
8、采用上述技术方案，通过第二驱动件的设置，当小尺寸反应釜的内部需要清洗时，通过驱动第二驱动件，使得气囊突出于清洗管外，然后驱动第一驱动件，使得清洗管带动气囊转动，从而带动刷毛清洗釜体的内侧壁，有利于减少人工清洗釜体内侧壁的情况，从而有利于加快清洗釜体的速度；同时，在清洗完成后，通过第二驱动件的驱动将气囊收缩回清洗管内，气囊在清洗完成后不会长时间接触到反应釜的内侧壁，避免了气囊因长时间接触反应物而受到的可能的破损或腐蚀，从而提高了清洗件的使用寿命；另外在小尺寸反应釜工作的过程中，气囊都能置于清洗管内，减少了清洁件影响反应釜反应的情况；此外，第二驱动件的设置，使得清洗过程可以更加精确地控制，可以根据清洗的需要选择气囊的突出程度，实现对反应釜内侧壁的局部或全面清洗，为反应釜的清洗提供了更高的清洗灵活性，减少不必要的清洗过程，节约了清洗资源。
9、优选的，所述第二驱动件包括设于釜体外的气泵以及与气泵连通的连接管，所述连接管围设于所述清洗管的外侧壁，所述清洗管贯穿所述连接管的两端，所述连接管与所述清洗管转动连接，所述清洗管置于所述连接管内的侧壁开有若干与所述连接管连通的连接孔。
10、采用上述技术方案，当需要清洗小尺寸反应釜的内壁时，驱动气泵通过连接管往连接管通入气体，连接管内的气体通过连接孔进入清洗管内，从而带动清洗管内的气囊突出于清洗管外，接着驱动第一驱动件，第一驱动件驱动清洗管转动，从而清洗釜体的内侧壁，通过第二驱动件的设置，使得能气泵以及连接管能为清洗管供气的同时，也不影响清洗管的转动，有利于减少当连接管直接与清洗管连通，且连接管转动时，连接管缠绕清洗管的外侧壁，导致清洗管不容易转动或者扯断连接管的情况，有利于保证清洗管能顺利地转动，也有利于保护连接管。
11、优选的，述釜体的内侧壁凹陷有供所述连接管滑动连接的滑动槽，所述滑动槽的槽口设有用于开闭所述滑动槽槽口的盖板，所述清洗管靠近所述第一驱动件的一端连接有伸缩杆，所述伸缩杆远离所述清洗管的一端与所述第一驱动件转动连接，当所述连接管远离槽口的一侧与所述滑动槽的槽底抵接时，所述清洗管完全置于滑动槽内。
12、采用上述技术方案，当小尺寸反应釜需要工作时，驱动连接管朝远离滑动槽槽口的方向移动，连接管带动清洗管完全置于滑动槽内，然后通过盖板的闭合，将清洗件置于滑动槽内，为半导体新材料的制备提供更大的反应空间，减少对反应过程的影响，降低反应过程受到的限制，从而提高反应效率；同时，清洗件可以在反应过程中被收回至滑动槽内，并且通过盖板闭合滑动槽的槽口，减少了反应釜进行反应时，反应过程对清洗件产生的不必要的磨损的情况，有利于延长清洗设备和反应釜的使用寿命。
13、优选的，所述釜体的侧壁还设有用于联动所述连接管随所述搅拌件转动而同步驱动所述连接管朝所述釜体中轴线的方向运动的联动件。
14、采用上述技术方案，当需要清洗釜体的内侧壁时，驱动搅拌件转动，使得搅拌件带动联动件运动，联动件带动连接管朝远离滑动槽槽底的方向运动，使得连接管带动清洗管突本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种半导体新材料制备用小尺寸反应釜，包括釜体(1)，其特征在于：所述釜体(1)的顶部可拆卸连接有釜盖(2)，所述釜盖(2)的顶部设有用于搅拌原料的搅拌件(3)，所述搅拌件(3)延伸至所述釜体(1)内；所述釜体(1)的内侧壁设有若干用于清洗所述釜体(1)内侧壁的清洗件(4)，所述釜体(1)的侧壁还设有若干用于驱动所述清洗件(4)转动的第一驱动件(12)，所述第一驱动件(12)通过驱动所述清洗件(4)转动清洗所述釜体(1)的内侧壁；
2.根据权利要求1所述的一种半导体新材料制备用小尺寸反应釜，其特征在于：所述釜体(1)的侧壁还设有用于联动所述连接管(51)随所述搅拌件(3)转动而同步驱动所述连接管(51)朝所述釜体(1)中轴线的方向运动的联动件。
3.根据权利要求2所述的一种半导体新材料制备用小尺寸反应釜，其特征在于：所述联动件包括突出于所述盖板(15)远离所述滑动槽(13)的一侧的联动板，所述盖板(15)设有用于始终驱动所述盖板(15)朝所述滑动槽(13)底部的方向转动的第一弹性件，所述连接管(51)的外侧壁设有用于始终驱动所述连接管(51)朝远离所述滑
4.根据权利要求3所述的一种半导体新材料制备用小尺寸反应釜，其特征在于：所述清洗管(41)远离所述第一驱动件(12)的一端的侧壁开有若干用于供所述气囊(42)突出于所述清洗管(41)外或收缩至所述清洗管(41)内的活动孔(45)，所述活动孔(45)倾斜朝向所述伸缩杆(44)。
...【技术特征摘要】
1.一种半导体新材料制备用小尺寸反应釜，包括釜体(1)，其特征在于：所述釜体(1)的顶部可拆卸连接有釜盖(2)，所述釜盖(2)的顶部设有用于搅拌原料的搅拌件(3)，所述搅拌件(3)延伸至所述釜体(1)内；所述釜体(1)的内侧壁设有若干用于清洗所述釜体(1)内侧壁的清洗件(4)，所述釜体(1)的侧壁还设有若干用于驱动所述清洗件(4)转动的第一驱动件(12)，所述第一驱动件(12)通过驱动所述清洗件(4)转动清洗所述釜体(1)的内侧壁；
2.根据权利要求1所述的一种半导体新材料制备用小尺寸反应釜，其特征在于：所述釜体(1)的侧壁还设有用于联动所述连接管(51)随所述搅拌件(3)转动而同步驱动所述连接管(51)朝所述釜体(1)中轴线的方向运动的联动件。
3.根据权利要求2所述的一种半导体新材料制备用小尺寸反应釜，其特征在于：所述联动件包括突出于所述盖板(15)远离所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴国辉，黄飞鸿，高运华，黄飞雁，兰应飞，冼景业，杨林生，
申请(专利权)人：广东林工工业装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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