湿法刻蚀设备制造技术

技术编号:40234598 阅读:7 留言:0更新日期:2024-02-02 22:35
本技术提供了一种湿法刻蚀设备,包括:机台本体、酸槽体、槽盖、照明装置、透光隔板、光敏传感器、温度传感器及冷却回路。机台本体内部具有一中空舱室,舱室的顶部为敞口,酸槽体内部中空且顶部为敞口,酸槽体设置于舱室内,槽盖安装于酸槽体的敞口处,槽盖的底部形成有一灯槽。照明装置安装于灯槽内,以对酸槽体内部进行照明,透光隔板封盖于槽盖的灯槽处。光敏传感器和温度传感器安装于灯槽内,冷却回路形成于灯槽内。本发明专利技术的照明装置能够参与到制程中,以催化产品在刻蚀液中的反应,从而实现对制程良率的有效提升。另外,根据监测到的光照强度,可实时调整照明装置的光照强度。温度传感器实时监测灯槽内监测温度,以调控冷却速率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体制造,尤其涉及一种湿法刻蚀设备


技术介绍

1、在半导体制造中,湿法刻蚀是一种通过将半导体器件暴露在含有特定化学溶液的湿润环境中,以去除材料表面的一层薄膜或结构的过程。

2、在湿法刻蚀工艺中,随着刻蚀液的使用时间增加,刻蚀速率会降低,光照可以催化产品金属硅化层在刻蚀液中的反应,以补偿因刻蚀液使用时间增加而导致的刻蚀速率降低的问题。

3、参见图1,现有技术中因受湿法刻蚀机台110内风机过滤装置120的影响,照明灯130只能安装在机台110的内侧,且因酸槽盖板140为非透明材质,酸槽盖板140和机械手臂150会遮挡大部分射入酸槽160的光线,对酸槽160的光照非常有限,因照明灯130仅起到照明作用,如果采取拆除或打开酸槽盖板140的方法改善酸槽160照明,则会造成酸气泄漏及酸槽160内增加颗粒污染(particle,pac)。

4、有鉴于此,有必要提出一种新的湿法刻蚀设备以解决上述问题。


技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种湿法刻蚀设备,用以解决现有的湿法刻蚀机台内的照明装置无法参与到制程中的问题。

2、本技术提供了一种湿法刻蚀设备,该湿法刻蚀设备包括:机台本体、酸槽体、槽盖以及照明装置;所述机台本体内部具有一中空舱室,所述舱室的顶部为敞口;所述酸槽体内部中空且顶部为敞口,所述酸槽体设置于所述舱室内;所述槽盖安装于所述酸槽体的敞口处;所述照明装置安装于所述槽盖的底部,以对所述酸槽内部进行照明。

3、本技术提供的湿法刻蚀设备的有益效果在于:在所述酸槽体的槽盖底部安装照明装置,可直接对所述酸槽体内部进行照明,以使该照明装置能够参与到制程中,以催化产品在刻蚀液中的反应,从而实现对制程良率的有效提升。

4、在一种可能的实施例中,所述槽盖的底部形成有一灯槽,所述照明装置安装于所述灯槽内,所述槽盖的灯槽处封盖有透光隔板。其有益效果在于:通过设置灯槽将所述照明装置嵌设于所述槽盖的底部内,不占用槽盖表面的空间,从而使所述照明装置巧妙地集成于所述槽盖内,利用所述透光隔板进行封盖,以起到对所述照明装置的保护作用。

5、在一种可能的实施例中,该湿法刻蚀设备还包括安装于所述灯槽内的光敏传感器,所述光敏传感器用于实时监测所述照明装置的光照强度;和/或,还包括安装于所述灯槽内的温度传感器,所述温度传感器用于实时监测所述灯槽内的温度。其有益效果在于:根据所述光敏传感器监测得到所述酸槽体内部的照明情况,通过调节所述照明装置的光照强度,可调整刻蚀速率,以满足特定的制程要求。通过监测所述灯槽内的温度以控制调节所述冷却气体的通入量,从而调节冷却速率。

6、在一种可能的实施例中,所述灯槽内形成有冷却回路,所述冷却回路内通入有冷却气体,以实现对所述照明装置的降温。其有益效果在于:利用所述冷却回路内的冷却气体对所述照明装置降温,以避免所述酸槽体内的环境温度升高而影响刻蚀效果。

7、在一种可能的实施例中,所述槽盖的两端分别设有与所述灯槽连通的进气口和出气口,所述灯槽相对两侧壁上分别设置有一排透明挡板,两排所述透明挡板相错开设置且所述透明挡板间部分重合,以在所述灯槽内分隔形成迂回状的所述冷却回路。其有益效果在于:透明挡板不会影响所述灯槽内的透光性,通过设计迂回状的所述冷却回路,以延长所述冷却气体在灯槽内的停留时间,从而增强冷却效果。

8、在一种可能的实施例中,所述照明装置包括若干个灯体,相邻两个所述透明挡板之间设置一所述灯体。其有益效果在于:在所述透明挡板间均设置所述灯体以确保整个所述冷却回路内具有充足的光照强度。

9、在一种可能的实施例中,所述槽盖的一侧设有旋转轴,所述槽盖通过所述旋转轴可转动地安装于所述酸槽体的顶部,所述槽盖驱动连接有驱动机构,所述驱动机构驱动所述槽盖转动以打开或关闭所述槽盖。其有益效果在于:通过所述驱动机构自动化控制所述槽盖的打开和关闭。

10、在一种可能的实施例中,所述旋转轴的两端部内分别贯穿地设有穿线孔,所述穿线孔的一端与所述冷却回路连通,另一端安装有密封管路,所述密封管路远离所述穿线孔的一端安装于所述舱室的侧壁。

11、在一种可能的实施例中,所述密封管路和所述穿线孔内穿置有导线和供输送所述冷却气体的导气管路,所述导气管路与所述冷却回路连通。其有益效果在于:通过连接在所述旋转轴和所述舱室侧壁之间的所述密封管路,以便于布置导气管路和各器件的线路,确保走线的整洁性和密封性。

12、在一种可能的实施例中,所述密封管路的一端通过第一密封接头安装于所述旋转轴的端部并与所述穿线孔密封连接;所述密封管路的另一端通过第二密封接头安装于所述舱室的侧壁。有益效果在于:所述第一密封接头和所述第二密封接头以对所述密封管路两端的连接处起到密封固定作用。

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【技术保护点】

1.一种湿法刻蚀设备,其特征在于,包括:机台本体、酸槽体、槽盖以及照明装置;

2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述槽盖的底部形成有一灯槽,所述照明装置安装于所述灯槽内,所述槽盖的灯槽处封盖有透光隔板。

3.根据权利要求2所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,还包括安装于所述灯槽内的光敏传感器,所述光敏传感器用于实时监测所述照明装置的光照强度;和/或,还包括安装于所述灯槽内的温度传感器,所述温度传感器用于实时监测所述灯槽内的温度。

4.根据权利要求2所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述灯槽内形成有冷却回路,所述冷却回路内通入有冷却气体,以实现对所述照明装置的降温。

5.根据权利要求4所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述槽盖的两端分别设有与所述灯槽连通的进气口和出气口,所述灯槽相对两侧壁上分别设置有一排透明挡板,两排所述透明挡板相错开设置且所述透明挡板间部分重合,以在所述灯槽内分隔形成迂回状的所述冷却回路。

6.根据权利要求5所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述照明装置包括若干个灯体,相邻两个所述透明挡板之间设置一所述灯体。

7.根据权利要求4所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述槽盖的一侧设有旋转轴,所述槽盖通过所述旋转轴可转动地安装于所述酸槽体的顶部,所述槽盖连接有驱动机构,所述驱动机构驱动所述槽盖转动以打开或关闭所述槽盖。

8.根据权利要求7所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述旋转轴的两端部内分别贯穿地设有穿线孔,所述穿线孔的一端与所述冷却回路连通,另一端安装有密封管路,所述密封管路远离所述穿线孔的一端安装于所述舱室的侧壁。

9.根据权利要求8所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述密封管路和所述穿线孔内穿置有导线和供输送所述冷却气体的导气管路,所述导气管路与所述冷却回路连通。

10.根据权利要求9所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述密封管路的一端通过第一密封接头安装于所述旋转轴的端部并与所述穿线孔密封连接;

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【技术特征摘要】

1.一种湿法刻蚀设备,其特征在于,包括:机台本体、酸槽体、槽盖以及照明装置;

2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述槽盖的底部形成有一灯槽,所述照明装置安装于所述灯槽内,所述槽盖的灯槽处封盖有透光隔板。

3.根据权利要求2所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,还包括安装于所述灯槽内的光敏传感器,所述光敏传感器用于实时监测所述照明装置的光照强度;和/或,还包括安装于所述灯槽内的温度传感器,所述温度传感器用于实时监测所述灯槽内的温度。

4.根据权利要求2所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述灯槽内形成有冷却回路,所述冷却回路内通入有冷却气体,以实现对所述照明装置的降温。

5.根据权利要求4所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述槽盖的两端分别设有与所述灯槽连通的进气口和出气口,所述灯槽相对两侧壁上分别设置有一排透明挡板,两排所述透明挡板相错开设置且所述透明挡板间部分重合,以在所述灯槽内分隔形成迂回状的所述冷却回路。<...

【专利技术属性】
技术研发人员:干怀渝迟世兴赵嘉杜清龙
申请(专利权)人:芯恩青岛集成电路有限公司
类型:新型
国别省市:

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