【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体设备，尤其涉及一种控温装置。
技术介绍
1、目前有些光刻机的机台只能监测纯氮气(pn2)和腔体的温度参数，光刻机的作业条件对温度的要求很高，要求温度精确到小数点后三位数，如果温度不稳定，则所做的恢复实验(recover test)结果不准确，因此，当机台因为某些原因需要做改变或者宕机再启动机器之后，需要很长时间来等待机台温度的稳定。
2、目前光刻机机台的纯氮气(pn2)由厂务直供，并没有温控系统，简单依靠氮气来带动整体温度的改变，这样会花费较多的时间。
3、因此，有必要提供一种新型的控温装置以解决现有技术中存在的上述问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种控温装置，实现对氮气管路中氮气的温度调节。
2、为实现上述目的，本技术的所述光刻机用控温装置，与光刻机内部温度检测系统协同作用，包括：
3、氮气管路，连通至光刻机内部；以及
4、控温单元，与所述氮气管路连接，用于获取氮气管路的温度，并对所述氮气管路进行温
【技术保护点】
1.一种控温装置，与光刻机内部温度检测系统协同作用，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的控温装置，其特征在于，所述控温单元包括开关单元和控温管路，所述控温管路与镜头冷却水管路连通，用于对所述氮气管路进行温度调节，所述开关单元设置于所述控温管路上，用于调节所述控温管路中镜头冷却水的流量。
3.根据权利要求2所述的控温装置，其特征在于，所述控温管路包括控温部管路，所述控温部管路与所述氮气管路并列设置。
4.根据权利要求2所述的控温装置，其特征在于，所述控温管路包括控温部管路，所述控温部管路缠绕于所述氮气管路外。
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【技术特征摘要】
1.一种控温装置，与光刻机内部温度检测系统协同作用，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的控温装置，其特征在于，所述控温单元包括开关单元和控温管路，所述控温管路与镜头冷却水管路连通，用于对所述氮气管路进行温度调节，所述开关单元设置于所述控温管路上，用于调节所述控温管路中镜头冷却水的流量。
3.根据权利要求2所述的控温装置，其特征在于，所述控温管路包括控温部管路，所述控温部管路与所述氮气管路并列设置。
4.根据权利要求2所述的控温装置，其特征在于，所述控温管路包括控温部管路，所述控温部管路缠绕于所述氮气管路外。
5.根据权利要求2所述的控温装置，其特征在于，所述控温管路包括控温部管路，所述控温部管路包括若干控温部子管路，若干所述控温部子管路均与所述氮气管路并列设置，并共同包裹所述氮气管路。
6.根据权利要求3～5任意一项所述的控温装置，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：饶珑，谢世明，
申请(专利权)人：芯恩青岛集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：
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