移动光阑制造技术

技术编号:40179344 阅读:45 留言:0更新日期:2024-01-26 23:46
本申请属于半导体制造设备技术领域,尤其是涉及一种移动光阑。移动光阑用于扫描电镜并包括光阑组件,光阑组件包括光阑及反射镜面;光阑用于调节扫描电镜中的电子束流,反射镜面设置于光阑在电子光路上的下方;反射镜面用于改变光学光路方向以与电子光路同轴。可见,光阑组件集成有用于实现光学成像模式功能的反射镜面,改变光学光路方向,保证光学光路与电子光路同轴。如此,在光学成像模式下定位后,直接可切换至电子成像模式进行检测,不须额外调整承放样品的可移动平台。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于半导体制造设备,尤其是涉及一种移动光阑


技术介绍

1、扫描电镜一般具有两种成像模式,分别为电子成像模式与光学成像模式。在电子成像模式下,电子束经由透镜系统照射于样品上并产生信号电子,通过检测这些信号电子来生成图像。电子成像模式能够提供高分辨率、高放大倍率的图像,以显示出样品表面的微观结构和形貌信息。

2、光学成像模式为传统光学显微镜的工作模式,在扫描电镜中通常被用作辅助工具。光学成像模式通过光线进行成像,光学成像模式的场视场相较于电子成像模式的场视场更大,因而通常用于样品定位、预览和导航,以让操作员准确定位样品所需检测区域。

3、可见,电子成像模式与光学成像模式在扫描电镜中有不同的应用,电子成像模式进行高分辨率的成像,光学成像模式则用于辅助定位。两种模式互补,以提高检测效率以及更准确的样品表面信息。

4、专利技术人发现,现有的扫描电镜中,电子光路与光学光路同向但没有同轴,如此在光学成像模式的情况下定位后,还需要移动承放样品的可移动平台,如此对可移动平台的活动范围具有一定要求,而且操作繁琐。


<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种移动光阑,用于扫描电镜,其特征在于,所述移动光阑包括光阑组件,所述光阑组件包括光阑及反射镜面;

2.根据权利要求1所述的移动光阑,其特征在于,所述移动光阑还包括位置调节模块,所述位置调节模块用于调节所述光阑组件的位置。

3.根据权利要求2所述的移动光阑,其特征在于,所述位置调节模块包括支撑套筒、导向杆以及驱动机构;

4.根据权利要求3所述的移动光阑,其特征在于,所述驱动机构包括第一驱动机构及第二驱动机构;

5.根据权利要求4所述的移动光阑,其特征在于,所述第二驱动机构包括第一调节件及第二调节件;

6.根据权利要求4所述的...

【技术特征摘要】

1.一种移动光阑,用于扫描电镜,其特征在于,所述移动光阑包括光阑组件,所述光阑组件包括光阑及反射镜面;

2.根据权利要求1所述的移动光阑,其特征在于,所述移动光阑还包括位置调节模块,所述位置调节模块用于调节所述光阑组件的位置。

3.根据权利要求2所述的移动光阑,其特征在于,所述位置调节模块包括支撑套筒、导向杆以及驱动机构;

4.根据权利要求3所述的移动光阑,其特征在于,所述驱动机构包括第一驱动机构及第二驱动机构;

5.根据权利要求4所述的移动光阑,其特征在于,所述第二驱动机构包括第一调节件及第二调节件;

6.根据权利要求4所述的移动光阑,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:米涛韩春营
申请(专利权)人:中科晶源微电子技术北京有限公司
类型:发明
国别省市:

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