【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及化学机械抛光，尤其涉及一种抛光垫修整装置。
技术介绍
1、化学机械抛光（cmp）是机械削磨和化学腐蚀的组合技术，借助超微离子研磨作用以及浆料的化学腐蚀作用在被研磨的介质表面上形成光洁的平面。
2、其中，化学机械抛光技术是半导体晶片表面加工的关键技术之一。具体地，通过抛光垫（又称抛光布）、抛光液和化学试剂去除晶片基板材料。抛光垫和抛光液是化学机械抛光工艺中的主要耗材，抛光垫具有储存、运输抛光液、去除加工残余物质、传递机械载荷及维持抛光环境等功能，抛光垫的使用寿命直接影响化学机械抛光的成本。
3、现有技术中，单面抛光机在进行抛光时，随着加工的进行，抛光垫会磨损，抛光垫由于不均匀的磨损，会导致抛光垫表面面型变差，同时抛光液可能会在抛光垫表面结晶或沉积，导致抛光垫容纳抛光液的能力下降，进而造成抛光时切削力下降，影响抛光效率。
4、目前，在传统的单面抛光加工过程中，一般抛光一段时间后，就要对抛光垫进行修正，会影响设备的有效抛光时间，降低产能。且近年来，随着蓝宝石和碳化硅等超硬材料在半导体行业的兴起，因蓝宝石和碳化硅等超硬材料的抛光时间通常比较长，可能会导致在工件还未抛光完成前，抛光垫的面型或切削力已经降低至不符合需求，导致抛光效率变低，抛光品质变差。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种抛光垫修整装置，可以在保证抛光效率的同时，保证抛光品质。
2、为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
3、提供一种抛光垫修
4、上抛头，所述上抛头用于固定待抛光工件，所述上抛头能绕自身轴向转动；
5、下抛盘，设置于所述上抛头的下方，所述下抛盘上设置有抛光垫，所述下抛盘能绕自身轴向转动以带动所述抛光垫抛光所述待抛光工件；
6、修整盘，设置于所述下抛盘的上方，所述修整盘能绕自身轴向转动以修整所述抛光垫，且所述修整盘的部分区域沿自身径向凸出于所述下抛盘设置；
7、冲刷组件，设置于所述修整盘沿自身径向凸出于所述下抛盘的部分区域的下方，所述冲刷组件用于冲刷所述修整盘；
8、吹气件，设置于所述修整盘沿自身径向凸出于所述下抛盘的部分区域的下方，且所述冲刷组件和所述吹气件沿所述修整盘的转动方向依次设置，所述吹气件用于朝所述修整盘喷射压缩空气。
9、可选地，所述吹气件设置有至少一个喷气嘴。
10、可选地，还包括与所述抛光垫对应设置的温度传感器，所述温度传感器用于检测所述抛光垫的温度。
11、可选地，所述冲刷组件包括至少一个冲洗件，所述冲洗件用于朝所述修整盘喷射清洁液。
12、可选地，所述冲刷组件还包括毛刷件，所述冲洗件设置有多个且沿所述修整盘的转动方向依次设置，至少部分相邻的所述冲洗件之间设置有所述毛刷件，所述毛刷件用于清刷所述修整盘。
13、可选地，所述冲刷组件包括两个所述冲洗件和一个所述毛刷件，两个所述冲洗件之间设置所述毛刷件。
14、可选地，所述冲洗件设置有至少一个喷液嘴。
15、可选地，所述冲洗件喷射朝向与所述修整盘之间的夹角小于90°。
16、可选地，还包括废液箱，所述废液箱内设置所述修整盘、所述冲刷组件和所述吹气件。
17、可选地，所述废液箱设置有让位通道，部分所述修整盘经所述让位通道穿至所述废液箱外并与部分所述抛光垫沿轴向重合，且所述废液箱于所述让位通道处设置有密封唇。
18、有益效果：
19、本专利技术提供的抛光垫修整装置，上抛头、下抛盘和修整盘同时转动，以使抛光垫抛光待抛光工件的同时，修整盘修整抛光垫，不需要额外停机修整抛光垫，保证抛光垫修整装置的有效抛光时效。且在此过程中，通过冲刷组件冲刷修整盘后，通过吹气件朝修整盘喷射压缩空气，以实现对修整盘的清洁，且修整盘的部分区域沿自身径向凸出于下抛盘设置，可以避免修整盘上的颗粒污物掉落至抛光垫上并随抛光垫转至上抛头处，有效保证抛光品质。
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1.一种抛光垫修整装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述吹气件（500）设置有至少一个喷气嘴。
3.根据权利要求1所述的抛光垫修整装置，其特征在于，还包括与所述抛光垫（210）对应设置的温度传感器，所述温度传感器用于检测所述抛光垫（210）的温度。
4.根据权利要求1所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述冲刷组件（400）包括至少一个冲洗件（410），所述冲洗件（410）用于朝所述修整盘（300）喷射清洁液。
5.根据权利要求4所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述冲刷组件（400）还包括毛刷件（420），所述冲洗件（410）设置有多个且沿所述修整盘（300）的转动方向依次设置，至少部分相邻的所述冲洗件（410）之间设置有所述毛刷件（420），所述毛刷件（420）用于清刷所述修整盘（300）。
6.根据权利要求5所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述冲刷组件（400）包括两个所述冲洗件（410）和一个所述毛刷件（420），两个所述冲洗件（410）之间设置所述毛刷件（420）。<...
【技术特征摘要】
1.一种抛光垫修整装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述吹气件（500）设置有至少一个喷气嘴。
3.根据权利要求1所述的抛光垫修整装置，其特征在于，还包括与所述抛光垫（210）对应设置的温度传感器，所述温度传感器用于检测所述抛光垫（210）的温度。
4.根据权利要求1所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述冲刷组件（400）包括至少一个冲洗件（410），所述冲洗件（410）用于朝所述修整盘（300）喷射清洁液。
5.根据权利要求4所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述冲刷组件（400）还包括毛刷件（420），所述冲洗件（410）设置有多个且沿所述修整盘（300）的转动方向依次设置，至少部分相邻的所述冲洗件（410）之间设置有所述毛刷件（420），所述毛刷件（420）用于清刷所述修整盘（300）。
6.根据权利要求5所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：任明元，梁春，刘文平，强彦东，
申请(专利权)人：苏州博宏源机械制造有限公司，
类型：发明
国别省市：
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