高纯硅冶炼设备制造技术

技术编号:39885745 阅读:39 留言:0更新日期:2023-12-30 13:03
本实用新型专利技术公开了高纯硅冶炼设备,其包括:底座,所述底座的顶部固定连接有隔热绝缘层,所述隔热绝缘层的顶部固定连接有炉壳,所述炉壳的内部设置有感应线圈,所述炉壳的顶部的设置有固定板,所述固定板的内壁上固定连接有石墨坩埚,所述固定板的底部固定连接有保温层,并且保温层位于炉壳的外侧,所述固定板的底部固定连接有外壳

【技术实现步骤摘要】
高纯硅冶炼设备


[0001]本技术涉及中频炉
,特别涉及高纯硅冶炼设备


技术介绍

[0002]高纯硅是一种非常重要的材料,它被广泛应用于半导体,太阳能电池,光纤通信等领域,高纯硅的生产工艺流程非常复杂,需要经过多个步骤才能得到高纯度的硅,其中一步骤是将原料和还原剂混合后,放入中频炉中进行还原反应,得到高纯度的硅晶粒;
[0003]中频炉即是用来加热熔化原料的装置,现有的中频炉在实际使用中都是将坩埚放进中频炉内部,在加热冶炼后要将高温的坩埚从炉中取出时,工作人员要将钳子伸进炉体中夹取出来,这时工作人员容易因为热辐射而烫伤,同时在取出坩埚倒出熔融硅时,存在飞溅的隐患


技术实现思路

[0004]本技术,提供高纯硅冶炼设备,便于在加热冶炼后要将高温的坩埚从炉中取出时,快速便捷,同时在取出后保温层可以起到保温作用,这时工作人员不会因为热辐射而烫伤,同时便于将坩埚内的熔融硅倒出时,不会存在飞溅的隐患

[0005]为实现上述目的,提供高纯硅冶炼设备,包括:底座,所述底座的顶部固定连接有隔热本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
高纯硅冶炼设备,其特征在于,包括:底座(1),所述底座(1)的顶部固定连接有隔热绝缘层(2),所述隔热绝缘层(2)的顶部固定连接有炉壳(3),所述炉壳(3)的内部设置有感应线圈(4),所述炉壳(3)的顶部的设置有固定板(5),所述固定板(5)的内壁上固定连接有石墨坩埚(6),所述固定板(5)的底部固定连接有保温层(7),并且保温层(7)位于炉壳(3)的外侧,所述固定板(5)的底部固定连接有外壳(9),并且外壳(9)位于保温层(7)的外侧,所述保温层(7)和外壳(9)的中间设置有真空层(8);所述石墨坩埚(6)的顶部固定连接有加厚层(
10
),并且加厚层(
10
)位于固定板(5)的上方,所述加厚层(
10
)的圆周面上固定连接有炉嘴(
11
),所述炉嘴(
11
)的顶部设置有出液槽(
12
),所述加厚层(
10
)的顶部设置有密封盖(
13
),所述密封盖(
13
)的顶部固定连接有把手(
14
),所述外壳(9)的圆周面上固定连接有扶手(
15
),所述固定板(5)的顶部固定连接有固定座...

【专利技术属性】
技术研发人员:万东升李峰光董明立石昱权石长忠田大同
申请(专利权)人:宁夏广臻兴升新材料有限公司
类型:新型
国别省市:

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