上部气动组件制造技术

本申请涉及一种上部气动组件

【技术实现步骤摘要】
上部气动组件、晶圆承载装置及化学机械研磨设备


[0001]本申请涉及半导体设备
，特别是涉及一种上部气动组件
、
晶圆承载装置及化学机械研磨设备
。

技术介绍

[0002]UPA
（
Upper Pneumatics Assembly
，上部气动组件）是研磨驱动中的重要组件，
UPA
用于控制研磨头的气压；通过
UPA
给研磨头正压，可以将晶圆按压在研磨垫上进行研磨；通过
UPA
给研磨头负压，可以将晶圆从研磨垫上拾取起来或将研磨头抬起来；通过
UPA
给研磨垫导通空气，可以使晶圆或研磨头自然落至装载装置（
Load Cup
）或研磨垫上
。
[0003]目前的研磨设备中，在使用
UPA
对研磨头的压力进行校准控制时，一般均采用在
UPA
上设置多个校准气孔，根据校准的需要通过在校准气孔内插拔气管来实现对研磨头压力的校准控制
。
由于需要来回插拔气管才能实现对研磨头压力的校准控制，操作十分繁琐，浪费时间，且容易对气管插口处造成损伤
。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要针对上述
技术介绍
中的问题，提供一种上部气动组件
、
晶圆承载装置及化学机械研磨设备，具有通过校准气孔和开关阀即可实现对研磨头压力的校准控制，不需要插拔气管，操作简单，节省时间，简化校准控制过程，且不会对插入至校准气孔的气管的插口造成损伤等优点
。
[0005]为了解决上述技术问题及其他问题，根据一些实施例，第一方面，本申请提供一种上部气动组件，上部气动组件包括：
[0006]主体板，主体板包括相对的第一表面和第二表面；
[0007]气路，位于主体板内，自主体板的第一表面延伸至主体板的第二表面的不同区域；
[0008]校准气孔，位于主体板的第一表面，且与气路相连通；
[0009]开关阀信号线；
[0010]开关阀，位于气路内，与开关阀信号线相连接，开关阀用于根据开关阀信号线传送的信号控制气路的通断
。
[0011]在上述实施例的上部气动组件中，通过设置校准气孔
、
气路和开关阀，在上部气动组件与研磨头配合使用时，仅通过校准气孔和开关阀即可实现对研磨头压力的校准控制，操作简单，节省时间，简化校准控制过程，且由于不需要插拔气管，不会对插入至校准气孔的气管的插口造成损伤
。
[0012]在一些实施例中，所述气路包括：
[0013]主气路，位于主体板内，且自主体板的第一表面延伸至主体板内；
[0014]多个支气路，位于主体板内，一端与主气路延伸至主体板内的一端相连通，另一端延伸至主体板第二表面的不同区域
。
[0015]在一些实施例中，开关阀位于支气路内，开关阀的数量为多个，多个开关阀与多个
支气路一一对应设置
。
[0016]在上述实施例的上部气动组件中，通过设置主气路和多个支气路，并在各个支气路分别设置开关阀，在上部气动组件与研磨头配合使用时，通过一个校准气孔和设置于各支气路内的开关阀，即可实现对研磨头不同区域的压力的校准控制
。
[0017]在一些实施例中，校准气孔通过气管与压力测量仪相连接
。
[0018]在一些实施例中，上部气动组件还包括：
[0019]定位销孔，位于主体板的第一表面
。
[0020]在一些实施例中，上部气动组件还包括密封圈，密封圈位于气路延伸至主体板第二表面的一端
。
[0021]第二方面，本申请还提供一种晶圆承载装置，包括：
[0022]如第一方面中所述的上部气动组件；
[0023]研磨头，研磨头内形成有压力腔室；
[0024]主轴，一端与上部气动组件相连接，另一端与研磨头相连接；主轴内形成有气孔，气孔一端与气路相连通，另一端与压力腔室相连通
。
[0025]在上述实施例的晶圆承载装置中，上部气动部件通过设置校准气孔
、
气路和开关阀，仅通过校准气孔和开关阀即可实现对研磨头压力的校准控制，操作简单，节省时间，简化校准控制过程，且由于不需要插拔气管，不会对插入至校准气孔的气管的插口造成损伤
。
[0026]在一些实施例中，晶圆承载装置还包括法兰，位于上部气动组件与主轴之间，以将上部气动组件与主轴相连接
。
[0027]第三方面，本申请还提供一种化学机械研磨设备，包括：
[0028]如第二方面中所述的晶圆承载装置
。
[0029]在上述实施例的化学机械研磨设备中，上部气动部件通过设置校准气孔
、
气路和开关阀，仅通过校准气孔和开关阀即可实现对研磨头压力的校准控制，操作简单，节省时间，简化校准控制过程，且由于不需要插拔气管，不会对插入至校准气孔的气管的插口造成损伤
。
[0030]在一些实施例中，化学机械研磨设备还包括：
[0031]研磨盘，研磨盘的表面覆盖有研磨垫；研磨盘位于晶圆承载装置的下方；
[0032]修整器，自研磨盘的一侧延伸至研磨盘上；
[0033]研磨液供应装置，自研磨盘的一侧延伸至研磨盘的上方
。
附图说明
[0034]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他实施例的附图
。
[0035]图1为本申请一实施例中提供的一种上部气动组件的俯视结构示意图；
[0036]图2为本申请一实施例中提供的一种上部气动组件的正视图；
[0037]图3为本申请一实施例中提供的一种上部气动组件的侧视图；
[0038]图4为本申请一实施例中提供的一种上部气动组件的剖面结构示意图；
[0039]图5为本申请另一实施例中提供的一种晶圆承载装置的局部结构示意图；
[0040]图6为本申请又一实施例中提供的一种化学机械研磨设备的结构示意图
。
[0041]附图标记说明：
[0042]10、
上部气动组件；
101、
主体板；
102、
气路；
1021、
主气路；
1022、
支气路；
103、
校准气孔；
104、
开关阀信号线；
105、
开关阀；
106、
定位销孔；
107、
密封圈；
108、
压力测量仪；
109、
气管；
20、
研磨头；
30、...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种上部气动组件，其特征在于，包括：主体板，所述主体板包括相对的第一表面和第二表面；气路，位于所述主体板内，自所述主体板的第一表面延伸至所述主体板的第二表面的不同区域；校准气孔，位于所述主体板的第一表面，且与所述气路相连通；开关阀信号线；开关阀，位于所述气路内，与所述开关阀信号线相连接，所述开关阀用于根据所述开关阀信号线传送的信号控制所述气路的通断
。2.
根据权利要求1所述的上部气动组件，其特征在于，所述气路包括：主气路，位于所述主体板内，且自所述主体板的第一表面延伸至所述主体板内；多个支气路，位于所述主体板内，一端与所述主气路延伸至所述主体板内的一端相连通，另一端延伸至所述主体板第二表面的不同区域
。3.
根据权利要求2所述的上部气动组件，其特征在于，所述开关阀位于所述支气路内，所述开关阀的数量为多个，多个所述开关阀与多个所述支气路一一对应设置
。4.
根据权利要求1所述的上部气动组件，其特征在于，所述校准气孔通过气管与压力测量仪相连接
。5.
根据权利要求1所述的上部气动组件，其特征在于，所述上部气动组件还包括：定位销孔，位于所述主体板的第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：张帅帅，杨俊男，闫晓晖，
申请(专利权)人：上海积塔半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：