传输腔回填管路机构和半导体工艺设备制造技术

本实用新型专利技术实施例提供一种传输腔回填管路机构和半导体工艺设备，属于半导体技术领域

【技术实现步骤摘要】
传输腔回填管路机构和半导体工艺设备


[0001]本技术涉及半导体
，具体而言，涉及一种传输腔回填管路机构和半导体工艺设备
。

技术介绍

[0002]现有技术中，半导体工艺设备例如
CVD
设备中，传输腔室和装载腔室的回填管路共用一路从厂务端进入机台端的气体，由于装载腔室需要频繁切换真空和大气，所以装载腔室的回填管路前端的气动隔膜阀需要经常开关，由于传输腔室和装载腔室的回填管路前端并不独立，所以在装载腔室回填时，传输腔室回填管路上的气体流量控制器前端压力会突然变化，由此会出现气体流量控制器流量急剧升高，且传输腔室使用的是气体流量控制器和干泵共同控制传输腔室压力的模式，气体流量控制器的流量急剧升高可能会导致腔室内的微粒被扬起这种情况，进而影响到机台和晶圆的微粒结果
。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种传输腔回填管路机构和半导体工艺设备，其能够避免装载腔室的回填管路运行时，影响传输腔室回填管路的压力，以避免微粒被扬起
。
[0004]本技术的实施例是这样实现的：
[0005]第一方面，本技术提供一种传输腔回填管路机构，包括管道
、
气体流量控制器和压力调节阀；
[0006]所述气体流量控制器和所述压力调节阀均设置于所述管道，且所述压力调节阀设置于所述气体流量控制器的进气口侧；
[0007]所述气体流量控制器出口侧的一端用于与传输腔连通
。
[0008]在可选的实施方式中，所述传输腔回填管路机构还包括压力表，所述压力表安装于所述管道，且位于所述气体流量控制器与所述压力调节阀之间
。
[0009]在可选的实施方式中，所述传输腔回填管路机构还包括气体过滤器，所述气体过滤器设置于所述管道，且位于所述压力调节阀的进气侧
。
[0010]在可选的实施方式中，所述传输腔回填管路机构还包括气动隔膜阀，所述气动隔膜阀设置于所述管道，且位于所述压力表与所述气体流量控制器之间
。
[0011]在可选的实施方式中，所述传输腔回填管路机构还包括手阀，所述手阀设置于所述管道，且位于所述气体过滤器的进气侧
。
[0012]在可选的实施方式中，所述传输腔回填管路机构还包括第二气动隔膜阀和并联管路，所述第二气动隔膜阀设置于并联管道，所述并联管道的一端与所述压力表的出口侧连接，另一端通过三通与所述管道位于所述气体流量控制器出口侧的一端连接
。
[0013]第二方面，本技术提供一种半导体工艺设备，包括工艺设备本体和前述实施方式中任一项所述的传输腔回填管路机构；
[0014]所述工艺设备本体具有传输腔室；
[0015]所述气体流量控制器出口侧的一端与所述传输腔室连接
。
[0016]在可选的实施方式中，所述工艺设备本体还具有装载腔；
[0017]所述半导体工艺设备还包括装载腔室回填管路机构，所述传输腔室回填管路机构与所述装载腔室回填管路机构相互独立；
[0018]所述装载腔室回填管路机构与所述装载腔室连接，以向所述装载腔室供气
。
[0019]在可选的实施方式中，所述装载腔室回填管路机构包括连接管，依次设置于所述连接管的第二手阀
、
第二气体过滤器和第二压力调节阀和第二压力表，第二压力表与所述装载腔连通
。
[0020]在可选的实施方式中，所述半导体工艺设备还包括真空泵，所述真空泵与所述传输腔室连通，用于给所述传输腔室腔抽真空
。
[0021]本技术实施例提供的传输腔回填管路机构和半导体工艺设备的有益效果包括：
[0022]本申请通过在传输腔回填管路机构的气体流量控制器的进气侧设置压力调节阀，从而可以调节进入气体流量控制器的压力，从而使压力保持一致，避免装载腔室的回填管路运行时，影响传输腔室回填管路的压力，以避免微粒被扬起
。
附图说明
[0023]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图
。
[0024]图1为本技术实施例提供的传输腔回填管路机构结构示意图；
[0025]图2为现有的气体流量控制器出口侧的流量压力曲线检测图；
[0026]图3为本技术实施例提供的气体流量控制器出口侧的流量压力曲线检测图
。
[0027]图标
:1
‑
手阀；2‑
气体过滤器；3‑
压力调节阀；4‑
压力表；5‑
气动隔膜阀；6‑
气体流量控制器；7‑
管道；8‑
第二气动隔膜阀；9‑
并联管道
。
具体实施方式
[0028]为使本技术实施例的目的
、
技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚
、
完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例
。
通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计
。
[0029]因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例
。
基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围
。
[0030]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释
。
[0031]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖
直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位
、
以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制
。
此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性
。
[0032]此外，术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜
。
如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜
。
[0033]在本技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种传输腔回填管路机构，其特征在于，包括管道
(7)、
气体流量控制器
(6)
和压力调节阀；所述气体流量控制器
(6)
和所述压力调节阀均设置于所述管道
(7)
，且所述压力调节阀
(3)
设置于所述气体流量控制器
(6)
的进气口侧；所述气体流量控制器
(6)
出口侧的一端用于与传输腔连通
。2.
根据权利要求1所述的传输腔回填管路机构，其特征在于，所述传输腔回填管路机构还包括压力表
(4)
，所述压力表
(4)
安装于所述管道
(7)
，且位于所述气体流量控制器
(6)
与所述压力调节阀
(3)
之间
。3.
根据权利要求2所述的传输腔回填管路机构，其特征在于，所述传输腔回填管路机构还包括气体过滤器
(2)
，所述气体过滤器
(2)
设置于所述管道
(7)
，且位于所述压力调节阀
(3)
的进气侧
。4.
根据权利要求3所述的传输腔回填管路机构，其特征在于，所述传输腔回填管路机构还包括气动隔膜阀
(5)
，所述气动隔膜阀
(5)
设置于所述管道
(7)
，且位于所述压力表与所述气体流量控制器
(6)
之间
。5.
根据权利要求3所述的传输腔回填管路机构，其特征在于，所述传输腔回填管路机构还包括手阀
(1)
，所述手阀

【专利技术属性】
技术研发人员：牛沛泽，李慧，
申请(专利权)人：拓荆科技，
类型：新型
国别省市：