一种制造技术

本发明专利技术涉及

【技术实现步骤摘要】
一种MOCVD装置


[0001]本专利技术涉及
MOCVD
装置
，具体为一种
MOCVD
装置
。

技术介绍

[0002]MOCVD
主要包括进气系统，加热系统，尾气系统，控制系统等部分组成，其中进气系统及加热系统是整个设备的关键，他决定了外延材料最终性能
。MOCVD
设备的工作过程大致为：金属有机源
(
前驱体
)
的饱和蒸汽通过载气输送到反应室，另一种原材料
(
一般为气体
)
输送到反应室，在反应室中分布到衬底表面，在一定的反应温度下原材料发生反应在衬底表面生成所需薄膜，多余的气体及副产物通过尾气系统排出
。
[0003]目前市场上的
MOCVD
装置应用已经十分广泛了，一般情况下参与反应的两种物质接触就会发生反应称为预反应，预反应一方面会造成原料的浪费，另一方面预反应生成物会产生一些微小的颗粒，这些颗粒落在衬底表面就会导致外延层缺陷
)
，所以在整个生长过程中两种物质尽可能在衬底附近相遇
、
反应，这就需要在设计反应室时是尽可能避免两种物质提早相遇，但是现有
MOCVD
装置主要有2种进气方式，一种是水平方式进气，即两种原材料的进气口平行与衬底表面，另一种是垂直方式进气，即两种原材料的进气方向与衬底垂直，这两种方式都会导致气体在进入到反应室就会接触，发生预反应，且气体在反应室中分布不够均匀/>。

技术实现思路

[0004](
一
)
解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种
MOCVD
装置，具备气体分布均匀的优点，解决了现有
MOCVD
装置主要有2种进气方式，一种是水平方式进气
(
即两种原材料的进气口平行与衬底表面
)
，另一种是垂直方式进气
(
即两种原材料的进气方向与衬底垂直
)
，这两种方式都会导致气体在进入到反应室就会接触，发生预反应，且气体在反应室中分布不够均匀的问题
。
[0006](
二
)
技术方案
[0007]为实现上述气体分布均匀的目的，本专利技术提供如下技术方案：一种
MOCVD
装置，包括
MOCVD
装置主体和衬底主体，所述
MOCVD
装置主体的底部设置有延伸至其内部的旋转机构，所述衬底主体位于旋转机构上；
[0008]所述旋转机构包括伺服电机，所述
MOCVD
装置主体的左侧固定安装有固定安装有伺服电机，所述伺服电机的输出轴处传动连接有同步带，所述
MOCVD
装置主体的左侧活动安装有与同步带连接的转动杆，所述转动杆的顶部固定安装有第一齿轮，所述
MOCVD
装置主体的内部固定安装有轴承，所述轴承的内侧壁安装有载盘，所述载盘的底部外侧固定安装有与第一齿轮相啮合的第二齿轮
。
[0009]优选的，所述
MOCVD
装置主体的左右两侧均固定安装有水平进气管，所述
MOCVD
装置主体的顶部固定安装有垂直进气管
。
[0010]优选的，所述
MOCVD
装置主体的内部且位于垂直进气管的底部固定安装有垂直均气板，所述垂直均气板位于载盘的顶部
。
[0011]优选的，所述载盘的底部设置有与
MOCVD
装置主体连接的辅助机构，所述辅助机构包括辅助杆，所述载盘底部且位于第二齿轮的右两侧均固定安装有延伸至
MOCVD
装置主体内壁中的辅助杆，所述载盘的底部和辅助杆的外部均固定安装有安装块，所述载盘的底部右侧固定安装有与安装块连接的辅助板，所述安装块通过固定螺栓安装于载盘和辅助杆上
。
[0012]优选的，所述
MOCVD
装置主体上开设有与辅助杆相适配的滑槽，所述安装块的数量为两个，两个所述安装块分别与载盘底部和辅助杆左侧连接
。
[0013]优选的，所述载盘的底部和辅助杆的左侧均开设有与固定螺栓相适配的安装孔
。
[0014]优选的，所述同步带包括传动带
、
主动齿轮和从动齿轮，所述伺服电机的输出轴固定安装有主动齿轮，所述转动杆的外部固定安装有从动齿轮，所述主动齿轮外部传动连接有延伸至从动齿轮外侧的传动带
。
[0015]优选的，所述传动带的两端包角分别与主动齿轮和从动齿轮的外壁均相啮合，所述载盘的顶部开设有与衬底主体相适配的放置槽
。
[0016]优选的，所述
MOCVD
装置主体的内部设置有反应仓，所述垂直均气板
、
衬底主体和载盘均位于反应仓中
。
[0017](
三
)
有益效果
[0018]与现有技术相比，本专利技术提供了一种
MOCVD
装置，具备以下有益效果：
[0019]1、
该
MOCVD
装置，通过设置水平进气管和垂直进气管，先通过水平进气管将一定体积的原材料气体抽送至
MOCVD
装置主体内部的反应仓中，使得一定体积的原材料气体可以通过水平方式进入
MOCVD
装置主体的内部且与衬底主体平行，两种反应物主要是在衬底主体的表面相遇发生反应
。
[0020]2、
该
MOCVD
装置，通过设置伺服电机，两种气体进入的同时伺服电机也会运行，使伺服电机的输出轴带动同步带转动，同步带带动转动杆转动，使转动杆转动带动第一齿轮转动，第一齿轮转动带动相啮合的第二齿轮转动，使第二齿轮带动载盘转动，载盘通过轴承稳定转动，载盘转动带动辅助杆在
MOCVD
装置主体上的滑槽中滑动，且载盘通过辅助板与辅助杆形成支撑，使载盘转动的过程中足够稳定，从而达到载盘转动带动衬底主体转动的接受两种气体的相遇，实现通过旋转方式保证气体在衬底主体的表面均匀分布
。
附图说明
[0021]图1为本专利技术结构剖视图；
[0022]图2为本专利技术旋转机构结构剖视图；
[0023]图3为本专利技术载盘结构示意图；
[0024]图4为本专利技术垂直均气板结构示意图；
[0025]图5为本专利技术图2中
A
处放大图
。
[0026]图中：
1、MOCVD
装置主体；
2、
旋转机构；
201、
伺服电机；
202、
同步带；
203、
转动杆；
204、
第一齿轮；
205、
轴承；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种
MOCVD
装置，包括
MOCVD
装置主体
(1)
和衬底主体
(3)
，其特征在于：所述
MOCVD
装置主体
(1)
的底部设置有延伸至其内部的旋转机构
(2)
，所述衬底主体
(3)
位于旋转机构
(2)
上；所述旋转机构
(2)
包括伺服电机
(201)
，所述
MOCVD
装置主体
(1)
的左侧固定安装有固定安装有伺服电机
(201)
，所述伺服电机
(201)
的输出轴处传动连接有同步带
(202)
，所述
MOCVD
装置主体
(1)
的左侧活动安装有与同步带
(202)
连接的转动杆
(203)
，所述转动杆
(203)
的顶部固定安装有第一齿轮
(204)
，所述
MOCVD
装置主体
(1)
的内部固定安装有轴承
(205)
，所述轴承
(205)
的内侧壁安装有载盘
(206)
，所述载盘
(206)
的底部外侧固定安装有与第一齿轮
(204)
相啮合的第二齿轮
(207)。2.
根据权利要求1所述的一种
MOCVD
装置，其特征在于：所述
MOCVD
装置主体
(1)
的左右两侧均固定安装有水平进气管
(4)
，所述
MOCVD
装置主体
(1)
的顶部固定安装有垂直进气管
(5)。3.
根据权利要求1所述的一种
MOCVD
装置，其特征在于：所述
MOCVD
装置主体
(1)
的内部且位于垂直进气管
(5)
的底部固定安装有垂直均气板
(6)
，所述垂直均气板
(6)
位于载盘
(206)
的顶部
。4.
根据权利要求1所述的一种
MOCVD
装置，其特征在于：所述载盘
(206)
的底部设置有与
MOCVD
装置主体
(1)
连接的辅助机构
(7)
，所述辅助机构
(7)
包括辅助杆
...

【专利技术属性】
技术研发人员：张义颖，雍晓龙，何奇，
申请(专利权)人：苏州镓耀半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：