沉积腔室部件及维护方法技术

本申请公开一种沉积腔室部件及维护方法

【技术实现步骤摘要】
沉积腔室部件及维护方法、腔室使用方法、沉积设备


[0001]本申请涉及半导体
，尤其涉及一种沉积腔室部件及维护方法
、
腔室使用方法
、
沉积设备
。

技术介绍

[0002]当前的半导体及平板制造中，
PEALD(
等离子体增强原子层沉积
)
以其低温
、
重复性好以及可得到更致密可靠的
、
更均匀的
、
台阶覆盖率更高的薄膜等特点，成为新兴的半导体薄膜沉积技术最广泛的方法之一
。
通常，等离子体产生方法可分为电容耦合等离子体法
CCP
和电感耦合等离子法
ICP。
一般的
CCP/ICP
方法是在上下电极板之间加载射频电源，保持一定的低真空度，同时通入相应反应气体后，上下电极板之间就会产生等离子体
。
[0003]由于等离子体是一种内部含有大量活性基元
、
正离子
、
负离子的物质的第四种形态
。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种原子层沉积腔室部件，其特征在于，所述原子层沉积腔室部件在原子层沉积腔室中使用，所述原子层沉积腔室用于对目标材料进行沉积；所述原子层沉积腔室部件包括主体以及设置在所述主体的表面的绝缘层；其中，所述绝缘层被配置为对预设波长范围的光的吸收率大于所述目标材料对所述预设波长范围的光的吸收率
。2.
根据权利要求1所述的原子层沉积腔室部件，其特征在于，所述预设波长范围的光为紫外光，所述绝缘层对所述紫外光的吸收率大于等于
50
％
。3.
根据权利要求1所述的原子层沉积腔室部件，其特征在于，所述绝缘层被配置为对预设波长范围的光的吸收率与所述目标材料对所述预设波长范围的光的吸收率之差在
40
％
‑
100
％的范围
。4.
根据权利要求1所述的原子层沉积腔室部件，其特征在于，所述绝缘层的厚度为5～
50
μ
m。5.
根据权利要求1所述的原子层沉积腔室部件，其特征在于，所述主体的材料为金属或金属合金；和
/
或所述绝缘层的材料为绝缘的高分子聚合物涂层材料
。6.
根据权利要求5所述的原子层沉积腔室部件，其特征在于，所述绝缘层的材料选自聚酰亚胺
、
聚亚胺
、
环氧树脂中的至少一种
。7.
根据权利要求1‑6任一项所述的原子层沉积腔室部件，其特征在于，所述沉积腔室部件为气体扩散器
、
衬底承载台
、
保护套
、
成膜区域限定框
、
掩膜板
、
观察窗开关阀门
、
腔室壁和腔室盖中的至少一种
。8.
一种原子层沉积腔室部件的维护方法，其特征在于，所述原子层沉积腔室部件在原子层沉积腔室中使用，所述原子层沉积腔室用于对目标材料进行沉积；所述维护方法包括：使用预设波长范围的光对原子层沉积腔室部件进行照射；将沉积在所述原子层沉积腔室部件上的目标材料进行剥离；其中，原子层沉积腔室部件包括在原子层沉积腔室中使用的主体，以及设置在所述主体表面的绝缘层；所述绝缘层被配置为对所述预设波长范围的光的吸收率大于所述目标材料对所述预设波长范围的光的吸收率
。9.
根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：李松举，孙贤文，付东，
申请(专利权)人：广东聚华印刷显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：