【技术实现步骤摘要】
一种干膜曝光对位装置及其对位方法
[0001]本专利技术涉及干膜曝光对位装置的
,具体为一种干膜曝光对位装置及其对位方法
。
技术介绍
[0002]电路板的名称有:陶瓷电路板,氧化铝陶瓷电路板,氮化铝陶瓷电路板,线路板,
PCB
板,铝基板,高频板,厚铜板,阻抗板,
PCB
,超薄线路板,超薄电路板,印刷电路板等,在部分电路板生产过程中,需要对电路板进行曝光处理
。
[0003]干膜曝光,即通过对位装置的对位操作将遮挡板附着在电路板上,然后通过电路板曝光机进行电路板的曝光操作,现有遮挡板与电路板之间的对位操作,一般是将电路板直接放置在特定规格的凹槽中,然后操作者通过手动操作完成遮光板与电路板之间的对位操作,非常麻烦,且一种对位装置只能进行一种数量或一种规格电路板的曝光操作,而在将电路板放置于凹槽的过程中,部分电路板由于自身较薄,在放置于凹槽内后由于凹槽的约束,部分电路板下方的极少数空气可能无法排出,随着遮光板与电路板之间的贴合,可能会在电路板与凹槽内壁之间留存一定空气,从而可能导致电路板部分位置产生细微凸面,影响电路板的曝光操作
。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于提供一种干膜曝光对位装置及其对位方法,以解决上述
技术介绍
中所提出的问题
。
[0005]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种干膜曝光对位装置,包括通过螺栓固定装设于电路板曝光机对位装置安装位置处的底座;还包括:遮光板,所述遮光板位 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.
一种干膜曝光对位装置,包括通过螺栓固定装设于电路板曝光机对位装置安装位置处的底座(1);其特征在于,还包括:遮光板(2),所述遮光板(2)位于底座(1)上方的中心位置处,所述遮光板(2)的底侧相对设有若干调位机构,且调节机构(5)调节所述遮光板(2)的位置;定位机构(3),所述定位机构(3)穿设于底座(1)顶侧的中心位置处,且定位机构(3)进行所述电路板的约束定位,所述定位机构(3)的顶侧和遮光板(2)的顶侧共同设有约束机构(4)
。2.
根据权利要求1所述的一种干膜曝光对位装置,其特征在于:所述定位机构(3)包括若干形状为
T
字形设置的定位杆(
32
),所述底座(1)内的中心位置处开设有矩形槽(
31
),若干所述定位杆(
32
)滑动穿设于底座(1)的顶侧,且相邻两个定位杆(
32
)的间距相等,所述定位杆(
32
)顶端的外边为弧面设置,且定位杆(
32
)的底端插入矩形槽(
31
)内
。3.
根据权利要求2所述的一种干膜曝光对位装置,其特征在于:所述定位杆(
32
)内开设有滑槽(
33
),所述滑槽(
33
)内滑动装设有活塞板(
34
),所述活塞板(
34
)内的中心位置处固定穿设有形状为
L
字形设置的电控阀门(
35
),所述定位杆(
32
)的外周侧套设有密封环(
36
),所述电控阀门(
35
)的底端延伸至对应定位杆(
32
)的下方并与矩形槽(
31
)的内底壁固定连接
。4.
根据权利要求3所述的一种干膜曝光对位装置,其特征在于:所述约束机构(4)主要分为限位件(
41
)和检测件(
42
)两个部分,所述限位件(
41
)包括导热网板(
411
),所述导热网板(
411
)固定装设于遮光板(2)的顶侧,所述遮光板(2)的外周侧和导热网板(
411
)的外周侧共同相对固定装设有两个耐磨条(
412
)
。5.
根据权利要求4所述的一种干膜曝光对位装置,其特征在于:所述调节机构(5)包括若干活塞杆(
53
),所述底座(1)的顶侧相对开设有若干导向槽(
51
),且若干导向槽(
51
)分为两组相对设于矩形槽(
31
)的两侧,所述导向槽(
51
)的内部通过限压阀(
52
)与矩形槽(
31
)的内部相连通,所述活塞杆(
53
)滑动穿设于对应的导向槽(
51
技术研发人员:肖铭,何健,罗业伟,
申请(专利权)人:江西力征材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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