一种基于数字叠栅条纹的光刻对准系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种基于数字叠栅条纹的光刻对准系统，包括接收不同轴向设置的曝光光源和对准光源的第一分束器；数字微反射镜接收经第一分束器反射的对准光源，对准光源依次通过第一透镜和第二分束器，将数字微反射镜中生成的数字光栅投影至硅片平面上，数字光栅被硅片平面反射，再次经过第二分束器后通过第二透镜，并成像于第一

【技术实现步骤摘要】
一种基于数字叠栅条纹的光刻对准系统


[0001]本技术涉及光刻对准系统
，具体涉及一种基于数字叠栅条纹的光刻对准系统
。

技术介绍

[0002]集成电子领域取得的每一次革命性进展，都与光刻系统的技术进步密切相关
。
光刻对准系统作为光刻机的三大核心之一，其意义是保证掩模版与硅片相对准确的位置关系，是决定集成电路特征尺寸的关键
。
主流光刻对准方法包含基于几何图像的光刻对准方法和基于相位信息的光刻对准方法，前者是对掩模和硅片上设计的特殊几何图像进行成像实现对准，具有结构简单
、
对准速度快的优点，但其对准精度往往较低
。
而后者利用掩模和硅片上的对准标记发生衍射后形成合频信号的相位信息进行对准，其具有精度高
、
对准实时性好的优点
。
[0003]叠栅条纹光刻对准作为利用相位信息对准的一种方式，由相干光源照射掩模对准标记，发生衍射后，再经过硅片对准标记衍射后形成具有不同级次的叠栅叠栅条纹，两对准标记相对完全对准状态存在位移时，将改变叠栅条本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种基于数字叠栅条纹的光刻对准系统，其特征在于：包括接收不同轴向设置的曝光光源
(1)
和对准光源
(2)
的第一分束器
(3)
；数字微反射镜
(4)
接收经第一分束器
(3)
反射的对准光源
(2)
，对准光源
(2)
依次通过第一透镜
(5)
和第二分束器
(6)
，将数字微反射镜
(4)
中生成的数字光栅投影至硅片平面
(9)
上，数字光栅被硅片平面
(9)
反射，再次经过第二分束器
(6)
后通过第二透镜
(7)
，并成像于第一
CCD
相机
(8)
；物理对准光栅
(10)
的像经过第三透镜
(11)
并被第二
CCD

【专利技术属性】
技术研发人员：薛梓佳，蒋文波，王画然，
申请(专利权)人：西华大学，
类型：新型
国别省市：