一种双板平行度光学无损检测方法技术

本申请属于光电集成芯片制备技术领域，公开了一种双板平行度光学无损检测方法

【技术实现步骤摘要】
一种双板平行度光学无损检测方法、系统及电子设备


[0001]本申请涉及光电集成芯片制备
，具体而言，涉及一种双板平行度光学无损检测方法
、
系统及电子设备
。

技术介绍

[0002]目前，在进行半导体芯片生产的过程中，通常是将多个芯片在一个基板上完成加工后，再进行分割得到多个独立的芯片，从而实现批量化生产
。
在基板上对芯片进行加工时，一般是使用光刻机照射掩膜板从而通过掩膜板上的镂空部分对基板进行曝光形成电路，需要将基板与掩膜板进行完全平行对准，才能有效保证光刻过程的稳定性，但在实际工作过程中，掩膜板常常会出现不同程度的倾斜或位置偏离，从而会影响光刻电路的过程，最终影响芯片的生产良率
。
[0003]为检测基板与掩膜板是否平行对准，参考图7，目前多采用的检测方法是在掩膜板
90
上设置定位孔
91
，并在基板
92
的对应位置上设置参考标记
93
，然后在掩膜板
90
的上方用光源垂直地照射定位孔
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种双板平行度光学无损检测系统，其特征在于，包括：第一光检测组件（1），所述第一光检测组件（1）包括设置在掩膜板（
90
）一个侧边沿面上且沿所述侧边沿面的长度方向延伸的第一通道件（
101
），所述第一通道件（
101
）内设置有沿轴向延伸的第一光通道（
102
），所述第一光通道（
102
）的第一端设置有第一反射件（
103
），所述第一光通道（
102
）的第二端设置有照射光源（
104
），所述第一通道件（
101
）上位于所述第一反射件（
103
）的正下方的位置开设有连通所述第一光通道（
102
）的出光口（
105
），所述照射光源（
104
）用于向所述第一反射件（
103
）发射光束（
94
），所述第一反射件（
103
）用于把所述光束（
94
）沿垂直于所述第一通道件（
101
）的方向反射至所述出光口（
105
）；第二光检测组件（2），所述第二光检测组件（2）包括设置在基板（
92
）一个侧边沿面上且沿所述侧边沿面的长度方向延伸的第二通道件（
201
），第二通道件（
201
）内设置有沿轴向延伸的第二光通道（
202
），所述第二光通道（
202
）的第一端设置有第二反射件（
203
），所述第二光通道（
202
）的第二端设置有光接收装置（
204
），所述第二通道件（
201
）上位于所述第二反射件（
203
）的正上方的位置开设有连通所述第二光通道（
202
）的进光口（
205
），所述进光口（
205
）用于供从所述出光口（
105
）射出的所述光束（
94
）通过，所述第二反射件（
203
）用于把所述光束（
94
）反射至所述光接收装置（
204
），所述光接收装置（
204
）用于检测所述光束（
94
）在所述光接收装置（
204
）上形成的光斑的位置；上位机（3），所述上位机（3）与所述照射光源（
104
）和所述光接收装置（
204
）电性连接，并用于根据所述光斑的位置判断所述掩膜板（
90
）与所述基板（
92
）是否平行对准
。2.
根据权利要求1所述的双板平行度光学无损检测系统，其特征在于，所述光接收装置（
204
）还用于检测所述光斑的形状；所述上位机（3）在根据所述光斑的位置判断所述掩膜板（
90
）与所述基板（
92
）是否平行对准的时候，根据所述光斑的位置和所述光斑的形状判断所述掩膜板（
90
）与所述基板（
92
）是否平行对准
。3.
根据权利要求1所述的双板平行度光学无损检测系统，其特征在于，所述第一反射件（
103
）具有一第一反射平面，所述第一反射平面的法向与所述第一通道件（
101
）的轴向成
...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵迎宾，宾剑雄，牛兰，刘振，杨鹏，王济宇，
申请(专利权)人：季华实验室，
类型：发明
国别省市：