用于扫描量测的数据过滤器制造技术

公开了一种处理包括等间距的数据样本和

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于扫描量测的数据过滤器
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求
2021
年3月4日递交的欧洲申请
21160810.4
和
2021
年7月
29
日递交的欧洲申请
21188528.0
的优先权，该欧洲申请的全部内容以引用的方式并入本文中
。


[0003]本专利技术涉及一种数据过滤器，尤其涉及一种用于扫描量测数据的过滤器
。

技术介绍

[0004]尽管不排他地用于此类应用，但是本文中公开的本专利技术的实施例是关于光刻设备来论述的
。
光刻设备是被构造成将期望的图案施加到衬底上的机器
。
光刻设备可以用于例如制造集成电路
(IC)。
光刻设备可以例如将图案形成装置
(
例如，掩模
)
处的图案
(
也经常被称为“设计布局”或“设计”)
投影到被设置在衬底
(
例如，晶片
>)
上的辐本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种处理包括等间距的数据样本和
/
或非等间距的数据样本的数据集合的方法，所述方法包括：对数据进行过滤，其中，在所述数据集合中的样本的范围内，对由概率密度函数定义的核进行卷积以在整个所述数据集合的范围内在多个位置处对所述样本执行加权平均，并且其中，将一阶回归应用于被过滤的数据以提供被处理的数据输出
。2.
如权利要求1所述的方法，其中，对数据进行过滤包括：在所述数据集合中的样本的范围内对所述核进行卷积之前，对所述数据应用串联过滤器
。3.
如权利要求2所述的方法，其中，所述串联过滤器是样本平均过滤器
。4.
如任一前述权利要求所述的方法，其中，在时间域和
/
或空间域中执行所述过滤
。5.
如任一前述权利要求所述的方法，其中，所述非等间距的样本是在时间上间隔开的和
/
或在空间上间隔开的
。6.
如任一前述权利要求所述的方法，其中，所述数据集合包括从扫描传感器获得的测量结果
。7.
如权利要求6所述的方法，其中，所述扫描传感器在位于光刻设备中的晶片的整个表面上执行扫描
。8.
如权利要求7所述的方法，其中，所述传感器是水平传感器
。9.
如任一前述权利要求所述的方法，其中，所述核的形状响应于所述数据样本的间距的变化而改变
。10.
如任一前述权利要求所述的方法，其中，由概率密度函数定义的核是高斯核
。11.
如权利要求8所述的方法，其中，所述高斯核是具有基于传感器光斑尺寸和样本间距而被限定的限定面积的归一化高斯核，所述归一化高斯核的所述限定面积对于所述数据集合的过滤来说被保持恒定
。12.
如任一前述权利要求所述的方法，其中，对所述数据样本进行过滤包括低通过滤，并且其中，高于截止频率的数据被滤除，所述截止频率根据所述样本的间距的变化而变化
。13.
如权利要求8所述的方法，其中，所述水平传感器以可变速度扫描所述晶片的整个表面，以便在获得传感器数据的同时，在晶片表面的一些部分上加速和减速，并且其中，所述数据输出用于提供晶片表面的水平的加速晶片
Z
图
(AWZ
‑
Map)。14.
如任一前述权利要求所述的方法，其中，对于间隔开的预定位置的集合来说需要被处理的输出数据，并且其中，仅在那些预定位置处执行对所述数据集合的处理
。15.
如权利要求
14
所述的方法，其中，所述预定位置是被扫描区域上的预定网格点
。16.
如权利要求
14
或权利要求
15
所述的方法，其中，所述被扫描区域是位于光刻设备中的晶片的表面，所述传感器是水平传感器，并且处理所述数据所在的所述预定位置是预定的晶片网格点
。17.
一种在光刻设备中获得加速晶片
Z
图的方法，所述方法包括：使用扫描水平传感器来获得晶片的整个表面上的水平测量结果的数据样本的集合；使用由概率密度函数定义的核在时间域和
/
或空间域中对数据进行过滤，在数据集合中的样本的范围内对所述核进行卷积以在整个所述数据集合的范围内在多个位置处对所述样本执行加权平均；和对被过滤的数据应用一阶回归以获得所述多个位置中的每个位置的水平值
。18.
如权利要求
17
所述的方法，其中，在使用由概率密度函数定义的核在时间域和

【专利技术属性】
技术研发人员：C，
申请(专利权)人：ASML，
类型：发明
国别省市：