流限制元件及其用途制造技术

本发明专利技术涉及一种流限制元件，该流限制元件包括：具有大横截面入口和小横截面出口的入口部分；具有小横截面入口和大横截面出口的出口部分，以及具有入口和出口的螺旋形管，其中所述入口连接到所述入口部分的小横截面出口，并且所述出口连接到所述出口部分的小横截面入口

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】流限制元件及其用途
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于
2021
年5月
11
日提交的
EP
申请
21173316.7
，于
2021
年7月9日提交的
EP
申请
21184711.6
和于
2022
年2月2日提交的
EP
申请
22154791.2
的优先权，它们在此全文引入作为参考
。


[0003]本专利技术涉及流限制元件
、
这种流限制元件的用途
、
热调节系统和光刻设备
。

技术介绍

[0004]光刻设备是构造成将期望的图案施加到衬底上的机器
。
光刻设备可用于例如集成电路
(IC)
的制造中
。
光刻设备可以例如将图案形成装置
(
例如掩模
)
处的图案投射到设置在衬底上的辐射敏感材料<br/>(
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种流限制元件，用于减小通过所述流限制元件的流中的流致振动，所述流限制元件包括：具有大横截面入口和小横截面出口的入口部分；具有小横截面入口和大横截面出口的出口部分；以及具有入口和出口的螺旋形管，其中所述入口连接到所述入口部分的所述小横截面出口，并且所述出口连接到所述出口部分的所述小横截面入口
。2.
根据权利要求1所述的流限制元件，其中所述螺旋形管包括螺旋曲率半径和内径，其中所述曲率半径与所述内径之间的比大于
5。3.
根据权利要求1或2所述的流限制元件，其中所述入口部分包括入口锥角以及所述大横截面入口与所述小横截面出口之间的入口横截面比，并且其中：当所述入口横截面积比等于或小于3时，所述入口锥角等于或小于
60
度，并且当所述入口横截面积比大于3时，所述入口锥角等于或小于
30
度
。4.
根据前述权利要求中任一项所述的流限制元件，其中所述出口部分包括出口锥角和所述大横截面出口与所述小横截面入口之间的出口横截面比，并且其中：当所述出口横截面积比等于或小于3时，所述出口锥角等于或小于7度，当所述出口横截面积比大于3且等于或小于8时，所述出口锥角等于或小于5度，并且当所述出口横截面积比大于8时，从所述小横截面入口开始的所述出口锥角等于约5度直到出口横截面积比为8，随后突然阶跃到所述大横截面出口的直径
。5.
根据前述权利要求中任一项所述的流限制元件，其中所述螺旋形管包括：
0.25m
至
10m
的螺旋管长度和
0.5mm
至
10mm
的内径
。6.
根据权利要求5所述的流限制元件，其中所述螺旋管长度与所述内径之间的比是至少
25。7.
根据前述权利要求中任一项所述的流限制元件，其中通过所述流限制元件的流量为每分钟
0.5
升至4升
。8.
...

【专利技术属性】
技术研发人员：R，
申请(专利权)人：ASML，
类型：发明
国别省市：