评估系统和评估方法技术方案

公开了评估系统和方法

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】评估系统和评估方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于
2021
年5月
12
日提交的
EP
申请
21173657.4
和于
2021
年5月
20
日提交的
EP
申请
21175090.6
的优先权，其通过引用整体并入本文
。


[0003]本文中所提供的各实施例涉及评估系统和方法，其使用带电粒子
(
具体地，电子
)
例如通过检测从样品发射的信号电子来评估样品
。

技术介绍

[0004]当制造半导体集成电路
(IC)
芯片时，由于例如光学效应和偶然粒子所导致的非期望图案缺陷在制作过程期间不可避免地会出现在衬底
(
即，晶片
)
或掩模上，从而降低了产率
。
因此，监测非期望图案缺陷的程度是制造
IC
芯片时的重要过程
。
更一般地，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种评估系统，被配置为将以多射束布置的子射束中的带电粒子朝向样品引导，所述系统包括：多个控制电极，限定控制透镜阵列，所述控制透镜阵列中的每个控制透镜与所述多射束的相应子射束的子射束路径对准，并且被配置为对所述相应子射束进行操作；多个物镜电极，限定物镜阵列，所述物镜阵列被配置为将所述子射束引导到样品上，所述物镜阵列中的每个物镜与子射束路径对准，所述子射束路径与相应控制透镜对准；以及控制器，被配置为通过向所述控制电极和所述物镜电极施加对应电位来针对所述多射束的子射束实施多个可选择着陆能量，其中所述控制器被配置为选择所述对应电位，使得所述系统的图像平面与所有所述控制电极和物镜电极之间的空间关系对于所述可选择着陆能量中的每一者是相同的
。2.
根据权利要求1所述的系统，被配置为接收用户输入，并且其中所述控制器被配置为至少部分基于所接收的所述用户输入来选择所述可选择着陆能量
。3.
根据权利要求1或2所述的系统，其中所述控制器被配置为至少部分基于预定程序或一个或多个输入参数来选择所述可选择着陆能量
。4.
根据任一前述权利要求所述的系统，其中所述多个可选择着陆能量包括至少一个连续着陆能量范围或多个预定离散着陆能量
。5.
根据任一前述权利要求所述的系统，其中所述控制器被配置为：针对所述可选择着陆能量的至少一部分，向如下的控制电极施加相同电位，所述控制电极被配置为离所述样品最远并且作为与所述子射束的所述子射束路径对准的至少所述控制透镜的部分
。6.
根据任一前述权利要求所述的系统，其中所述控制器被配置为：针对所述可选择着陆能量的至少一部分中的每一者，向如下的物镜电极施加不同的电位，所述物镜电极被配置为离所述样品最远并且作为与所述子射束的所述子射束路径对准的至少所述物镜的部分，每个电位被选择为在所述物镜电极与所述系统的图像平面之间提供相同的距离
。7.
根据任一前述权利要求所述的系统，其中所述控制器被配置为通过至少控制施加到如下的物镜电极的电位来选择每个可选择着陆射束能量，所述物镜电极被配置为最接近所述样品并且作为与所述子射束的所述子射束路径对准的至少所述物镜的部分
。8.
根据任一前述权利要求所述的系统，其中所述控制器被配置为...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：ASML，
类型：发明
国别省市：