【技术实现步骤摘要】
半导体结构及其制备方法
[0001]本申请涉及半导体领域,特别是涉及一种半导体结构及其制备方法
。
技术介绍
[0002]在传统半导体制造工艺中,通常需要晶圆上布置半导体器件阵列,并在相邻半导体器件之间设置切割道
。
这样在完成半导体器件的工艺制程后,可以沿切割道对晶圆进行切割,以获得单个半导体器件
。
[0003]然而,在沿切割道对晶圆进行切割时,会不可避免地产生应力冲击,容易在切割道边缘产生裂缝
、
缺口等不良缺陷
。
并且,随着半导体器件的使用,此类缺陷还容易进一步地延伸至半导体器件内,对半导体器件造成严重破坏
。
[0004]因此,如何对半导体结构及其制备方法进行改进,以减少切割应力的不利影响,是亟需解决的问题
。
技术实现思路
[0005]基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种半导体结构及其制备方法,可以减少切割应力的不利影响,从而提高半导体器件的性能稳定性
。
[0006]一方面,本申请实施例提供了一种半导体结构,包括:衬底
、
第一密封结构
、
第二密封结构
、
第一保护层以及第二保护层
。
衬底具有器件区
、
切割区以及位于器件区和切割区之间的过渡区
。
第一密封结构和第二密封结构分别位于过渡区,且第二密封结构位于第一密封结构远离器件区的一侧
。
第一保护层覆盖第 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种半导体结构,其特征在于,包括:衬底,所述衬底具有器件区
、
切割区以及位于所述器件区和所述切割区之间的过渡区;第一密封结构和第二密封结构,分别位于所述过渡区,且所述第二密封结构位于所述第一密封结构远离所述器件区的一侧;第一保护层,覆盖所述第一密封结构和所述第二密封结构;第二保护层,覆盖所述第一保护层;其中,所述第一密封结构和所述第二密封结构均包括:沿背离所述衬底方向交替层叠的多个金属层和多个支撑层;所述第二密封结构中所述金属层的堆叠层数小于所述第一密封结构中所述金属层的堆叠层数;所述第二密封结构上的所述第二保护层具有应力释放缺口
。2.
根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述应力释放缺口的深度小于所述第二保护层的厚度
。3.
根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述支撑层包括:介质层,位于相邻所述金属层之间且具有至少一个连接通孔和
/
或连接沟槽;连接结构,设置于所述连接通孔和
/
或连接沟槽内并与所述介质层相邻的所述金属层相连接;其中,各所述支撑层中所述连接通孔的径向尺寸相同
。4.
根据权利要求3所述的半导体结构,其特征在于,所述过渡区的所述衬底还具有掺杂区;所述半导体结构还包括:绝缘层,设置于所述掺杂区和所述第一密封结构之间,以及所述掺杂区和所述第二密封结构之间;所述绝缘层具有多个接触通孔;接触插塞,设置于所述接触通孔内并与所述绝缘层相邻的所述掺杂区和所述金属层相连接
。5.
根据权利要求4所述的半导体结构,其特征在于,所述支撑层包括连接通孔;所述接触通孔的径向尺寸与所述支撑层中所述连接通孔的径向尺寸相同
。6.
根据权利要求5所述的半导体结构,其特征在于,还包括:静电防护层,位于所述第一保护层和所述第二保护层之间,且贯穿所述第一保护层与所述第一密封结构中对应的所述金属层相连接
。7.
一种半导体结构的制备方法,其特征在于,包括:提供衬底,所述衬底具有器件区
、
切割区以及位于所述器件区和所述切割区之间的过渡区;于所述过渡区的所述衬底上分别形成第一密封结构和第二密封结构,所述第二密封结构位于所述第一密封结构远离所述器件区的一侧;所述第一密封结构和所述第二密封结构均包括:沿背离所述衬底方向交替层叠的多个金属层和多个支撑层;所述第二密封结构中所述金属层的堆叠层数小于所述第一...
【专利技术属性】
技术研发人员:张振,陈世昌,王焕琛,杨英英,
申请(专利权)人:合肥晶合集成电路股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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