一种亚分辨率辅助图形的添加方法技术

本发明专利技术公开了一种亚分辨率辅助图形的添加方法，属于半导体光学近似修正技术领域

【技术实现步骤摘要】
一种亚分辨率辅助图形的添加方法


[0001]本专利技术涉及半导体光学近似修正
，特别涉及一种亚分辨率辅助图形的添加方法
。

技术介绍

[0002]对于集成电路的金属层，其版图中既有图形密度较高的密集图形组，又有图形密度较低的孤立图形组，而
T
型开口图形往往处于版图中孤立位置，密集图形组与孤立图形组的工艺窗口不匹配，相对地降低了
T
型开口图形的工艺窗口
。
[0003]在金属层的版图中，
T
型开口图形往往包括横向图形1和纵向图形2，如图1所示的横向图形1和纵向图形2，纵向图形2一般分布在横向图形1的两侧，且横向图形1和纵向图形2之间具有一定的间距，导致横向图形1在其两侧没有分布纵向图形2和在其两侧分布有纵向图形2的位置处的衍射图谱分布有差异，衍射谱分布差异将导致两者的工艺窗口的不匹配，更进一步地减小了版图的工艺窗口，提高光刻工艺的难度
。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种亚分辨率辅助图形的添加方法，以解决版图中
T
型开口处图形光学衍射不匹配所造成的图形对比度低，工艺窗口减小的问题
。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种亚分辨率辅助图形的添加方法，包括以下步骤：
[0006]提供一集成电路版图，所述集成电路版图上具有相互垂直的横向方向和纵向方向；
[0007]自所述集成电路版图中筛选出金属层的
T
型开口图形，对所述
T
型开口图形进行第一光学邻近效应修正，其中，所述
T
型开口图形包括至少两个横向主图形和至少一个纵向图形，且至少一个所述横向主图形的周围分布有所述纵向图形；
[0008]在所述横向主图形纵向方向上的至少一侧设置亚分辨率辅助图形组；
[0009]对所有的图形进行第二光学邻近效应修正，所述亚分辨率辅助图形组包括至少三种亚分辨率辅助图形，每种所述亚分辨率辅助图形与所述横向主图形在纵向方向上距离不同
。
[0010]优选地，所述纵向图形设置若干个且与所述横向主图形不相连，在部分的所述横向主图形纵向方向上的至少一侧分布有所述纵向图形，位于所述横向主图形同侧的多个所述纵向图形等尺寸且等间距分布
。
[0011]优选地，所述亚分辨率辅助图形均为矩形且在横向方向上的长度大于在纵向方向上的长度
。
[0012]优选地，每种所述亚分辨率辅助图形设置若干个，同种所述亚分辨率辅助图形在横向方向上间隔排布，同种所述亚分辨率辅助图形在横向方向上的长度相同或不同，不同种所述亚分辨率辅助图形在纵向方向上具有间隔，沿远离所述横向主图形的方向，所述亚
分辨率辅助图形在横向方向上的长度递增
。
[0013]优选地，将相邻的同种所述亚分辨率辅助图形之间在横向方向上的距离记为横向间距，相邻的不同种所述亚分辨率辅助图形之间在纵向方向上的距离记为纵向间距，沿远离所述横向主图形的方向，所述横向间距递增或相同，所述纵向间距递增或相同
。
[0014]优选地，所述亚分辨率辅助图形组包括三种亚分辨率辅助图形，分别将其记为第一亚分辨率辅助图形
、
第二亚分辨率辅助图形和第三亚分辨率辅助图形，向所述横向主图形的至少一侧依次插入所述第一亚分辨率辅助图形
、
所述第二亚分辨率辅助图形和所述第三亚分辨率辅助图形，所述第三亚分辨率辅助图形位于所述第一亚分辨率辅助图形和所述第二亚分辨率辅助图形之间，所述第一亚分辨率辅助图形位于所述第三亚分辨率辅助图形靠近所述横向主图形的一侧，且所述第一亚分辨率辅助图形与所述第三亚分辨率辅助图形在纵向方向上的间距大于或等于所述第二亚分辨率辅助图形与所述第三亚分辨率辅助图形在纵向方向上的间距
。
[0015]优选地，所述第一亚分辨率辅助图形
、
第二亚分辨率辅助图形和所述第三亚分辨率辅助图形均为矩形且在横向方向上的长度大于在纵向方向上的长度，所述第一亚分辨率辅助图形在横向方向上的长度小于所述第三亚分辨率辅助图形的长度，所述第三亚分辨率辅助图形在横向方向上的长度小于所述第二亚分辨率辅助图形在横向方向上的长度
。
[0016]优选地，所述第一亚分辨率辅助图形
、
第二亚分辨率辅助图形和所述第三亚分辨率辅助图形均为矩形且在横向方向上的长度大于在纵向方向上的长度，相邻两个所述第一亚分辨率辅助图形在横向方向上的间距不大于相邻两个所述第三亚分辨率辅助图形在横向方向上的间距，相邻两个所述第三亚分辨率辅助图形在横向方向上的间距不大于相邻两个所述第二亚分辨率辅助图形在横向方向上的间距
。
[0017]优选地，所述亚分辨率辅助图形在横向方向上的长度在
100
～
120nm
之间，和
/
或，所述亚分辨率辅助图形在纵向方向上的宽度在8～
15nm
之间，和
/
或，相邻两个所述亚分辨率辅助图形在横向方向上的间距在
20
～
40nm
之间
。
[0018]优选地，基于规则插入技术向所述横向主图形纵向方向上的至少一侧设置所述亚分辨率辅助图形组
。
[0019]在本专利技术提供的亚分辨率辅助图形的添加方法中，通过在横向主图形周围设置亚分辨率辅助图形组，能够有效提高金属层
T
型开口图形的对比度，增大金属层中
T
型开口图形的工艺窗口，降低其工艺波动带宽值，提高了金属层
T
型开口图形质量
。
附图说明
[0020]图1是现有技术版图上的金属层
T
型开口图形；
[0021]图2是添加第一亚分辨率辅助图形
、
第二亚分辨率辅助图形和第三亚分辨率辅助图形后的金属层
T
型开口图形；
[0022]图3是添加第四亚分辨率辅助图形后的金属层；
[0023]图4是沿图2中
B
‑
B
’
处拟合光强分布部位以及沿图3中
A
‑
A
’
处拟合光强分布部位的金属层
T
型开口图形的
cutline
结果；
[0024]图5是在添加第一亚分辨率辅助图形
、
第二亚分辨率辅助图形和第三亚分辨率辅助图形的情况下利用模型计算不同光刻条件得到的工艺波动带宽值；
[0025]图6是在添加第四亚分辨率辅助图形的情况下利用模型计算不同光刻条件得到的工艺波动带宽值
。
[0026]图中，
[0027]1、
横向图形；
2、
纵向图形
。
[0028]11、
横向主图形；
12、
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种亚分辨率辅助图形的添加方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一集成电路版图，所述集成电路版图上具有相互垂直的横向方向和纵向方向；自所述集成电路版图中筛选出金属层的
T
型开口图形，对所述
T
型开口图形进行第一光学邻近效应修正，其中，所述
T
型开口图形包括至少两个横向主图形和至少一个纵向图形，且至少一个所述横向主图形的周围分布有所述纵向图形；在所述横向主图形纵向方向上的至少一侧设置亚分辨率辅助图形组；对所有的图形进行第二光学邻近效应修正，所述亚分辨率辅助图形组包括至少三种亚分辨率辅助图形，每种所述亚分辨率辅助图形与所述横向主图形在纵向方向上距离不同
。2.
如权利要求1所述的亚分辨率辅助图形的添加方法，其特征在于，所述纵向图形设置若干个且与所述横向主图形不相连，在部分的所述横向主图形纵向方向上的至少一侧分布有所述纵向图形，位于所述横向主图形同侧的多个所述纵向图形等尺寸且等间距分布
。3.
如权利要求1所述的亚分辨率辅助图形的添加方法，其特征在于，所述亚分辨率辅助图形均为矩形且在横向方向上的长度大于在纵向方向上的长度
。4.
如权利要求1所述的亚分辨率辅助图形的添加方法，其特征在于，每种所述亚分辨率辅助图形设置若干个，同种所述亚分辨率辅助图形在横向方向上间隔排布，同种所述亚分辨率辅助图形在横向方向上的长度相同或不同，不同种所述亚分辨率辅助图形在纵向方向上具有间隔，沿远离所述横向主图形的方向，所述亚分辨率辅助图形在横向方向上的长度递增
。5.
如权利要求1所述的亚分辨率辅助图形的添加方法，其特征在于，将相邻的同种所述亚分辨率辅助图形之间在横向方向上的距离记为横向间距，相邻的不同种所述亚分辨率辅助图形之间在纵向方向上的距离记为纵向间距，沿远离所述横向主图形的方向，所述横向间距递增或相同，所述纵向间距递增或相同
。6.
如权利要求1所述的亚分辨率辅助图形的添加方法，其特征在于，所述亚分辨率辅助图形组包括三种亚分辨率辅助图形，分别将其记为第一亚分辨率辅助图形
、
第二亚分辨率辅助图形和第三亚分辨率辅助图形，向所述横向主图形的至少一侧依次...

【专利技术属性】
技术研发人员：危韦，祝璐，于世瑞，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：