单晶炉装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种硅单晶制造装置，特别是涉及一种单晶炉装置。其包括设置在石英坩埚上方围绕晶棒且下部直径小于上部直径的热屏，使用了至少以降低消耗电力为目的的断热材和以提高晶棒冷却效果提高拉晶速度为目的的反射板，通过将晶棒表面的辐射热向上反射，达到提高晶棒冷却的效果，由此能够实现拉晶速度的提高，进而达到缩短拉晶时间，从而提高生产效率的功效。也就是说，本发明专利技术采用在现有的热屏结构的内侧直接放置有反射板，不需要重新设置连接部，实现方便，且结构简单。还有，本发明专利技术的断热材的外部都包覆有物质（如石墨布），防止垃圾掉入石英坩埚。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种硅单晶制造装置，特别是涉及一种单晶炉装置。技术背景 单晶硅一般用CZ法制造。CZ法指的是在单晶炉内设置石英坩埚，并将硅料装入 石英坩埚内，再依靠安装在石英坩埚周围的加热器使硅料熔化，后把安装在籽晶夹头上的 籽晶进入熔液，并通过籽晶夹头与石英坩埚的相互逆转进而制造出规定直径和长度的单晶 棒。此时，为了遮蔽熔液的热量，在石英坩埚上方设置围绕单晶棒的热屏。也就是说，现有的单晶炉装置通常包括热屏。请参阅图1，该热屏13可以是由热屏 罩21和断热材22所组成。断热材22环绕拉晶中的单晶棒11，断热材22的外周可以全部 被热屏罩21覆盖，也可以是断热材22的外周和内周全部被热屏罩21覆盖。热屏13位于 石英坩埚12的上方。为了缩短拉晶时间，进而提高生产效率，目前最有效的方法是提高拉晶速度。而若 要提高拉晶速度，则最需要解决的问题就是单晶棒的冷却速率。在2001年10月2日公开 的特开2001-270797的日本专利中，公开了一种由Wacker-NSEC株式会社申请的专利技术名称 为“硅单晶制造装置”的专利，其装置设置有辐射热反射体和辐射热遮蔽体，辐射热反射体 环绕拉晶中的单晶棒，上部为环状，下部向下直径渐小，辐射热遮蔽体环绕在辐射热反射体 外侧。该辐射热遮蔽体和辐射热反射体有2处连接部连接，连接部以外没有相互接触。这种装置虽然能够在一定程度上提升单晶棒的冷却速率，但是还是存在以下问 题首先，上述专利申请中，是通过在辐射热遮蔽体的最上端部设置一支撑连接部，通 过该支撑连接部使得辐射热反射体能够位于辐射热遮蔽体的内侧，进而能够实现环绕拉晶 中的单晶棒的目的。这种结构比较复杂，并且还需要达到申请文件中提到的“该辐射热反射 体的缩径部最下部，至少为缩径部最高部的十分之一，并相对于水平面要有40度至50度的 倾斜”，实现起来具有一定的难度。接着，辐射热遮蔽体的材料通常为石墨，该辐射热遮蔽体和辐射热反射体有2处 连接部连接时，辐射热遮蔽体和辐射热反射体之间不是全贴合的，因此，在拉晶过程中，辐 射热遮蔽体容易将细小的石墨粒掉入熔液中，进而影响生产出来的单晶棒的品质。再次，在该专利文件中公开的辐射热反射体主要指石墨或CC复合材料的表面上 涂覆反射层，反射层就是申请文件中说的被辐射率为0. 5以下的素材。石墨或CC复合材料 直接涂覆反射层，若涂覆的反射层均勻，需要的工艺要求高，若涂覆的反射层不均勻，则反 射热量的效果就有可能打折扣。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种单晶炉装置，以达到提高晶棒的冷却效率，进而提高 拉晶速率的技术目的。本专利技术提供一种单晶炉装置，包括热屏和石英坩埚，热屏是由断热材、反射板组 成，断热材设置在石英坩埚的上方，其下部直径小于上部直径，断热材的内侧放置有反射 板，反射板环绕拉晶中的晶棒，反射板与断热材之间未预留空间，断热材的外表面贴设石墨布。反射板的材质可采用即使长时间暴露在高温中变形仍然很小、辐射率很低的钼或 者钨。并且，为了提高反射热量的效率，反射板可采用作过镜面处理的反射板。为了增加隔热的功效，在热屏上部可设置上部断热材。与现有技术相比，本专利技术具有以下的优势首先，本专利技术关于设置在石英坩埚上方围绕晶棒且下部直径小于上部直径的热 屏，使用了至少以降低消耗电力为目的的断热材和以提高晶棒冷却效果提高拉晶速度为目 的的反射板，通过将晶棒表面的辐射热向上反射，达到提高晶棒冷却的效果，由此能够实现 拉晶速度的提高，进而达到缩短拉晶时间，从而提高生产效率的功效。接着，本专利技术采用在现有的热屏结构的内侧直接放置有反射板，不需要重新设置 连接部，实现方便，且结构简单。再次，本专利技术的断热材的外部都包覆有石墨布，防止垃圾掉入石英坩埚。其次，本专利技术的反射板可采用作过镜面处理的反射板，进一步提升将晶棒表面的 辐射热向上反射的效率。最后，本专利技术直接采用采用即使长时间暴露在高温中变形仍然很小、辐射率很低 的钼或者钨作为反射板，而不是在现有的石墨上设置有涂层来作为反射层，反射板的稳定 性更高。附图说明图1为现有单晶炉装置的结构示意图；图2为本专利技术单晶炉装置中热屏的结构示意图。具体实施例方式以下结合附图，进一步说明本专利技术。实施例请参阅图2，其为第一种单晶炉装置中热屏的实施例结构示意图。单晶炉装置包括 热屏和石英坩埚。热屏是由断热材32、反射板33组成，断热材32设置在石英坩埚的上方， 其下部直径小于上部直径，断热材32的内侧放置有反射板33，反射板33环绕拉晶中的晶 棒，反射板33与断热材32之间未预留空间，断热材32的外表面贴设石墨布31。同样，反射板32的材质可采用即使长时间暴露在高温中变形仍然很小、辐射率很 低的钼或者钨。并且，将反射板32为作过镜面处理。还有，热屏上部设置上部断热材34。在本实例中，最佳的方案是反射板33与断热材齐高。还有，反射板33呈现一上面大、下面小的圆台形状。另外，整个热屏都是呈现上面大、下面非常小的圆台形状，因此反射板33直接放 在断热材32上即可。本专利技术通过实验，得到了如下结果。95kg装料、拉制直径6. 5英寸的晶棒时，使用本专利技术的热屏，将平均拉速由以前的 0. 95mm/min提高至1. 4mm/min实现了高速拉晶、拉晶时间缩短8. 7小时。拉晶时的电力消 耗降低了 35%。权利要求一种单晶炉装置，包括热屏和石英坩埚，其特征在于，所述热屏是由断热材、反射板组成，断热材设置在石英坩埚的上方，其下部直径小于上部直径，断热材的内侧放置有反射板，反射板板环绕拉晶中的晶棒，反射板与断热材之间未预留空间，断热材的外表面贴设石墨布。2.如权利要求1所述的单晶炉装置，其特征在于，反射板采用即使长时间暴露在高温 中变形仍然很小、辐射率很低的钼或者钨。3.如权利要求1所述的单晶炉装置，其特征在于，反射板为作过镜面处理的反射板。4.如权利要求1所述的单晶炉装置，其特征在于，热屏上部设置上部断热材。5.如权利要求1所述的单晶炉装置，其特征在于，反射板呈下部小上部大的圆台状。全文摘要本专利技术涉及一种硅单晶制造装置，特别是涉及一种单晶炉装置。其包括设置在石英坩埚上方围绕晶棒且下部直径小于上部直径的热屏，使用了至少以降低消耗电力为目的的断热材和以提高晶棒冷却效果提高拉晶速度为目的的反射板，通过将晶棒表面的辐射热向上反射，达到提高晶棒冷却的效果，由此能够实现拉晶速度的提高，进而达到缩短拉晶时间，从而提高生产效率的功效。也就是说，本专利技术采用在现有的热屏结构的内侧直接放置有反射板，不需要重新设置连接部，实现方便，且结构简单。还有，本专利技术的断热材的外部都包覆有物质(如石墨布)，防止垃圾掉入石英坩埚。文档编号C30B15/00GK101838842SQ20101011234公开日2010年9月22日 申请日期2010年2月23日 优先权日2010年2月23日专利技术者河野贵之, 舟桥启, 贺贤汉 申请人:上海汉虹精密机械有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单晶炉装置，包括热屏和石英坩埚，其特征在于，所述热屏是由断热材、反射板组成，断热材设置在石英坩埚的上方，其下部直径小于上部直径，断热材的内侧放置有反射板，反射板板环绕拉晶中的晶棒，反射板与断热材之间未预留空间，断热材的外表面贴设石墨布。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：舟桥启，贺贤汉，河野贵之，
申请(专利权)人：上海汉虹精密机械有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]