本实用新型专利技术公开了一种兆声波清洗装置的水槽结构，包括设置于兆声波盛水盘内的内槽、以及设置于内槽外侧并使其上边沿低于内槽上边沿的外槽，内槽的上部设置有管口贯穿外槽的水阻值计套管、下部设置有内槽进液管和内槽排液管，所述外槽的底部设计成前高后低的倾斜结构，且所述外槽后部的最低点处连接有外槽排液管，所述外槽排液管的排液流量大于所述内槽进液管的进液流量。本实用新型专利技术通过在内槽的外侧设置导流用的外槽，可使内槽内的液体溢流进外槽，避免溢流液体对兆声波装置造成影响，确保兆声波能够更好的去除晶圆片上的附着颗粒物，有效保证了晶圆清洗效率。有效保证了晶圆清洗效率。有效保证了晶圆清洗效率。
【技术实现步骤摘要】
一种兆声波清洗装置的水槽结构
[0001]本技术涉及半导体生产
，尤其涉及一种兆声波清洗装置的水槽结构。
技术介绍
[0002]晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆；在硅晶片上课加工制作出各种电路元件结构，而成为有特定电性功能的IC产品。
[0003]目前槽式清洗设备主要有cassstte type和cassette less两种不同结构。清洗晶圆时，首先向水槽内通入纯水，并保持槽四周的溢流，这个过程可以通过液位传感器去控制；然后机械手抓取晶圆片放入水槽内进行清洗，进水管的出水量和方向会影响槽内的流场，同时兆声波装置持续对特定区域进行震动，一段时间之后，水阻值计会反馈槽内纯水的数值，用以确定此处清洗过程是否完成；最后，在水槽侧方位置安装有快排阀，可以迅速排空槽内液体。
[0004]由于目前清洗水槽基本都是单槽结构，俗称内槽，因此槽内液体经溢流口之后直接顺着槽壁向下，无法导流。受限于兆声波装置的设计原理，盛水盘的面积必须足够大要能够覆盖水槽的底部区域，才能够形成水面震动区域，从而去影响槽内待清洗的晶圆片，去除其表面附着的微粒。但是当槽内纯水溢流出来的时候，会经由槽壁流入盛水盘，这些纯水的进入会对兆声波装置原来的震动效果造成影响，从而会影响水槽内晶圆片的清洗效果。
技术实现思路
[0005]有鉴于此，本技术提供了一种兆声波清洗装置的水槽结构，用以解决传统清洗水槽溢流出的纯水会沿着槽壁流入盛水盘从而影响兆声波装置的震动效果的问题。
[0006]一种兆声波清洗装置的水槽结构，包括设置于兆声波盛水盘内的内槽、以及设置于内槽外侧并使其上边沿低于内槽上边沿的外槽，所述内槽的上部设置有管口贯穿外槽的水阻值计套管、下部设置有内槽进液管和内槽排液管，所述外槽的底部设计成前高后低的倾斜结构，且所述外槽后部的最低点处连接有外槽排液管，所述外槽排液管的排液流量大于所述内槽进液管的进液流量。
[0007]优选地，所述内槽进液管分别设置于内槽槽内两侧且其管口伸出槽外并向中间弯折汇集至与循环管相连通，循环管位于内槽排液管的上方，内槽进液管上开设有若干个等间隔分布的双排孔，双排孔呈特定角度朝向内槽中心面。
[0008]优选地，所述内槽排液管的管口斜向下设置且其外表面设置有设定长度的用以增加快排阀与其之间的安装紧合度的磨砂面。
[0009]优选地，所述水阻值计套管的管口位于兆声波盛水盘外的隔间内。
[0010]优选地，所述外槽排液管的排液方向正对兆声波盛水盘外侧隔间内的空闲区域。
[0011]优选地，所述内槽的底部呈V形、顶部上边沿设置有若干个V形槽口。
[0012]优选地，所述内槽的底部中间设置有鼓泡管安装座。
[0013]优选地，所述外槽的两侧分别设置至少两个支撑座，所述支撑座固定在兆声波盛水盘外侧的隔间支架上，所述水槽结构通过所述支撑座固定在兆声波盛水盘的上方。
[0014]优选地，所述内槽的前、后端面分别设置有传感器安装座，所述传感器安装座上安装有晶圆片落位检测传感器。
[0015]优选地，还包括温度计和液位传感器，温度计和液位传感器安装在内槽内。
[0016]本技术的有益效果是：
[0017]1、通过在内槽的外侧设置导流用的外槽，可使内槽内的液体溢流进外槽，并通过外槽排液管排放到兆声波盛水盘外侧隔间内的空闲区域，避免溢流液体对兆声波装置造成影响，确保兆声波能够更好的去除晶圆片上的附着颗粒物，有效保证了晶圆清洗效率。
[0018]2、通过将外槽的底部设置成倾斜面，在外槽后部的最低点增加外槽排液管，并使外槽排液管的排液流量大于内槽进液管的进液流量，可避免外槽内的液体从其四周溢出，将外槽的上边沿设计为低于内槽的上边沿，可以确保外槽内的液体在任何情况下都不会回流至内槽。
[0019]3、通过在内槽的后部设置内槽排液管，并将内槽排液管设计为下沉结构，可以确保安装快排阀时不会干涉到周围的零部件，同时内槽排液管管口设计的磨砂面可以使快排阀的安装更加紧合。通过将水阻值计套管横穿外槽，可便于水阻值计的安装，以确保水阻值计的正常使用。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0021]图1为本技术的俯视图。
[0022]图2为本技术的立体图。
[0023]图3为本技术安装的侧视图。
[0024]图4为本技术安装的正视图。
[0025]图中标号的含义为：
[0026]1为兆声波盛水盘，2为隔间，3为内槽，4为外槽，5为V形槽口，6为水阻值计套管，7为内槽进液管，8为内槽排液管，9为循环管，10为双排孔，11为传感器安装座，12为鼓泡管安装座，13为外槽排液管，14为支撑座，15为隔间支架，16为快排阀。
具体实施方式
[0027]为了更好的理解本技术的技术方案，下面结合附图对本技术实施例进行详细描述。
[0028]应当明确，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]下面通过具体的实施例并结合附图对本申请做进一步的详细描述。
[0030]在本申请的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“多个”是指两个或两个以上；术语“连接”、“固定”等均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0031]本说明书的描述中，需要理解的是，本申请实施例所描述的“上”、“下”、“左”、“右”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本申请实施例的限定。此外，在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件连接在另一个元件“上”或者“下”时，其不仅能够直接连接在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接连接在另一个元件“上”或者“下”。
[0032]本技术给出一种兆声波清洗装置的水槽结构，包括设置于兆声波盛水盘1内的内槽3、以及设置于内槽3外侧的外槽4。
[0033]所述内槽3为上端开口的矩形槽，内槽3的顶部上边沿设置有若干个V形槽口5，以便其槽内的纯水可以从V形槽口5溢流进入外槽4，不会直接流入兆声波盛水盘1。为了便于排液，内槽3的底部设置成V形，即其底部中间低两侧高。
[0034]所述内槽3的上部设置有管口贯穿外槽4的水阻值计套管6、下部设置有内槽进液管7和内槽排液管8。水阻值计套管6穿过外槽4使其管口位于外槽本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，包括设置于兆声波盛水盘内的内槽、以及设置于内槽外侧并使其上边沿低于内槽上边沿的外槽，所述内槽的上部设置有管口贯穿外槽的水阻值计套管、下部设置有内槽进液管和内槽排液管，所述外槽的底部设计成前高后低的倾斜结构，且所述外槽后部的最低点处连接有外槽排液管，所述外槽排液管的排液流量大于所述内槽进液管的进液流量。2.根据权利要求1所述的兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，所述内槽进液管分别设置于内槽槽内两侧且其管口伸出槽外并向中间弯折汇集至与循环管相连通，循环管位于内槽排液管的上方，内槽进液管上开设有若干个等间隔分布的双排孔，双排孔呈特定角度朝向内槽中心面。3.根据权利要求1或2所述的兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，所述内槽排液管的管口斜向下设置且其外表面设置有设定长度的用以增加快排阀与其之间的安装紧合度的磨砂面。4.根据权利要求1所述的兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，所述水阻值计套管的...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈龙，吴凌峰，刘大威，
申请(专利权)人：江苏启微半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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