一种用于激光直写光刻的定位工作台制造技术

本实用新型专利技术涉及定位运动控制技术领域，具体公开了一种用于激光直写光刻的定位工作台，包括扫描定位运动平台、步进定位运动平台和对准定位运动平台，结构紧凑，设备空间尺寸小，本实用新型专利技术由于所述光路系统移动中心线与步进定位运动平台的中心线相重合，解决了现有激光直接成像设备定位运动平台存在光路系统的曝光中心位置远离定位运动平台中心位置的问题，从而降低了定位运动平台动态特性和阿贝误差对装置位置精度的影响，提高了激光直接成像设备的曝光精度和良率，从而提高了装置的实用性。性。性。

【技术实现步骤摘要】
一种用于激光直写光刻的定位工作台


[0001]本技术属于定位运动控制
，具体为一种用于激光直写光刻的定位工作台。

技术介绍

[0002]目前市场上的机械制造中，激光直接成像技术的成像质量比传统曝光技术更清晰，因此，在中高端印制电路板制造中具有明显优势。其中，激光直接成像技术是将线路图形以激光束的形式直接投影在涂有光致抗蚀剂的电路板上，从而实现图形转移光刻在电路板上。此技术节省了制作菲林底片或光罩的工序，实现了产能高、对位精度高、曝光质量好的优点。
[0003]但是上述中的现有技术方案存在以下缺陷：现有技术中的激光直接成像设备的定位运动平台主要包含扫描定位运动平台、步进定位运动平台、对准定位运动平台，其中，步进定位运动平台上部移动的光路系统悬臂固定安装，光路系统安装在光路安装底板侧边，光路系统的曝光中心位置远离步进定位运动平台的中心位置。同时，步进定位运动平台和对准定位运动平台安装大理石为分离结构，考虑到大理石的长期稳定性及变形量较小，步进定位运动平台和对准定位运动平台的大理石尺寸做的较大，并且增大扫描定位运动平台的有效行程，进一步导致光路系统的曝光中心位置离定位平台的运动中心位置越来越远，阿贝误差(是指测量仪器的轴线与待测工件的轴线须在同一直线上，否则即产生误差，此误差称为阿贝误差)值也越大，从而使激光直接成像设备曝光精度的误差越大，降低了直写光刻机的曝光良率。

技术实现思路

[0004]本技术实施例的目的在于提供一种用于激光直写光刻的定位工作台，以解决上述
技术介绍
中提出的现有激光直接成像设备定位运动平台存在光路系统的曝光中心位置远离定位运动平台中心位置的问题。
[0005]本技术实施例是这样实现的，一种用于激光直写光刻的定位工作台，包括扫描定位运动平台，所述用于激光直写光刻的定位工作台还包括：
[0006]位于扫描定位运动平台上方的步进定位运动平台以及对准定位运动平台；以及
[0007]光路系统，设置在所述步进定位运动平台上，所述步进定位运动平台用于带动光路系统进行步进运动曝光；其中，所述光路系统移动中心线与步进定位运动平台的中心线相重合。
[0008]优选的，所述用于激光直写光刻的定位工作台包括扫描定位运动平台，所述扫描定位运动平台安装在扫描底座上，所述用于激光直写光刻的定位工作台还包括：
[0009]垂直升降轴，设置在所述扫描定位运动平台上，所述垂直升降轴上安装有工作吸盘，所述工作吸盘用于放置待加工或检测的工件；
[0010]步进定位运动平台以及对准定位运动平台，所述扫描底座上部边缘位置设置有步
进底座，所述步进定位运动平台和所述对准定位运动平台安装在同一个步进底座上；
[0011]其中，所述步进定位运动平台上设置有光路系统，所述步进定位运动平台用于带动光路系统进行步进运动曝光；所述对准定位运动平台输出端设置有用于定位测量待加工或检测的工件的CCD测量设备；所述扫描定位运动平台用于载着垂直升降轴相对于所述扫描底座进行正反向移动。
[0012]优选的，所述对准定位运动平台包括限位运动导轨，所述限位运动导轨上设置有可沿所述限位运动导轨边线方向移动的对准运动组件，所述对准运动组件用于承载着所述CCD测量设备。
[0013]优选的，所述步进定位运动平台包含直线导轨、直线电机定子、直线电机动子、直线光栅尺、读数头以及光路安装底板，所述直线导轨安装在步进底座上部，所述光路安装底板安装在直线导轨上，所述光路系统安装在光路安装底板上。
[0014]本技术的有益效果是：
[0015]与现有技术相比，本技术实施例提供的用于激光直写光刻的定位工作台，包括扫描定位运动平台、步进定位运动平台和对准定位运动平台，结构紧凑，设备空间尺寸小，由于所述光路系统移动中心线与步进定位运动平台的中心线相重合，从而降低了定位运动平台动态特性和阿贝误差对装置位置精度的影响，提高了激光直接成像设备的曝光精度和良率，从而提高了装置的实用性。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例。
[0017]图1为本技术一实施例提供的用于激光直写光刻的定位工作台的结构示意图。
[0018]图2为本技术一实施例提供的用于激光直写光刻的定位工作台中步进定位运动平台的结构示意图。
[0019]图3为本技术一实施例提供的用于激光直写光刻的定位工作台中步进定位运动平台的中空结构的剖视图。
[0020]图4为本技术一实施例提供的用于激光直写光刻的定位工作台中对准定位运动平台的结构示意图。
[0021]图中：1
‑
扫描定位运动平台；2
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步进定位运动平台；3
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对准定位运动平台；4
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光路系统；5
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光路安装底板；6
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步进底座；7
‑
扫描底座；8
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垂直升降轴；9
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工作吸盘；10
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直线导轨；11
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直线电机定子；12
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直线电机动子；13
‑
直线光栅尺；14
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读数头；15
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对准运动组件；16
‑
CCD测量设备。
具体实施方式
[0022]为了使本技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，下面将结合本实用实施例中的附图，对本实用实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用中的实
施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用保护的范围。
[0023]在本技术的描述中，需要理解的是，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。以上这些指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0024]以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于激光直写光刻的定位工作台，包括扫描定位运动平台(1)，其特征在于，所述用于激光直写光刻的定位工作台还包括：位于扫描定位运动平台(1)上方的步进定位运动平台(2)以及对准定位运动平台(3)；以及光路系统(4)，设置在所述步进定位运动平台(2)上，所述步进定位运动平台(2)用于带动光路系统(4)进行步进运动曝光；其中，所述光路系统(4)移动中心线与步进定位运动平台(2)的中心线相重合。2.根据权利要求1所述的一种用于激光直写光刻的定位工作台，其特征在于，所述对准定位运动平台(3)包括限位运动导轨，所述限位运动导轨上设置有可沿所述限位运动导轨边线方向移动的对准运动组件(15)。3.根据权利要求2所述的一种用于激光直写光刻的定位工作台，其特征在于，所述用于激光直写光刻的定位工作台还包括垂直升降轴(8)，该垂直升降轴设置在所述扫描定位运动平台(1)上，所述垂直升降轴(8)上安装有工作吸盘(9)，所述扫描定位运动平台(1)用于载着垂直升降轴(8)进行正反向移动。4.根据权利要求3所述的一种用于激光直写光刻的定位工作台，其特征在于，所述扫描定位运动平台(1)安装在扫描底座(7)上，所述扫描底座(7)上部边缘位置设置有步进底座(6)，所述步进定位运动平台(2)和所述对准定位运动平台(3)安装在同一个步进底座(6)上。5.根据权利要求4所述的一种用于激光直写光刻的定位工作台，其特征在于，所述步进定位运动平台...

【专利技术属性】
技术研发人员：李辉，
申请(专利权)人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：