真空蒸镀装置用蒸镀源制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种真空蒸镀装置用蒸镀源，其在使蒸镀物质蒸发而对被蒸镀物进行蒸镀时，能够增加每单位时间的蒸发量，对被蒸镀物的蒸镀速率高。本发明专利技术的真空蒸镀装置(Dm)用蒸镀源(DS)配置在真空室内(1)，用于使固体的蒸镀物质蒸发而对被蒸镀物进行蒸镀，具备：坩埚(4)，其可收纳蒸镀物质(Ms)，具有将蒸发的蒸镀物质向被蒸镀物(Sw)放出的放出口(41)；以及加热装置(6)，其可加热坩埚内的蒸镀物质；在坩埚内具备蒸发促进部(5)，该蒸发促进部(5)设置为一部分(5a)被通过加热而熔化的蒸镀物质(Ml)浸渍，并且其剩余部分(5b)距离坩埚内表面(42)留有间隙(D1)地设置。间隙(D1)地设置。间隙(D1)地设置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空蒸镀装置用蒸镀源


[0001]本专利技术涉及一种真空蒸镀装置用蒸镀源，其配置在真空室内，用于使固体蒸镀物质蒸发，对被蒸镀物进行蒸镀。

技术介绍

[0002]例如在有机EL元件制造工序中，有下述工序，即在真空气氛中对基板等被蒸镀物蒸发α
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NPD、2
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TNATA等固体的蒸镀物质(有机材料)而在被蒸镀物表面上蒸镀规定的薄膜的工序，在蒸镀工序一般使用真空蒸镀装置。在这样的真空蒸镀装置中使用的蒸镀源例如在专利文献1中已知。该蒸镀源具备：在铅垂方向上表面开口的坩埚；以及加热坩埚的感应线圈等加热机构(参照现有技术一栏)。
[0003]利用上述现有例子的蒸镀源，当在坩埚内填充例如粉末状的蒸镀物质，在真空气氛中利用加热装置加热坩埚时，坩埚内的蒸镀物质在熔化后会气化，但此时，蒸镀物质仅会从面对坩埚的上表面开口的液面气化。因此，会有在同一压力下的每单位时间的蒸发量少、对被蒸镀物的蒸镀速率低(即生产率低)的问题。在这种情况下，可以考虑提高坩埚的加热温度，但根据使用的蒸镀物质(有机材料)不同，有的如果提高加热温度，则蒸镀物质会在蒸镀源分解，不能蒸镀具有决定元件性能的所需薄膜质量的薄膜。因此，作为真空蒸镀装置的蒸镀源，近年来要求开发能够得到高蒸镀速率的蒸镀源。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]【专利文献1】日本专利公开2010
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1529号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的技术问题
[0008]鉴于以上问题，本专利技术要解决的技术问题是提供一种真空蒸镀装置用蒸镀源，其在使蒸镀物质蒸发而对被蒸镀物进行蒸镀时，能够增加每单位时间的蒸发量，对被蒸镀物的蒸镀速率高。
[0009]解决技术问题的手段
[0010]为了解决上述技术问题，本专利技术的真空蒸镀装置用蒸镀源配置在真空室内，用于使固体的蒸镀物质蒸发而对被蒸镀物进行蒸镀，其特征在于，具备：坩埚，其可收纳蒸镀物质，具有将蒸发的蒸镀物质向被蒸镀物放出的放出口；以及加热装置，其可加热坩埚内的蒸镀物质；在坩埚内具备蒸发促进部，该蒸发促进部设置为一部分被通过加热而熔化的蒸镀物质浸渍，并且其剩余部分距离坩埚内表面留有间隙地设置。
[0011]采用本专利技术，当在坩埚内例如以规定的填充率填充粉末状的蒸镀物质，在真空气氛中利用加热装置加热坩埚时，坩埚内的蒸镀物质熔化。此时，熔化的蒸镀物质的一部分通过毛细管效应被吸引到坩埚内表面和蒸发促进部的坩埚侧的表面之间的间隙中并涌起。由此，在从用坩埚熔化的蒸镀物质的液面气化的物质上，加入从吸引到间隙的蒸镀物质气化
的物质，由此蒸镀物质的蒸发量与上述现有例子的物质相比增加，能够提高对被蒸镀物的蒸镀速率。另外，虽然间隙大小没有特别限定，只要表现出毛细管效应即可，但可设置在100μm以下，更优选60μm以下。在这种情况下，坩埚内表面和蒸发促进部的坩埚侧的表面之间的间隙不需要在其整体上均等地设置，也可例如部分地(点)接触。另外，作为蒸发促进部，优选不妨碍从用坩埚熔化的蒸镀物质的液面气化的物质飞散的形状，例如可以利用不锈钢材质的板材本身，或者根据坩埚内表面轮廓使板材弯曲或弯折的部件。
[0012]另外，在本专利技术中，所述坩埚具有在上表面开口的有底筒状的轮廓，所述蒸发促进部由在坩埚的内底面上以沿上下方向延伸的姿势竖立设置的网状部件构成，可以采用熔化的蒸镀物质通过毛细管效应而浸透其剩余部分的结构。在这种情况下，所述网状部件优选具有与所述坩埚的内侧面对应的轮廓。由此，在坩埚内的蒸镀物质熔化时，熔化的蒸镀物质也通过毛细管效应浸透到从熔化的蒸镀物质露出到坩埚内的空间的蒸发促进部的剩余部分，该浸透的蒸镀物质气化，从放出口向被蒸镀物飞散。因此，通过再加上从蒸发促进部气化的物质，蒸镀物质的蒸发量与上述现有例的物质相比显著增加，能够提高对被蒸镀物的蒸镀速率。
[0013]此处，即使在将网状部件构成的蒸发促进部例如以一部分被通过加热而熔化的蒸镀物质浸渍的状态设置在坩埚的中央部处的情况下，熔化的蒸镀物质也会因毛细管效应而渗透到从液面向上方突出的剩余部分，但无法使熔化的蒸镀物质渗透到剩余部分的多么高的位置。再有，如果要使在真空气氛中浸透到剩余部分的蒸镀物质有效地气化，则有时另行需要加热该剩余部分的加热机构。与此相对，在本专利技术中，由于在坩埚内表面隔着间隙存在蒸发促进部，因此能够随着熔化的蒸镀物质被吸引到间隙并涌起而使熔化的蒸镀物质渗透到相对较高的剩余部分的位置，而且，通过熔化的蒸镀物质隔在在坩埚内表面与蒸发促进部之间，如果利用加热装置加热坩埚的话，则通过经由蒸镀物质的传热，蒸发促进部会被有效地加热。因此，无需追加加热装置，就可有效地使浸透到剩余部分的蒸镀物质气化。另外，作为网状部件，例如可以使用对不锈钢(SUS304等)、钛、钽、钨、钼或碳等具有耐热性的材料材质的具有规定直径的线材或多根这种线材捻合而成的产物例如平纹编织或者将线材斜纹编织而在线材之间形成纤细空间(间隙)的产品。
附图说明
[0014]图1是具备本专利技术的实施方式的蒸镀源的真空蒸镀装置的剖视示意图。
[0015]图2是蒸镀物质从本专利技术的蒸镀源飞散的情况的局部放大剖视示意图。
具体实施方式
[0016]以下参照附图，以采用具有矩形轮廓的规定厚度的玻璃基板(以下称为“基板Sw”)为被蒸镀物、采用通过加热而蒸发(经过液相气化)的固体的有机材料Ms为蒸镀物质，在基板Sw的一面蒸镀规定的有机膜的情况为例，说明本专利技术的真空蒸镀装置用蒸镀源的实施方式。以下，“上”、“下”等表示方向的用语以示出真空蒸镀装置的设置姿态的图1为基准。
[0017]参照图1和图2，具备本实施方式的蒸镀源DS的真空蒸镀装置Dm具备真空室1，虽未特别图示，但真空室1经由排气管连接有真空泵，可抽真空到规定压力(真空度)，形成真空气氛。再有，在真空室1的上部设置有基板运输装置2。基板运输装置2具有载体21，其以作为
成膜面的下表面开放的状态来保持基板Sw，可通过图外的驱动装置以规定速度向真空室1内的一个方向运输载体21进而运输基板Sw。由于可以利用公知的装置作为基板运输装置2，因此省略进一步的说明。
[0018]在由基板运输装置2运输的基板Sw和蒸镀源DS之间，设置有板状的掩模板3。在本实施方式中，掩模板3与基板Sw一体安装，与基板Sw一起由基板运输装置2运输。另外，掩模板3也可以预先固定配置在真空室1上。在掩模板3上形成沿板厚度方向贯通的多个开口31，在没有这些开口31的位置，限制蒸发的有机材料Mv相对于基板Sw的蒸镀范围，从而以规定的图案在基板Sw上成膜(蒸镀)。作为掩模板3，除了殷钢、铝或不锈钢等金属材质、氧化铝等金属氧化物材质以外，还使用聚酰亚胺等树脂材质的掩模板。而且，在真空室1的底面，与基板Sw相对地设置有本实施方式的蒸镀源DS。
[0019]蒸镀源DS具有坩埚4，其具有在上表面开口的有底圆筒状的轮廓。坩埚4由不锈钢(SUS304等)、钛、钽、钨、钼或碳等的热传本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种真空蒸镀装置用蒸镀源，其配置在真空室内，用于使固体的蒸镀物质蒸发而对被蒸镀物进行蒸镀，其特征在于，具备：坩埚，其可收纳蒸镀物质，具有将蒸发的蒸镀物质向被蒸镀物放出的放出口；以及加热装置，其可加热坩埚内的蒸镀物质；在坩埚内具备蒸发促进部，该蒸发促进部设置为一部分被通过加热而熔化的蒸镀物质浸渍，并且其剩余部分距离坩埚内表面留有间隙地设置。...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村寿充，小野田淳吾，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：