本发明专利技术涉及一种用于大面积显示器的精细金属掩模及其制造方法，更具体而言，上述精细金属掩模包括形成有用于沉积光学元件的通孔图案的有效部以及形成在上述有效部的两端以在光学元件的沉积过程中用作支撑体的夹持部，上述精细金属掩模的制造方法包括：在用于制造精细金属掩模的金属面板的一个区域上涂覆光致抗蚀剂的步骤；在涂覆有上述光致抗蚀剂的金属面板上堆叠形成有图案的光掩模的步骤；对堆叠有上述光掩模的光致抗蚀剂区域中的中心部区域进行曝光的步骤；及通过激光加工成型从上述中心部区域向两端部延伸的区域的步骤；上述中心部区域为精细金属掩模的有效部，通过激光加工成型的两端部延伸区域为精细金属掩模的夹持部。夹持部。夹持部。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】大面积显示器用精细金属掩模及其制造方法
[0001]本专利技术涉及一种用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法，更具体而言，为了容易地制造用于制造第8代大面积显示器的精细金属掩模(fine metal mask)，通过连接使用多种光掩模原材料或多个光掩模制造扩张的有效部，通过连接曝光或单独切割工艺制造夹持部。由此，在制造与用于制造第6.5代显示器的精细金属掩模相比具有延伸长度的有效部的精细金属掩模时，不仅提高生产效率，并且可以直接使用用于制造第6.5代显示器用精细金属掩模的现有曝光设备。
技术介绍
[0002]在显示器产业的发展过程中，“大型化”已成为开拓市场、扩大规模、不断增长的基础。大型化意味着大面积显示面板生产线的建立和生产面板英寸的扩大。显示器制造商正在努力建设大面积生产线，提高生产率，并以更低的成本生产大尺寸面板。
[0003]显示面板上沉积OLED元件的关键部件是精细金属掩模，现有的第6.5代OLED像素沉积精细金属掩模很难跟上大面积显示面板的发展趋势。因此，有必要开发用于沉积第8代OLED像素的精细金属掩模(以下简称“第8代掩模”)。
[0004]精细金属掩模由有效部和夹持部构成，上述有效部是为了沉积像素形成图案的区域，上述夹持部形成在上述有效部两端，以用作掩模固定作用，使得在沉积像素的过程中精细金属掩模安置在面板上。
[0005]但是，第6.5代掩模的有效部长度为1100mm，而第8代掩模的有效部长度为2200mm，考虑到夹持部的长度，有效部长度达到2600mm，因此，通过最大曝光长度可达2400mm的现有曝光机难以制造第8代掩模。
[0006]另外，为了制造适合生产第8代掩模的曝光机，需要大量的资金，因此预计市场价格会提高，从而存在由于新曝光机导入带来的负担增加的问题。
[0007]此外，由于制造第8代掩模所采用的光掩模具有两个或多个光掩模叠合的形式，在叠合两个预加工的光掩模的过程中，无法确保两个光掩模之间对准的连续性或定位一致性的可能性较高，在如上无法确保对准的连续性或定位一致性的情况下，在形成像素的过程中可能会出现像素缺陷，由于缺陷像素导致显示器的分辨率劣化的问题。因此，需要开发一种用于制造第8代掩模的新的工艺技术。
技术实现思路
[0008]技术问题
[0009]本专利技术是为解决上述现有技术的问题而研制的，本专利技术的目的在于制造通过以高精度对准多个光掩模具有高对准度的用于制造第8代大面积显示器的精细金属掩模。
[0010]另外，本专利技术的另一目的在于，通过大部分采用现有的精细金属掩模制造方法，从而增加现有工艺的利用率，进行连接曝光或引入连接切割工艺，以提高生产效率和生产速度。
[0011]此外，本专利技术的再一目的在于，通过利用常规曝光机对有效部和夹持部进行连续曝光工艺，或将有效部曝光和夹持部切割加工分开进行，从而在制造用于制造第8代大面积显示器的精细金属掩模时，解决开发新曝光机的需求，使现有曝光机的利用率极大化。
[0012]此外，本专利技术的再一目的在于，构成一种简单的对准检查装置，使得在对多个光掩模进行对准时，光掩模可以在现有的曝光机上精确地对准。
[0013]此外，本专利技术的再一目的在于，制造用于对准多个光掩模的单独对准机，以简单方法精确对准多个光掩模。
[0014]解决问题的方案
[0015]为了实现上述目的，本专利技术提供一种用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法，上述精细金属掩模包括形成有用于沉积光学元件的通孔图案的有效部以及形成在上述有效部的两端以在光学元件的沉积过程中用作支撑体的夹持部，上述用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法包括：在用于制造精细金属掩模的金属面板的一个区域上涂覆光致抗蚀剂的步骤；在涂覆有上述光致抗蚀剂的金属面板上堆叠形成有图案的光掩模的步骤；对堆叠有上述光掩模的光致抗蚀剂区域中的中心部区域进行曝光的步骤；及通过激光加工成型从上述中心部区域向两端部延伸的区域的步骤；上述中心部区域为精细金属掩模的有效部，通过激光加工成型的两端部延伸区域为精细金属掩模的夹持部。
[0016]并且，本专利技术涉及一种用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法，更具体而言，上述精细金属掩模包括形成有用于沉积光学元件的通孔图案的有效部以及形成在上述有效部的两端以在光学元件的沉积过程中用作支撑体的夹持部，上述用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法包括：在用于制造精细金属掩模的金属面板的一个区域上涂覆光致抗蚀剂的步骤；在涂覆有上述光致抗蚀剂的金属面板上堆叠形成有图案的光掩模的步骤；对堆叠有上述光掩模的光致抗蚀剂区域中的中心部区域或一端部区域进行曝光的第一曝光步骤；及在上述第一曝光步骤后对除了上述曝光区域之外的区域进行曝光的第二曝光步骤；上述中心部区域为精细金属掩模的有效部，上述一端部区域为精细金属掩模的夹持部。
[0017]优选地，当进行上述第二曝光步骤时，在通过第一曝光步骤曝光的区域进行遮光。
[0018]优选地，通过连续曝光分别形成上述有效部的一半，并相连上述有效部的一半。
[0019]优选地，制造上述光掩模的过程包括：将多个光掩模原材料纵向叠合的步骤；及在叠合的多个光掩模原材料上绘制图案的步骤。
[0020]优选地，制造上述光掩模的过程包括：第一步骤，在光掩模上生成至少一个对准标记；第二步骤，将生成有上述对准标记的至少两个光掩模在曝光机的光掩模安装框架上一次对准并安装；第三步骤，确认安装的上述光掩模之间的对准标记的位置；及第四步骤，根据确认的对准标记的位置确定对准状态是否完成；在对准状态没有完成时，将上述光掩模二次对准，然后从上述第三步骤重新进行。
[0021]优选地，上述第三步骤由光掩模对准系统执行，上述系统包括：对准基准部，形成有至少两个对准基准点，上述对准基准点以与对准标记重叠的方式定位；及拍摄装置，安装在能够拍摄上述对准基准部和对准标记的重叠状态的位置；上述对准基准点中的至少一个对准基准点与形成在多个光掩模中的第一光掩模上的对准标记重叠，而剩余的对准基准点与形成在与第一光掩模相邻对准的第二光掩模上的对准标记重叠。
[0022]优选地，上述对准系统位于上述光掩模的上部或下部并设置为可移动。
[0023]优选地，上述拍摄装置的数量与上述对准基准点的数量相对应。
[0024]优选地，制造上述光掩模的过程包括：第一步骤，在光掩模上生成至少一个对准标记；第二步骤，将生成有上述对准标记的至少两个光掩模在光掩模对准装置的光掩模安装框架上一次对准并安装；第三步骤，确认安装的上述光掩模之间的对准标记的位置；及第四步骤，根据确认的对准标记的位置确定对准状态是否完成；在对准状态没有完成时，将上述光掩模二次对准，然后从上述第三步骤重新进行。
[0025]优选地，上述光掩模对准装置包括：光掩模安装框架；光掩模吸附部，形成于上述光掩模安装框架的边缘；对准基准部，形成有至少两个对准基准点，上述对准基准点以与对准标记重叠的方式定位；及拍摄装置，安装在能够拍摄上述对准基准部本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法，上述精细金属掩模包括形成有用于沉积光学元件的通孔图案的有效部以及形成在上述有效部的两端以在光学元件的沉积过程中用作支撑体的夹持部，上述用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法的特征在于，包括：在用于制造精细金属掩模的金属面板的一个区域上涂覆光致抗蚀剂的步骤；在涂覆有上述光致抗蚀剂的金属面板上堆叠形成有图案的光掩模的步骤；对堆叠有上述光掩模的光致抗蚀剂区域中的中心部区域进行曝光的步骤；及通过激光加工成型从上述中心部区域向两端部延伸的区域的步骤，上述中心部区域为精细金属掩模的有效部，通过激光加工成型的两端部延伸区域为精细金属掩模的夹持部。2.一种用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法，上述精细金属掩模包括形成有用于沉积光学元件的通孔图案的有效部以及形成在上述有效部的两端以在光学元件的沉积过程中用作支撑体的夹持部，上述用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法的特征在于，包括：在用于制造精细金属掩模的金属面板的一个区域上涂覆光致抗蚀剂的步骤；在涂覆有上述光致抗蚀剂的金属面板上堆叠形成有图案的光掩模的步骤；对堆叠有上述光掩模的光致抗蚀剂区域的中心部区域或一端部区域进行曝光的第一曝光步骤；及在上述第一曝光步骤后对除了上述曝光区域之外的区域进行曝光的第二曝光步骤，上述中心部区域为精细金属掩模的有效部，上述一端部区域为精细金属掩模的夹持部。3.根据权利要求2所述的用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法，其特征在于，当进行上述第二曝光步骤时，在通过第一曝光步骤曝光的区域进行遮光。4.根据权利要求1或2所述的用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法，其特征在于，通过连续曝光分别形成上述有效部的一半，并相连上述有效部的一半。5.根据权利要求1所述的用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法，其特征在于，制造上述光掩模的过程包括：将多个光掩模原材料纵向叠合的步骤；及在叠合的多个光掩模原材料上绘制图案的步骤。6.根据权利要求1所述的用于大面积显示器的精细金属掩模的制造方法，其特征在于，制造上述光掩模的过程包括：第一步骤，在光掩模上生成至少一个对准标记；第二步骤，将生成有上述对准标记的至少两个光掩模在曝光机的光掩模安装框架上一次对准并安装；第三步骤，确认安装的上述光掩模之间的对准标记的位置；及第四步骤，根据确认的对准标记的位置确定对准状态是否完成，在对准状态没有完成时，将上述光掩模二次对准，然后从上述第三步骤重新进行。7.根据权利要求6...
【专利技术属性】
技术研发人员：柳明勋，金宰范，韩德基，
申请(专利权)人：丰元精密株式会社，
类型：发明
国别省市：
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