用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置及对准方法制造方法及图纸

技术编号:38760258 阅读:23 留言:0更新日期:2023-09-10 09:45
本发明专利技术涉及一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置及对准方法,更详细地提供一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置,其特征在于,包括:光掩模安装支架;光掩模吸附部,形成在所述光掩模安装支架的边缘上;对准基准部,形成有至少两个对准基准点,所述对准基准点位于与对准标记重叠的位置;以及摄像装置,安装在能够拍摄所述对准基准部与对准标记的重叠状态的位置,所述对准基准点中的至少一个与形成在多个光掩模中的第一光掩模上的对准标记重叠,并且剩余的对准基准点与形成在第二光掩模上的对准标记重叠,所述第二光掩模与所述第一光掩模相邻地对准。一光掩模相邻地对准。一光掩模相邻地对准。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置及对准方法


[0001]本专利技术涉及一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置,更详细地,为了容易地制造用于制造第8代大面积显示器的精细金属掩模(finemetalmask),连接使用多个光掩模原材料或多个光掩模,从而能够制造第8代的具有扩展的有效部的精细金属掩模。由此,相比用于制造第6.5代显示器的精细金属掩模,制造具有长度被延长的有效部的精细金属掩模不仅能够谋求生产效率,而且还能够活用原来现有的用于制造第6.5代用精细金属掩模的曝光装置。

技术介绍

[0002]在显示器产业发展过程中“大型化”成为开创新市场且扩大规模而持续成长的基础。大型化意指大面积显示面板生产线构筑及生产板英寸的扩大。显示器商家在构筑大面积生产线、提高生产性且用更低廉的成本制造大型板上付出了诸多努力。
[0003]精细金属掩模(Finemetalmask)作为用于在显示面板上沉积OLED元件的核心构件,用于沉积现有的第6.5代OLED像素的精细金属掩模处于再难以追随大面积化的显示面板的潮流的状况。因此,现处于需要开发用于沉积第8代OLED像素的精细金属掩模(以下简称“第8代掩模”)的实情。
[0004]精细金属掩模包括:有效部,作为形成有图案的区域以沉积像素;以及夹持部,形成在所述有效部的两端,以在沉积像素的过程中起到掩模固定功能以用于将精细金属掩模安置在板上。
[0005]然而,第6.5代掩模的有效部的长度为1100

,相比,由于第8代掩模的有效部的长度为2200

,其中连带考虑夹持部的长度后长达2600

,因此存在通过最长可曝光至2400

的现有曝光机难以制造第8代掩模的问题。
[0006]另外,为了制造适合于生产第8代掩模的曝光机需要大量资本,这预期会形成与此相应高的市场价格,由此也存在导入新的曝光机致使负担加重的问题。
[0007]而且,用作制造第8代掩模的光掩模具有层压两个或两个以上的数量的形态,在将各自预先加工的两个光掩模进行层压的过程中,不能确保两个光掩模之间对准的连续性或一致性的可能性高,如上所述地在不能确保对准的连续性或一致性的情况下,在像素形成过程中会发生像素不良,可能会因像素不良引发显示器的分辨率变差的问题。因此,期待开发用于制造第8代掩模的新的工程技术。

技术实现思路

[0008]技术问题
[0009]本专利技术为了解决上述现有技术的问题而提出,本专利技术的目的在于通过以高精确度对准多个光掩模,从而制造具有高对准度的用于制造第8代大面积显示器的精细金属掩模。
[0010]另外,本专利技术的另一目的在于,能够提出一种新的利用原来现有的曝光机的光掩
模对准装置及对准方法,从而在制造用于制造第8代大面积显示器的精细金属掩模时,消除了开发新的曝光机的必要性并能够使得一般的曝光机的活用度最大化。
[0011]另外,本专利技术的又一目的在于,能够制造独立的对准器以用于对准多个光掩模,并能够通过简单的方法精确地对准多个光掩模。
[0012]另外,本专利技术的又一目的在于,为了在将完成对准的多个光掩模移送至曝光机时保持对准状态,将第二光掩模吸附口加强设置在光掩模接合框架上,从而在吸附状态下移送至曝光机而进行曝光,进而能够制造精密的第8代精细金属掩模。
[0013]技术解决方法
[0014]为达到上述目的,提供一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置,其特征在于,包括:光掩模安装支架;光掩模吸附部,形成在所述光掩模安装支架的边缘上;对准基准部,形成有至少两个对准基准点,所述对准基准点位于与对准标记重叠的位置;以及摄像装置,安装在能够拍摄所述对准基准部与对准标记的重叠状态的位置,所述对准基准点中的至少一个与形成在多个光掩模中的第一光掩模上的对准标记重叠,并且剩余的对准基准点与形成在第二光掩模上的对准标记重叠,所述第二光掩模与所述第一光掩模相邻地对准。
[0015]所述光掩模对准装置优选包括:光掩模升降杆,可升降地设置在所述光掩模安装支架的下部;以及支撑玻璃,在所述多个光掩模层压时位于边界面上且用于支撑光掩模。
[0016]优选地,所述摄像装置的数量与所述对准基准点的数量相同。
[0017]优选还包括接合框架,用于从所述光掩模的上部支撑所述光掩模,所述接合框架中与所述光掩模相接的表面的至少一部分上形成有第二掩模吸附部。
[0018]另外,本专利技术提供一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准方法,其特征在于,通过所述对准装置来执行,包括:第一步骤,在光掩模上形成至少一个对准标记;第二步骤,将形成有所述对准标记的至少两个光掩模一次对准并安装在曝光机的光掩模安装支架上;第三步骤,确认所安装的所述光掩模之间的对准标记的位置;以及第四步骤,根据所确认的对准标记的位置确定对准状态的完成与否,所述对准状态的完成与否根据各个光掩模上形成的对准标记与对准基准部的一致与否来认可,在对准状态未完成的情况下,将所述光掩模二次对准,接着再次从所述第三步骤开始执行。
[0019]专利技术的效果
[0020]根据如上所述的本专利技术期待如下效果,即通过以高精确度对准多个光掩模,从而具有高对准度。
[0021]另外,本专利技术期待如下效果,即能够提出一种新的利用原来现有的曝光机的光掩模对准装置及对准方法,从而在制造用于制造第8代大面积显示器的精细金属掩模时,消除了开发新的曝光机的必要性并能够使得一般的曝光机的活用度最大化。
[0022]另外,本专利技术期待如下效果,即能够通过制造独立的对准器以用于对准多个光掩模,从而在执行曝光工序之前通过简单的方法精确地对准多个光掩模。
[0023]另外,本专利技术期待如下效果,即为了在将完成对准的多个光掩模移送至曝光机时保持对准状态,将第二光掩模吸附口加强设置在光掩模接合框架上,从而在吸附状态下移送至曝光机而进行曝光,进而能够制造精密的第8代精细金属掩模。
附图说明
[0024]图1作为示出了将根据本专利技术一实施例的两个单独的光掩模进行层压并确保对准度的过程的流程图,示出了使用独立的对准装置的情况。
[0025]图2为从侧面示出了图1的对准装置的同时示出了用于光掩模的层压及对准状态确认的过程。
[0026]图3为与曝光机安装框架一同示出了根据本专利技术的一实施例的光掩模接合框架上形成的第二光掩模吸附部的图。
具体实施方式
[0027]以下,为了使本专利技术所属
中具有通常知识的人员更加容易地实施,将参照附图更详细地描述根据本专利技术的一个实施例。然而,本专利技术可以以多种不同的形式实现而并不限定于在此描述的实施例。另外,在附图中为了明确说明本专利技术而省略了与说明无关的部分,在说明书全文中对于相似的部分赋予了相似的附图标记。
[0028]在说明书全文中,某一部分“包括”某一构成要素时,这意指在没有特别相反记载的情况本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置,其特征在于,包括:光掩模安装支架;光掩模吸附部,形成在所述光掩模安装支架的边缘上;对准基准部,形成有至少两个对准基准点,所述对准基准点位于与对准标记重叠的位置;以及摄像装置,安装在能够拍摄所述对准基准部与对准标记的重叠状态的位置,所述对准基准点中的至少一个与形成在多个光掩模中的第一光掩模上的对准标记重叠,并且剩余的对准基准点与形成在第二光掩模上的对准标记重叠,所述第二光掩模与所述第一光掩模相邻地对准。2.根据权利要求1所述的用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置,其特征在于,包括:光掩模升降杆,可升降地设置在所述光掩模安装支架的下部;以及支撑玻璃,在所述多个光掩模层压时,在边界面上支撑光掩模。3.根据权利要求1所述的用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置,其特征在于,所述摄像装置的数量与所述对准基准点的数量相同。4.一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置,其特征在于,包括:光掩模安装支架;光掩模吸附部,形成在所述光掩模安装支架的边缘上;对准基准部,形成...

【专利技术属性】
技术研发人员:柳明勋金宰范韩德基
申请(专利权)人:丰元精密株式会社
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1