【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻设备、量测系统及其方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年12月23日递交的美国临时专利申请号63/129,714的优先权,所述美国临时专利申请的全部内容通过引用并入本文中。
[0003]本公开涉及一种光刻设备,例如,用于用顺序照射镜头来辐照物体的光刻设备。
技术介绍
[0004]光刻设备是一种将期望的图案施加至衬底(通常是在衬底的目标部分上)上的机器。例如,光刻设备可以用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下,可以将替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于产生要在IC的单独的层上形成的电路图案。可以将所述图案转印到衬底(例如,硅晶片)上的目标部分(例如,包括一部分管芯、一个或若干个管芯)上。典型地,通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常,单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网格。已知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器,在步进器中,通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐照每个目标部分,在扫描器中,通过在辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案的同时平行或反向平行于这个扫描方向同步地扫描所述目标部分来辐照每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底上。
[0005]另一光刻系统是干涉量测光刻系统,在所述干涉量测光刻系统中不存在图案形成装置,而是光束被拆分成两个束,并且通过使用反射系统导致这两个束在所述衬底的目标部分处干涉。所述干涉导致在所述衬底的目标部分处形成线。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种方法,包括:用顺序照射镜头辐照目标结构,其中,所述顺序照射镜头中的每个照射镜头的积分时间被选择以降低低频误差;将来自所述目标结构的散射束朝向成像检测器引导;使用所述成像检测器来产生检测信号;以及至少基于所述检测信号来确定所述目标结构的性质。2.根据权利要求1所述的方法,其中,用顺序照射镜头辐照所述目标结构包括在时间上在处于第一波长和/或第一偏振的辐射与处于第二波长和/或第二偏振的辐射之间进行交替。3.根据权利要求1所述的方法,其中,用顺序照射镜头辐照所述目标结构包括:将处于第一波长的辐射的积分时间拆分成两个或更多个积分时间;用处于第一波长的照射镜头辐照所述目标结构达所述两个或更多个积分时间;以及用位于处于所述第一波长的所述照射镜头之间的具有另一波长的一个或更多个照射镜头辐照所述目标结构。4.根据权利要求3所述的方法,其中:所述一个或更多个照射镜头中的每个照射镜头具有大于与处于第一波长的所述照射镜头相关联的积分时间的积分时间;并且所述一个或更多个照射镜头中的每个照射镜头具有与所述一个或更多个照射镜头中的另一照射镜头不同的波长。5.根据权利要求1所述的方法,其中,用顺序照射镜头辐照所述目标结构包括:将处于第一波长的辐射的积分时间拆分成三个或更多个积分时间;以及用处于所述第一波长的第一照射镜头、第二照射镜头和第三照射镜头辐照所述目标结构,其中,所述第一照射镜头与所述第二照射镜头之间的时间段不同于所述第二照射镜头与所述第三照射镜头之间的时间段。6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述顺序照射镜头处于第一波长,并且所述方法还包括:用处于第二波长的辐射辐照所述目标结构;将来自所述目标结构的第二散射束朝向所述成像检测器引导;使用所述成像检测器来产生第二检测信号;以及基于所述检测信号来调整所述第二检测信号。7.根据权利要求1所述的方法,还包括:调整所述顺序照射镜头中的每个照射镜头的强度,以便用包络来变迹所述顺序照射镜头的所述强度。8.根据权利要求7所述的方法,其中,由配置成产生所述顺序照射镜头的照射系统执行所述调整。9.根据权利要求7所述的方法,其中,由作用于所述检测信号的处理器执行所述调整。10.根据权利要求1所述的方法,其中,所述顺序照射镜头包括至少一组照射镜头,其中,第一组照射镜头包括处于不同
波长的照射镜头;并且其中,所述至少一组照射镜头在所述顺序照射镜头中被重复一次或更多次。11.根据权利要求1所述的方法,还包括:用第二组顺序照射镜头辐照所述目标结构;将来自所述目标结构的与所述第二组顺序照射镜头相关联的散射束朝向另一成像检测器引导;使用所述另一成像检测器来产生另一检测信号;以及至少基于所述检测信号和所述另一检测信号来确定所述目标结构的性质。12.根据权利要求1所述的方法,...
【专利技术属性】
技术研发人员:A,
申请(专利权)人:ASML控股股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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