显示面板及其制备系统和制备方法技术方案

本发明专利技术提供一种显示面板，包括基板、第一平坦层和第一电极，第一平坦层和第一电极依次叠置于基板的一侧，还包括辅助电极和第二平坦层，辅助电极和第二平坦层位于第一电极和第一平坦层之间，且依次远离基板叠置，辅助电极在基板上的正投影位于第一电极在基板上的正投影区域内。该显示面板，能在采用硅材料掩膜板在第一电极的背离基板的一侧蒸镀形成后续膜层时，通过向辅助电极加电形成的电场能对蒸镀材料的运动角度和在第一电极上的落点进行调整，从而提升第一电极背离基板一侧膜层成膜厚度的均一性。度的均一性。度的均一性。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备系统和制备方法


[0001]本专利技术属于显示领域，具体涉及一种显示面板及其制备系统和制备方法。

技术介绍

[0002]目前，主流的蒸镀掩膜板采用精细金属掩膜板(Fine metal mask，即FMM)，精细金属掩膜板采用金属材料制作，由于精细金属掩膜板本身厚度较厚，采用精细金属掩膜板制备的显示面板中像素的分辨率一般在600左右，即使采用电铸的方式制作精细金属掩膜板，制备的显示面板中像素的分辨率也只能达到800～1000ppi，很难再有突破。

技术实现思路

[0003]本专利技术针对采用硅材料的掩膜板蒸镀形成的膜层厚度不均匀的问题，提供显示面板及其制备系统和制备方法。该显示面板，能在采用硅材料掩膜板在第一电极的背离基板的一侧蒸镀形成后续膜层时，通过向辅助电极加电形成的电场能对蒸镀材料的运动角度和在第一电极上的落点进行调整，从而提升第一电极背离基板一侧膜层成膜厚度的均一性。
[0004]本专利技术提供一种显示面板，包括基板、第一平坦层和第一电极，
[0005]所述第一平坦层和所述第一电极依次叠置于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，包括基板、第一平坦层和第一电极，所述第一平坦层和所述第一电极依次叠置于所述基板的一侧，其特征在于，还包括辅助电极和第二平坦层，所述辅助电极和所述第二平坦层位于所述第一电极和所述第一平坦层之间，且依次远离所述基板叠置，所述辅助电极在所述基板上的正投影位于所述第一电极在所述基板上的正投影区域内。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括像素界定层，位于所述第一电极的背离所述基板的一侧，所述像素界定层中开设有开口，所述开口在所述基板上的正投影与所述第一电极在所述基板上的正投影交叠；所述辅助电极在所述基板上的正投影位于所述开口在所述基板上的正投影区域内；所述显示面板还包括辅助连接线，所述辅助连接线与所述辅助电极同层设置且连接，所述辅助连接线通过开设在所述第二平坦层和所述像素界定层中的过孔连接第一供电部。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述开口在所述基板上的正投影包括中间区和边缘区，所述边缘区围设于所述中间区的外围，所述辅助电极在所述基板上的正投影至少覆盖所述边缘区的局部，和/或，所述辅助电极在所述基板上的正投影至少覆盖所述中间区的局部。4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，当所述辅助电极在所述基板上的正投影至少覆盖所述边缘区的局部时，所述辅助电极在所述基板上的正投影形状包括环形；所述辅助电极在所述基板上的正投影面积小于所述边缘区的面积。5.根据权利要求3
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4任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述中间区的面积不大于所述第一电极在所述开口处裸露区域面积的25％～50％；所述边缘区的面积不大于所述第一电极在所述开口处裸露区域面积的25％～50％。6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述辅助电极包括多条第一辅助电极和多条第二辅助电极，所述第一辅助电极沿第一方向延伸，所述第二辅助电极沿第二方向延伸，所述第一方向和所述第二方向相交。7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述辅助电极包括多个所述第一辅助电极及两个所述第二辅助电极，两个所述第二辅助电极分别位于所述开...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵德江，
申请(专利权)人：北京京东方技术开发有限公司，
类型：发明
国别省市：