挠性电路板二次积层技术制造技术

技术编号:3870084 阅读:153 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
挠性电路板二次积层技术的工艺流程:首先进行步骤1,内层线路制作,再步骤2,把基材纯胶和内层芯板压合在一起,然后进行步骤3,激光钻孔,钻传介质层,露出内层的金属垫盘,再进行步骤4,脉冲电镀盲孔,把内层线路和次外层的金属层导通,完成一次积层,再按照相同的方法,分别进行步骤5,6,7,8,9,直到完成外层线路制作,就完成了二次积层,在整个过程中进行了二次用纯胶基材压芯板的过程,并且在过程中运用了激光钻孔,脉冲电镀等相关的工艺技术,由于材料的应用适当,保证了电路板一定的挠性,本发明专利技术应用的纯胶,基材和整个工艺流程相配合,就是挠性电路板二次积层技术。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及印制电路板的一种制作工艺。
技术介绍
现在PCB(刚性电路板)已经开发了HDI(高密度互连)的技术,而且可以做到二次 积层甚至多次技术了,在PCB多次积层技术中,广泛应用了 RCC(涂树脂铜箔Resin Coated Copper)的材料和内层芯板压合,但是由于此材料缺乏相应的挠性,只能应用在PCB上。
技术实现思路
本专利技术是采用基材,纯胶和内层芯板压合,在挠性电路板的技术基础上开发的柔 性电路板二次积层技术,在FPC (挠性电路板)二次积层技术应用中,综合运用了脉冲电镀 填盲孔技术,激光打孔技术等,产品具有相当的柔韧性,是FPC的一个进步。附图说明 下面通过附图流程具体的说明挠性电路板二次积层技术 图1为内层线路制作图,图2为基材纯胶和内层芯板压合图,图3为激光钻孔图, 图4为脉冲电镀盲孔图,图5为线路制作图,图6为基材纯胶和内层芯板压合图,图7为激 光钻孔图,图8为脉冲电镀盲孔图,图9为外层线路制作图。 以下为基本制作流程和结构如下首先进行步骤l(图1),内层线路制作,再步骤 2(图2),把基材纯胶和内层芯板压合在一起,然后进行步骤3(图3),激光钻孔,钻穿介质 层,露出内层的金属垫盘,再进行步骤4 (图4),脉冲电镀盲孔,把内层线路和次外层的金属 层导通,完成一次积层,再按照相同的方法,分别进行步骤5 (图5) , 6 (图6) , 7 (图7) , 8 (图 8) , 9 (图9),直到完成外层线路制作,就完成了二次积层,在整个过程中进行了二次用纯胶 基材压芯板的过程,并且在过程中运用了激光钻孔,脉冲电镀等相关的工艺技术,由于材料 的应用适当,保证了电路板一定的挠性,本专利技术应用的纯胶,基材和整个工艺流程相配合, 就是挠性电路板二次积层技术。权利要求利用纯胶,基材压芯板,包括说明的一种工艺流程,专应用于挠性电路板的二次积层技术。全文摘要挠性电路板二次积层技术的工艺流程首先进行步骤1,内层线路制作,再步骤2,把基材纯胶和内层芯板压合在一起,然后进行步骤3,激光钻孔,钻传介质层,露出内层的金属垫盘,再进行步骤4,脉冲电镀盲孔,把内层线路和次外层的金属层导通,完成一次积层,再按照相同的方法,分别进行步骤5,6,7,8,9,直到完成外层线路制作,就完成了二次积层,在整个过程中进行了二次用纯胶基材压芯板的过程,并且在过程中运用了激光钻孔,脉冲电镀等相关的工艺技术,由于材料的应用适当,保证了电路板一定的挠性,本专利技术应用的纯胶,基材和整个工艺流程相配合,就是挠性电路板二次积层技术。文档编号H05K3/46GK101711098SQ200910106839公开日2010年5月19日 申请日期2009年4月16日 优先权日2009年4月16日专利技术者盛光松 申请人:深圳市精诚达电路有限公司 本文档来自技高网...

【技术保护点】
利用纯胶,基材压芯板,包括说明的一种工艺流程,专应用于挠性电路板的二次积层技术。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:盛光松
申请(专利权)人:深圳市精诚达电路有限公司
类型:发明
国别省市:94[中国|深圳]

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