【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种晶化硅纳米棒阵列的制备方法,其特征在于该方法包括以下步骤: (1)将清洗后的衬底放入真空腔的衬底架上,使真空腔的真空度为1×10-3帕-1×10-4帕; (2)在上述真空腔中,以高纯钨丝或钽丝作为热丝源,热丝源与所述的衬底之 间的距离为7~17cm,使热丝温度达到1600-2000℃; (3)向真空腔中通入氢气和硅烷的混合气体作为反应气体,氢气和硅烷的比例为:氢气∶硅烷=1-5∶1,入射气流穿过所述的热丝源,入射气流与衬底法线之间的夹角为75°-85°,反 应气体的气压为0.01-0.3帕,衬底旋转速率为0-30转/分。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:刘丰珍,朱美芳,马艳红,
申请(专利权)人:中国科学院研究生院,
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]
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