像素、包括其的显示设备和制造显示设备的方法技术

根据本公开的实施方式的像素包括：电路元件，在基础层上；保护层，在电路元件上；第一电极和第二电极，在保护层上彼此面对；第一绝缘层，设置在第一电极和第二电极上；发光元件，在第一电极和第二电极之间的区域中位于第一绝缘层上；第一接触电极，位于发光元件的第一端部上以将发光元件的第一端部连接到第一电极；第二接触电极，位于发光元件的第二端部上以将发光元件的第二端部连接到第二电极；以及腔，与第一电极和第二电极之间的区域对应地位于发光元件下方并且在保护层和第一绝缘层上。发光元件下方并且在保护层和第一绝缘层上。发光元件下方并且在保护层和第一绝缘层上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】像素、包括其的显示设备和制造显示设备的方法


[0001]本公开的实施方式涉及像素、包括像素的显示设备以及制造显示设备的方法。

技术介绍

[0002]最近，对信息显示的兴趣正在增加。因此，不断地进行显示设备的研究和开发。

技术实现思路

[0003]技术问题
[0004]本公开的实施方式提供了包括发光元件的像素、包括像素的显示设备以及制造显示设备的方法。
[0005]技术方案
[0006]根据本公开的实施方式，像素包括：电路元件，在基础层上；保护层，在电路元件上；第一电极和第二电极，在保护层上彼此相对；第一绝缘层，在第一电极和第二电极上；发光元件，在第一电极和第二电极之间的区域处在第一绝缘层上；第一接触电极，在发光元件的第一端上以将发光元件的第一端连接到第一电极；第二接触电极，在发光元件的第二端上以将发光元件的第二端连接到第二电极；以及腔，与第一电极和第二电极之间的区域对应地在发光元件下方的保护层和第一绝缘层中。
[0007]在实施方式中，腔可以在其与保护层对应的下区域中具有第一宽度，并且在其与第一绝缘层对应的上区域中具有小于第一宽度的第二宽度。
[0008]在实施方式中，第二宽度可以小于发光元件的长度。
[0009]在实施方式中，第一接触电极和第二接触电极可以以第二宽度彼此隔开。
[0010]在实施方式中，第一接触电极和第二接触电极可以在相同的层处，并且可以分离成通过腔彼此隔开。
[0011]在实施方式中，第一接触电极可以通过穿过第一绝缘层的第一接触孔电连接到第一电极，并且第二接触电极可以通过穿过第一绝缘层的第二接触孔电连接到第二电极。
[0012]在实施方式中，像素还可以包括在第一电极和第二电极下方残留在腔的侧壁上的导电膜。导电膜可以包括与第一接触电极和第二接触电极相同的材料。
[0013]在实施方式中，位于第一电极和第二电极下方的导电膜可以彼此隔开。
[0014]在实施方式中，像素还可以包括：第一绝缘图案，在第一接触电极上；以及第二绝缘图案，位于第二接触电极上并且与第一绝缘图案隔开。
[0015]在实施方式中，第一绝缘图案和第二绝缘图案可以包括相同的光刻胶材料。
[0016]在实施方式中，第一接触电极可以位于第一绝缘图案下方，并且第二接触电极可以位于第二绝缘图案下方。
[0017]在实施方式中，保护层可以包括至少一层有机绝缘膜，并且第一绝缘层可以包括至少一层无机绝缘膜。
[0018]在实施方式中，像素还可以包括第一堤和第二堤中的至少一个，第一堤位于第一
电极和第二电极下方并且与第一电极的一个区域和第二电极的一个区域重叠，第二堤位于非发射区域中，非发射区域围绕包括第一电极、第二电极和发光元件的发射区域。
[0019]根据本公开的实施方式，显示设备包括基础层和在基础层上的像素，其中，像素包括：电路元件，在基础层上；保护层，在电路元件上；第一电极和第二电极，在保护层上彼此相对；第一绝缘层，在第一电极和第二电极上；发光元件，在第一电极和第二电极之间的区域处在第一绝缘层上；第一接触电极，在发光元件的第一端上以将发光元件的第一端连接到第一电极；第二接触电极，在发光元件的第二端上以将发光元件的第二端连接到第二电极；以及腔，与第一电极和第二电极之间的区域对应地在发光元件下方的保护层和第一绝缘层中。
[0020]根据本公开的实施方式，制造显示设备的方法包括：在基础层上依次形成电路元件和保护层；在保护层上形成彼此相对的第一电极和第二电极；形成第一绝缘层以覆盖第一电极和第二电极；在第一电极和第二电极之间的区域下方在第一绝缘层和保护层中形成腔；在第一绝缘层上提供发光元件，并且在第一电极和第二电极之间对准发光元件，使得发光元件在第一绝缘层上并且与腔重叠；在包括发光元件的像素区域上形成导电膜；以及将导电膜刻蚀成在腔的区域的上部分和下部分处断开，并且分别在发光元件的第一端和发光元件的第二端上形成第一接触电极和第二接触电极。
[0021]在实施方式中，形成腔可以包括：在除了第一绝缘层的与第一电极和第二电极之间的区域对应的一个区域的上部分之外的其余区域上形成第一光掩模；以及在由第一光掩模暴露的区域中以第一绝缘层的全部厚度蚀刻第一绝缘层，并且在保护层中形成宽度大于第一绝缘层的蚀刻宽度的沟槽。
[0022]在实施方式中，形成第一接触电极和第二接触电极可以包括：在导电膜的与发光元件的第一端和第一电极的一个区域以及发光元件的第二端和第二电极的一个区域重叠的一个区域上形成第二光掩模；以及使用第二光掩模蚀刻导电膜以同时形成第一接触电极和第二接触电极。
[0023]用于解决上述问题的实施方式的其它细节包括在详细描述和附图中。
[0024]有益效果
[0025]根据本公开的实施方式，可以减少用于制造包括发光元件的像素的掩模的数量，并且还可以有效地防止发光元件的第一端和第二端之间的短路缺陷。
[0026]本公开的效果不限于本文中所阐述的实施方式，并且更多的不同效果包括在本说明书中。
附图说明
[0027]图1是示出根据本公开的实施方式的显示设备的立体图。
[0028]图2a和图2b是示出根据本公开的实施方式的显示设备的剖视图。
[0029]图3a和图3b是示出根据本公开的实施方式的显示面板的配置的示意性剖视图。
[0030]图4a是示出根据本公开的实施方式的发光元件的立体图。
[0031]图4b至图4d是示出根据本公开的实施方式的发光元件的剖视图。
[0032]图5是示出根据本公开的实施方式的显示面板的平面图。
[0033]图6a至图6c是示出根据本公开的实施方式的像素的电路图。
[0034]图7和图8是示出根据本公开的实施方式的像素的平面图。
[0035]图9a至图9c是示出根据本公开的实施方式的像素的剖视图。
[0036]图10是示出根据本公开的实施方式的像素的平面图。
[0037]图11a至图11c是示出根据本公开的实施方式的像素的剖视图。
[0038]图12a至12l是依次示出根据本公开的实施方式的制造显示设备的方法的剖视图。
具体实施方式
[0039]本公开可以在各种实施方式中进行各种修改，并且将描述并在附图中示出具体实施方式。在以下描述中，单数形式“一(a)”、“一个(an)”和“该(the)”也旨在包括复数形式，除非上下文另外清楚地指示。
[0040]另一方面，本公开不限于所公开的以下实施方式，并且可以以各种形式修改和实施。此外，以下实施方式中的每一个可以单独实施或者可以与至少另一实施方式组合实施。
[0041]在附图中，为了清楚地示出本公开的实施方式，可以省略与本公开的特征不直接相关的一些组件。在附图中，相同或相似的组件尽可能地由相同的附图标记和符号表示，尽管它们在不同的附图中示出，并且将省略其冗余描述。
[0042]图1是示出根据本公本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.像素，包括：电路元件，在基础层上；保护层，在所述电路元件上；第一电极和第二电极，在所述保护层上彼此相对；第一绝缘层，在所述第一电极和所述第二电极上；发光元件，在所述第一电极和所述第二电极之间的区域处在所述第一绝缘层上；第一接触电极，在所述发光元件的第一端上以将所述发光元件的所述第一端连接到所述第一电极；第二接触电极，在所述发光元件的第二端上以将所述发光元件的所述第二端连接到所述第二电极；以及腔，与所述第一电极和所述第二电极之间的所述区域对应地在所述发光元件下方的所述保护层和所述第一绝缘层中。2.根据权利要求1所述的像素，其中，所述腔在所述腔的与所述保护层对应的下区域中具有第一宽度，并且在所述腔的与所述第一绝缘层对应的上区域中具有小于所述第一宽度的第二宽度。3.根据权利要求2所述的像素，其中，所述第二宽度小于所述发光元件的长度。4.根据权利要求2所述的像素，其中，所述第一接触电极和所述第二接触电极以所述第二宽度彼此隔开。5.根据权利要求1所述的像素，其中，所述第一接触电极和所述第二接触电极在相同的层处，并且通过所述腔彼此分离。6.根据权利要求1所述的像素，其中，所述第一接触电极通过穿过所述第一绝缘层的第一接触孔电连接到所述第一电极，以及所述第二接触电极通过穿过所述第一绝缘层的第二接触孔电连接到所述第二电极。7.根据权利要求1所述的像素，还包括在所述第一电极和所述第二电极下方残留在所述腔的侧壁上的导电膜，其中，所述导电膜包括与所述第一接触电极和所述第二接触电极相同的材料。8.根据权利要求7所述的像素，其中，位于所述第一电极和所述第二电极下方的所述导电膜彼此隔开。9.根据权利要求1所述的像素，还包括：第一绝缘图案，在所述第一接触电极上；以及第二绝缘图案，位于所述第二接触电极上并且与所述第一绝缘图案隔开。10.根据权利要求9所述的像素，其中，所述第一绝缘图案和所述第二绝缘图案包括相同的光刻胶材料。11.根据权利要求9所述的像素，其中，所述第一接触电极位于所述第一绝缘图案下方，以及所述第二接触电极位于所述第二绝缘图案下方。12.根据权利要求1所述的像素，其中，所述保护层包括至少一层有机绝缘膜，以及所述第一绝缘层包括至少一层无机绝缘膜。13.根据权利要求1所述的像素，还包括第一堤和第二堤中的至少一个，所述第一堤位
于所述第一电极和所述第二电极下方并且与所述第一电极的一个区域和所述第二电极的一个区域重叠，所述第二堤位于非发射区域中，所述非发射区域围绕包括所述第一电极、所述第二电极和所述发光元件的发射区域。14.显示设...

【专利技术属性】
技术研发人员：李炫旭，李太熙，洪光泽，洪晶银，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：