应用于纳米级制膜设备的定位组件制造技术

本实用新型专利技术提出应用于纳米级制膜设备的定位组件，包括滚筒模具和用于调节滚筒模具倾斜度的滚筒支架组件，所述滚筒支架组件包括底座，底座上所设两个铰接底座通过一对偏转支杆连接有一个主支撑架，所述主支撑架的顶部均设有轴承外环座，且两个轴承外环座套设于滚筒模具的外部，本实用新型专利技术根据射灯在光感检测盘上的射线成像，当滚筒模具未处于水平状态时，射灯所发射的射线在光感检测盘上的成像未处于中心点，进而需要结合操控两个电磁液压伸缩件的伸缩杆进行伸缩，对两个主支撑架及轴承外环座进行升降，直至射灯所发射的射线在光感检测盘上的成像处于中心点，则此时表明滚筒模具垂于水平状态，定位准确。定位准确。定位准确。

【技术实现步骤摘要】
应用于纳米级制膜设备的定位组件


[0001]本技术涉及制膜设备
，尤其涉及应用于纳米级制膜设备的定位组件。

技术介绍

[0002]在纳米级制膜设备使用过程中，采用内表面光滑的圆形管作为模具，并使模具高速旋转；在这一过程中，将含有成膜物质的溶液或分散液倒入模具中，溶液在离心力的作用下可以在模具表面快速形成均匀致密且微观结构有序的薄膜材料。例如申请号为CN201821640597.6公开了一种旋转喷涂制膜设备，该设备结构如下：滚筒模具和成膜基体中，成膜基体紧贴于滚筒模具内侧。该装置中滚筒模具的使用时，由于机体所放置底板不平整的原因而容易导致滚筒模具倾斜，进而导致滚筒模具在高速离心下，其内部的成膜溶液由于重力偏移的原因导致所成型的膜层厚度不一致，进而影响制膜精度。

技术实现思路

[0003]为了解决上述问题，本技术提出应用于纳米级制膜设备的定位组件，以更加确切地解决上述所述问题。
[0004]本技术通过以下技术方案实现的：
[0005]本技术提出应用于纳米级制膜设备的定位组件，包括滚筒模具和用于调节滚筒模具倾斜度的滚筒支架组件，所述滚筒支架组件包括底座，底座上设有两个铰接底座，两个铰接底座上均通过轴杆件连接有一对偏转支杆，且两个铰接底座均通过一对偏转支杆连接有一个主支撑架，所述主支撑架的顶部均设有轴承外环座，且两个轴承外环座套设于滚筒模具的外部，所述底座上且位于两侧均设有伸缩件连接底座，伸缩件连接底座上连接有电磁液压伸缩件，所述电磁液压伸缩件的伸缩杆呈斜向上延伸，电磁液压伸缩件的伸缩杆端部设有铰接头，且电磁液压伸缩件的伸缩杆端部的铰接头与主支撑架外壁设有的外侧铰接座相连接，所述两个主支撑架的内侧设有两对内侧铰接座，且两对内侧铰接座之间连接有横梁杆件，位于上方的横梁杆件中部设有光定位组件，位于下方的横梁杆件的中部设有光感检测盘，光感检测盘设置于横梁杆件的正下方。
[0006]进一步的，所述轴承外环座的内部配合有轴承，且轴承的轴承内圈与滚筒模具的外壁过盈配合。
[0007]进一步的，所述滚筒模具的一侧设有传动连接座，传动连接座为十字轴连接座。
[0008]进一步的，所述横梁杆件的两端均为横梁铰接头端，且横梁铰接头端通过销杆件与内侧铰接座相连接。
[0009]进一步的，所述光定位组件包括与横梁杆件固定的外球座，外球座中部穿插有呈垂直设置的射灯，射灯的中部设有内球芯，内球芯配合于外球座内部，射灯的射线发生端设置于底端，射灯的底部设有铅锤块。
[0010]进一步的，所述外球座的内腔壁嵌设有第一强力磁衬片，内球芯的外壁嵌设有第
二强力磁衬片，且第一强力磁衬片与第二强力磁衬片相靠近面的磁极相同，第一强力磁衬片内壁与第二强力磁衬片外壁之间留有2
‑
3mm的间隙。
[0011]本技术的有益效果：
[0012]1、本技术根据射灯在光感检测盘上的射线成像，当滚筒模具未处于水平状态时，射灯所发射的射线在光感检测盘上的成像未处于中心点，进而需要结合操控两个电磁液压伸缩件的伸缩杆进行伸缩，对两个主支撑架及轴承外环座进行升降，直至射灯所发射的射线在光感检测盘上的成像处于中心点，则此时表明滚筒模具垂于水平状态，定位准确；
[0013]2、本技术在外球座的内腔壁嵌设有第一强力磁衬片，内球芯的外壁嵌设有第二强力磁衬片，且第一强力磁衬片与第二强力磁衬片相靠近面的磁极相同，第一强力磁衬片内壁与第二强力磁衬片外壁之间留有2
‑
3mm的间隙，由于外球座与射灯中部所设的内球芯之间不产生接触，射灯更能真实的反应垂直状态，提高定位的精确度。
附图说明
[0014]图1为本技术的立体结构整体示意图；
[0015]图2为本技术结构的正视图；
[0016]图3为图2中A处的放大图；
[0017]图4为图2中B处的放大图。
[0018]图中：1、底座；101、铰接底座；102、偏转支杆；103、主支撑架；1031、外侧铰接座；1032、内侧铰接座；104、轴承外环座；1041、轴承；105、伸缩件连接底座；106、电磁液压伸缩件；2、滚筒模具；201、传动连接座；3、横梁杆件；301、横梁铰接头端；4、光定位组件；401、外球座；402、射灯；403、内球芯；404、铅锤块；405、第一强力磁衬片；406、第二强力磁衬片；5、光感检测盘。
具体实施方式
[0019]为了更加清楚完整的说明本技术的技术方案，下面结合附图对本技术作进一步说明。
[0020]请参考图1
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图4，本技术提出应用于纳米级制膜设备的定位组件，包括滚筒模具2和用于调节滚筒模具2倾斜度的滚筒支架组件，滚筒支架组件包括底座1，底座1上设有两个铰接底座101，两个铰接底座101上均通过轴杆件连接有一对偏转支杆102，且两个铰接底座101均通过一对偏转支杆102连接有一个主支撑架103，主支撑架103的顶部均设有轴承外环座104，且两个轴承外环座104套设于滚筒模具2的外部，轴承外环座104的内部配合有轴承1041，且轴承1041的轴承内圈与滚筒模具2的外壁过盈配合，使滚筒模具2在进行高速旋转时仍能进行有效支撑，底座1上且位于两侧均设有伸缩件连接底座105，伸缩件连接底座105上连接有电磁液压伸缩件106，电磁液压伸缩件106的伸缩杆呈斜向上延伸，电磁液压伸缩件106的伸缩杆端部设有铰接头，且电磁液压伸缩件106的伸缩杆端部的铰接头与主支撑架103外壁设有的外侧铰接座1031相连接，通过控制电磁液压伸缩件106的伸缩杆进行伸缩，从而有效调节两个轴承外环座104的高度位置，即达到调节滚筒模具2的倾斜度直至水平状态，滚筒模具2的一侧设有传动连接座201，传动连接座201为十字轴连接座，由于需要对滚筒模具2调节倾斜状态直至水平，而通常对滚筒模具2驱动的动力源固定在机体上，故
而之间需要由传动连接座201实现传动，保证动力传输稳定。
[0021]两个主支撑架103的内侧设有两对内侧铰接座1032，且两对内侧铰接座1032之间连接有横梁杆件3，位于上方的横梁杆件3中部设有光定位组件4，位于下方的横梁杆件3的中部设有光感检测盘5，光感检测盘5设置于横梁杆件3的正下方，横梁杆件3的两端均为横梁铰接头端301，且横梁铰接头端301通过销杆件与内侧铰接座1032相连接，光定位组件4包括与横梁杆件3固定的外球座401，外球座401中部穿插有呈垂直设置的射灯402，射灯402的中部设有内球芯403，内球芯403配合于外球座401内部，射灯402的射线发生端设置于底端，射灯402的底部设有铅锤块404，由于射灯402受铅锤块404的作用始终保持垂直向下，而光感检测盘5受横梁杆件3两端所连接两个主支撑架103的高度差影响而产生斜向，当滚筒模具2未处于水平状态时，射灯402所发射的射线在光感检测盘5上的成像未处于中心点，进而需要结合操控两个电磁液压伸缩件106，对两个主支撑架10本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.应用于纳米级制膜设备的定位组件，包括滚筒模具（2）和用于调节滚筒模具（2）倾斜度的滚筒支架组件，其特征在于，所述滚筒支架组件包括底座（1），底座（1）上设有两个铰接底座（101），两个铰接底座（101）上均通过轴杆件连接有一对偏转支杆（102），且两个铰接底座（101）均通过一对偏转支杆（102）连接有一个主支撑架（103），所述主支撑架（103）的顶部均设有轴承外环座（104），且两个轴承外环座（104）套设于滚筒模具（2）的外部，所述底座（1）上且位于两侧均设有伸缩件连接底座（105），伸缩件连接底座（105）上连接有电磁液压伸缩件（106），所述电磁液压伸缩件（106）的伸缩杆呈斜向上延伸，电磁液压伸缩件（106）的伸缩杆端部设有铰接头，且电磁液压伸缩件（106）的伸缩杆端部的铰接头与主支撑架（103）外壁设有的外侧铰接座（1031）相连接，所述两个主支撑架（103）的内侧设有两对内侧铰接座（1032），且两对内侧铰接座（1032）之间连接有横梁杆件（3），位于上方的横梁杆件（3）中部设有光定位组件（4），位于下方的横梁杆件（3）的中部设有光感检测盘（5），光感检测盘（5）设置于横梁杆件（3）的正下方。2.根据权利要求1所述的应用于纳米级制膜设备的定位组件，其特征在于，所述轴承外环座（104）的内部配合有轴承（1...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙杭州，孙斌，尚博，梁舰，李晓刚，
申请(专利权)人：江阴市纪泽万家科技有限公司，
类型：新型
国别省市：