一种旋涂可控的低温型匀胶机制造技术

本发明专利技术涉及匀胶机技术领域，具体公开了一种旋涂可控的低温型匀胶机,包括箱体防护机构、冷却机构与主体机构，所述箱体防护机构包括下箱体组件、下上箱体组件与箱盖组件，所述主体机构包括匀胶主体组件与磁力搅拌组件，所述冷却机构包括冷却组件、左右吹风组件与前后吹风风扇；本发明专利技术中，通过冷却组件、前后吹风风扇与左右吹风组件协同作业准确降低溶液的温度，改变旋涂溶液的流体性质，提升成膜效果；通过冷却组件、前后吹风风扇与左右吹风组件的协同作业准确降低旋涂氛围的温度，控制溶液结晶、溶剂挥发的速率，提高成膜质量；旋涂腔体与治具为整体加工，优秀的导热系数和热容量保证了温度低扰动性和实验结果的重复性。了温度低扰动性和实验结果的重复性。

【技术实现步骤摘要】
一种旋涂可控的低温型匀胶机


[0001]本专利技术涉及匀胶机
，具体为一种旋涂可控的低温型匀胶机。

技术介绍

[0002]钙钛矿和有机半导体薄膜在发光面板、光伏、半导体晶体管等领域具有广泛的应用。这些薄膜主要通过溶液旋涂、刮涂、丝网印刷、狭缝涂布等工艺实现。其中旋涂是将均匀薄膜施加到平坦基底上的最常见工艺手段。一个典型的过程包括将适量液体施加在在基底中部位置，然后高速旋转基底。离心力作用将液体扩散到整块基底直至边缘，并最终甩去多余液体，在表面留下一层薄膜，最终薄膜厚度和其他性能将取决于液体的性质(粘度、干燥速率、固体百分比、表面张力等)，以及旋转过程参数(最终转速、加速度和气氛等)，以上综合确定了膜层的特性，现有技术中一般采用匀胶机实现这一系列动作。
[0003]现有技术中的匀胶机满足一般的使用要求，但其在现实的使用过程中还存在以下不足之处：
[0004]1.现有技术中的匀胶机，在对旋涂溶液的温度控制上效果较差，无法通过通过准确降低溶液的温度，改变溶液的流体性质，提升成膜效果；
[0005]2.现有技术中的匀胶机，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种旋涂可控的低温型匀胶机,其特征在于：包括箱体防护机构、冷却机构与主体机构，所述箱体防护机构包括下箱体组件(3)、下箱体组件(3)上端所设的上箱体组件(1)与上箱体组件(1)下端所设的箱盖组件(2)，所述主体机构包括匀胶主体组件(9)与匀胶主体组件(9)侧面所设的磁力搅拌组件(8)，所述冷却机构包括匀胶主体组件(9)左右两侧所设的冷却组件(4)、上箱体组件(1)左右两侧所设的左右吹风组件(6)与上箱体组件(1)前后两端所设的前后吹风风扇(5)。2.根据权利要求1所述的一种旋涂可控的低温型匀胶机，其特征在于：所述上箱体组件(1)包括上箱体(101)，且在上箱体(101)上端面的中间开设有投料孔(102)，所述投料孔(102)的侧面开设有磁力搅拌瓶放置口(103)，所述上箱体(101)的前后两端对称开设有冷却出风口(104)，且在上箱体(101)的左右两端对称开设有冷却进风口(105)；所述箱盖组件(2)包括上盖板(201)，且在上盖板(201)的下端固定安装有与投料孔(102)上端口一侧固定相连的铰链(202)。3.根据权利要求2所述的一种旋涂可控的低温型匀胶机，其特征在于：所述下箱体组件(3)包括上箱体(101)下端所设的上撑板(301)与下撑板(302)，所述上箱体(101)固定安装在上撑板(301)的上端，所述下撑板(302)的中间开设有透气孔(303)，所述上撑板(301)的下撑板(302)的左右两侧分别固定安装有左撑板(304)与右撑板(305)，所述右撑板(305)的侧面固定安装有紧急制动按钮(306)，所述上撑板(301)与下撑板(302)的后端固定安装有后撑板(310)，且在后撑板(310)的壁体上开设有外接插槽(311)。4.根据权利要求3所述的一种旋涂可控的低温型匀胶机，其特征在于：所述上撑板(301)与下撑板(302)的前端固定安装有前撑板(307)，且在前撑板(307)的中间开设有触控面板安装槽(308)，所述触控面板安装槽(308)内固定安装有触控面板(309)。5.根据权利要求3所述的一种旋涂可控的低温型匀胶机，其特征在于：所述上撑板(301)上端面的中间开设有导向套固定孔，所述上撑板(301)的上端并且在导向套固定孔的上端口处固定安装有冷凝集水槽板(10)。6.根据权利要求5所述的一种旋涂可控的低温型匀胶机，其特征在于：所述匀胶主体组件(9)包括固定安装在冷凝集水槽板(10)上端的主体座(901)，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙杭州，孙斌，尚博，梁舰，李晓刚，
申请(专利权)人：江阴市纪泽万家科技有限公司，
类型：发明
国别省市：