本实用新型专利技术提供一种气浮旋转装置及碳化硅外延生长设备。所述气浮旋转装置包括气浮托盘、石墨底座、螺杆和旋转测速装置，所述螺杆一端与所述气浮托盘可拆卸连接，另一端贯穿所述石墨底座后与所述旋转测速装置固定连接，所述石墨底座上设置进气口、至少两个分气孔和至少两个斜出气孔，所述分气孔分别与所述进气口连接的，所述斜出气孔分别与对应的所述分气孔连接，所述气浮托盘上设置旋转气道，流出的气体驱动所述气浮托盘浮起，所述螺杆和所述旋转测速装置跟随所述气浮托盘按照所述旋转气道的设定方向旋转。本实用新型专利技术提供的气浮旋转装置及碳化硅外延生长设备能够实现监控所述气浮托盘的实际转速，有效监控所述气浮托盘的旋转速率。速率。速率。
【技术实现步骤摘要】
气浮旋转装置及碳化硅外延生长设备
[0001]本技术涉及碳化硅外延生长
，特别涉及一种气浮旋转装置及碳化硅外延生长设备。
技术介绍
[0002]碳化硅外延生长是指在碳化硅衬底上生长一层有一定要求的、与衬底晶向相同的单晶层，犹如原来的晶体向外延伸了一段。生长外延层的方法有多种，其中最常用的是化学气相沉积工艺，具体是把衬底放在反应室内加热，并通入含硅反应气体进行高温反应，使含硅反应气体还原或热分解，所产生的硅原子在衬底硅表面上外延生长。化学气相沉积工艺中，沉积薄膜的均匀性极为重要，而薄膜的均匀性主要受到炉内气体分布的影响。化学气相沉积过程是一个极为复杂的化学过程，气体是否均匀分布会对工艺的沉积速率、膜层的致密性、薄膜均匀性等产生较大影响。通常来说化学气相沉积受气体流场等工艺因素影响均匀性难以保证，为了提高涂层均匀性一般采用气浮托盘旋转工艺，以达到稳定生产的目的。
[0003]现有技术的气浮托盘旋转工艺中仅使用气浮托盘与石墨底座，其中石墨底座中的主气孔只与两个分气孔相连，且只设置两个斜出气孔，从主气孔流进的气体经过两个分气孔一分为二并从斜出气孔流出，通过流出的气体带动上方气浮托盘旋转。在此过程，气浮托盘旋转是在密闭的真空反应腔下进行，气浮托盘是否旋转与旋转的转速是无法监控的。若在使用过程中，出现气浮托盘不旋转、旋转速率过快或过慢都会影响外延片生产质量。
[0004]因此，现有技术有必要进行改进。
技术实现思路
[0005]现有技术中，气浮托盘旋转是在密闭的真空反应腔下进行，气浮托盘是否旋转与旋转的转速是无法监控的。若在使用过程中，出现气浮托盘不旋转、旋转速率过快或过慢都会影响外延片生产质量，因此，本技术提供一种气浮旋转装置及碳化硅外延生长设备用于解决上述问题。
[0006]第一方面，本技术提供一种气浮旋转装置，其包括气浮托盘、石墨底座、螺杆和旋转测速装置，所述螺杆一端与所述气浮托盘可拆卸连接，另一端贯穿所述石墨底座后与所述旋转测速装置固定连接，所述石墨底座上设置进气口、至少两个分气孔和至少两个斜出气孔，所述分气孔分别与所述进气口连接的，所述斜出气孔分别与对应的所述分气孔连接，所述气浮托盘上设置旋转气道；气体从所述进气口进入，经过所述分气孔，从所述斜出气孔流出时，流出的气体驱动所述气浮托盘浮起，所述螺杆和所述旋转测速装置跟随所述气浮托盘按照所述旋转气道的设定方向旋转。
[0007]在一种实现方式中，所述旋转测速装置为三角螺旋桨。
[0008]在一种实现方式中，所述气浮托盘上设置内螺纹，所述螺杆一端设置外螺纹，所述气浮托盘和所述螺杆连接时通过所述内螺纹和所述外螺纹锁紧连接。
[0009]在一种实现方式中，所述石墨底座上设置一个进气口、三个分气孔和三个斜出气
孔。
[0010]在一种实现方式中，所述石墨底座上设置第一分气孔、第二分气孔和第三分气孔，所述第一分气孔、所述第二分气孔和所述第三分气孔相互连通且分别与所述进气口相连。
[0011]在一种实现方式中，所述石墨底座上设置第一斜出气孔、第二斜出气孔和第三斜出气孔，所述第一斜出气孔、所述第二斜出气孔和所述第三斜出气孔均匀分布在所述石墨底座上，且其从所述石墨底座朝向所述气浮托盘的倾斜角度相同。
[0012]在一种实现方式中，所述气浮托盘上设置圆形凸台，所述石墨底座上设置圆形凹槽，所述气浮托盘和所述石墨底座通过所述圆形凸台和所述圆形凹槽连接。
[0013]在一种实现方式中，所述石墨底座上的圆形凹槽的内壁光滑，所述石墨底座的表面粗糙度为Ra0.6。
[0014]在一种实现方式中，所述石墨底座和所述气浮托盘之间设置装配间隙，单边的所述装配间隙不大于0.03mm。
[0015]第二方面，本技术还提供一种碳化硅外延生长设备，其包括上述任意一项所述的气浮旋转装置。
[0016]有益效果：本技术提供的气浮旋转装置及碳化硅外延生长设备通过设置旋转测速装置，使得通过红外线探测仪探测所述旋转测速装置的次数，实现监控所述气浮托盘的实际转速，有效监控所述气浮托盘的旋转速率，也有效提高外延片的生长良率和生长质量。
附图说明
[0017]图1是本技术提供的气浮旋转装置的分解结构示意图；
[0018]图2是图1所示的气浮旋转装置的整体结构的立体剖面示意图；
[0019]图3是图1所示的气浮旋转装置的剖面结构示意图。
[0020]其中，100、气浮旋转装置；10、气浮托盘；11、旋转气道；12、内螺纹；20、石墨底座；21、进气口；22、第一分气孔；23、第一斜出气孔；24、第二分气孔；25、第二斜出气孔；26、第三分气孔；27、第三斜出气孔；30、螺杆；31、外螺纹。
[0021]本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0022]应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0023]本
技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”“上述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本技术的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件、单元、模块和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、单元、模块、组件和/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”或“耦接”到另一元件时，它可以直接连接或耦接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或无线耦接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。
[0024]本
技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本技术所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。
[0025]请结合参阅图1
‑
图3，图1是本技术提供的气浮旋转装置的整体结构示意图，图2是图1所示的气浮旋转装置的分解结构示意图，图3是图1所示的气浮旋转装置的剖面结构示意图。
[0026]本技术提供一种气浮旋转装置100，其包括气浮托盘10、石墨底座20、螺杆30和旋转测速装置(图未标示)，所述螺杆30一端与所述气浮托盘10可拆卸连接，另一端贯穿所述石墨底座20后与所述旋转测速装置固定连接，所述石墨底座20上设置进气口21、至少两个分气孔和至少两个斜出气孔，所述分气孔分别与所述进气口21连接的，所述斜出气孔分别与对应的所述分气孔连接，所述气浮托盘10上设置旋转气道11；气体从所述进气口21进入，经过所述分气孔，从所述斜出气孔流出时，流出的气体驱动所述气浮托盘10浮起，所述螺杆30和本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种气浮旋转装置，其特征在于，包括气浮托盘、石墨底座、螺杆和旋转测速装置，所述螺杆一端与所述气浮托盘可拆卸连接，另一端贯穿所述石墨底座后与所述旋转测速装置固定连接，所述石墨底座上设置进气口、至少两个分气孔和至少两个斜出气孔，所述分气孔分别与所述进气口连接的，所述斜出气孔分别与对应的所述分气孔连接，所述气浮托盘上设置旋转气道；气体从所述进气口进入，经过所述分气孔，从所述斜出气孔流出时，流出的气体驱动所述气浮托盘浮起，所述螺杆和所述旋转测速装置跟随所述气浮托盘按照所述旋转气道的设定方向旋转。2.根据权利要求1所述的气浮旋转装置，其特征在于，所述旋转测速装置为三角螺旋桨。3.根据权利要求1所述的气浮旋转装置，其特征在于，所述气浮托盘上设置内螺纹，所述螺杆一端设置外螺纹，所述气浮托盘和所述螺杆连接时通过所述内螺纹和所述外螺纹锁紧连接。4.根据权利要求1所述的气浮旋转装置，其特征在于，所述石墨底座上设置一个进气口、三个分气孔和三个斜出气孔。5.根据权利要求4所述的气浮旋转装置，其特征在于，所述石墨底座上...
【专利技术属性】
技术研发人员：周祖豪，雷宏涛，盛思义，
申请(专利权)人：广州志橙半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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