一种基于Wincc的CVD炉生产监控系统技术方案

本发明专利技术涉及生产监控技术领域，公开了一种基于Wincc的CVD炉生产监控系统，用于实时监测并修改调整生产数据并且可以追溯历史生产数据。所述系统包括：上位机、下位机和检测装置；上位机用于：对CVD炉的设备和参数进行监控和管理；以及读取CVD炉的生产数据，并将生产数据传输至下位机；检测装置用于：采集CVD炉的参数信号，并根据参数信号检测CVD炉的实际参数值；以及将实际参数值传输至下位机；下位机用于：根据生产数据控制CVD炉，并将生产数据对应的参数信号传输至上位机；以及接收实际参数值，并对实际参数值和预置的期望值进行比较，生成比较结果；以及根据比较结果执行对应的控制指令。令。令。

【技术实现步骤摘要】
一种基于Wincc的CVD炉生产监控系统


[0001]本专利技术涉及生产监控
，尤其涉及一种基于Wincc的CVD炉生产监控系统。

技术介绍

[0002]化学沉积（CVD）是一种广泛应用制备碳化硅（SIC）涂层和高温碳化硅复合材料的工艺方法，温度、压力、气体流量等因素是影响CVD产品优良率的关键所在，因此可进行多参数如：温度、压力、气体流量等的精细把控，实现产品优良率的提高。
[0003]由于CVD炉整体系统复杂，有许多控制量和被控制量，许多参数之间关系复杂，干扰因素又有很多，因此需要实时的把控各个生产参数，合理的对生产过程中参数的变化作出相对应的调整。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供了一种基于Wincc的CVD炉生产监控系统，用于实时监测并修改调整生产数据并且可以追溯历史生产数据。
[0005]本专利技术第一方面提供了一种基于Wincc的CVD炉生产监控系统，所述基于Wincc的CVD炉生产监控系统包括：上位机、下位机和检测装置；所述上位机配置有Wincc组态软件人机界面设计；所述下位机通过梯形图实现CVD炉生产控制；
[0006]所述上位机用于：对CVD炉的设备和参数进行监控和管理；以及读取所述CVD炉的生产数据，并将所述生产数据传输至所述下位机；
[0007]所述检测装置用于：采集所述CVD炉的参数信号，并根据所述参数信号检测所述CVD炉的实际参数值；以及将所述实际参数值传输至所述下位机；
[0008]所述下位机用于：根据所述生产数据控制所述CVD炉，并将所述生产数据对应的参数信号传输至所述上位机；以及接收所述实际参数值，并对所述实际参数值和预置的期望值进行比较，生成比较结果；以及根据所述比较结果执行对应的控制指令。
[0009]结合第一方面，在本专利技术第一方面的第一实施方式中，所述上位机具体用于：通过异地实时共享所述CVD炉的监控信息；以及显示所述CVD炉的生产参数信息；以及查询实时数据、历史数据和报表数据。
[0010]结合第一方面，在本专利技术第一方面的第二实施方式中，所述上位机具体用于：实时数据采集、数据保存、实时控制、修改参数、屏幕显示、查询打印以及与下位机进行通信。
[0011]结合第一方面，在本专利技术第一方面的第三实施方式中，所述上位机具体用于：将所述生产参数信息显示为图形或者文本。
[0012]结合第一方面，在本专利技术第一方面的第四实施方式中，所述下位机由电源模块、CPU模块、数字量输入模块、数字量输出模块、模拟量输入模块和模拟量输出模块构成。
[0013]结合第一方面，在本专利技术第一方面的第五实施方式中，所述模拟量输入模块用于：将所述检测装置检测到的温度信号和压力信号转换为以0～20mA模拟量电流信号输入模拟量输入模块，通过所述模拟量输入模块将所述模拟量电流信号转换为数字量，并将所述数
字量送入到所述下位机中的CPU进行处理，所述上位机和所述下位机在屏幕上显示采集来的数据。
[0014]结合第一方面，在本专利技术第一方面的第六实施方式中，所述检测装置包括：压力传感器，所述压力传感器用于检测炉内压力；温度传感器，所述温度传感器用于检测炉内温度；气体流量传感器，所述气体流量传感器用于检测气体流量。
[0015]结合第一方面，在本专利技术第一方面的第七实施方式中，所述上位机与所述下位机之间通过以太网通信连接。
[0016]结合第一方面，在本专利技术第一方面的第八实施方式中，所述上位机为PC工业一体机，所述下位机为PLC。
[0017]本专利技术提供的技术方案中，系统包括：上位机、下位机和检测装置；上位机用于：对CVD炉的设备和参数进行监控和管理；以及读取CVD炉的生产数据，并将生产数据传输至下位机；检测装置用于：采集CVD炉的参数信号，并根据参数信号检测CVD炉的实际参数值；以及将实际参数值传输至下位机；下位机用于：根据生产数据控制CVD炉，并将生产数据对应的参数信号传输至上位机101；以及接收实际参数值，并对实际参数值和预置的期望值进行比较，生成比较结果；以及根据比较结果执行对应的控制指令，本专利技术通过Wincc在可视化界面中监测修改CVD炉的各个生产数据参数，在工业一体化PC中可以方便的监测、修改、查询、追溯，在经过生产运行后，该系统可以满足现在生产的需求，可以达到对CVD炉生产时工艺数据的监控，生产过程中能把控好重要数据的变化，进而实现实时监测并修改调整生产数据并且追溯历史生产数据。
附图说明
[0018]图1为本专利技术实施例中基于Wincc的CVD炉生产监控系统的一个实施例示意图；
[0019]图2为本专利技术实施例中CVD炉信号采集系统结构图；
[0020]图3为本专利技术实施例中CVD炉的wincc监控系统的人机界面。
具体实施方式
[0021]本专利技术实施例提供了一种基于Wincc的CVD炉生产监控系统，用于实时监测并修改调整生产数据并且可以追溯历史生产数据。本专利技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等（如果存在）是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的实施例能够以除了在这里图示或描述的内容以外的顺序实施。此外，术语“包括”或“具有”及其任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
[0022]为便于理解，下面对本专利技术实施例的具体流程进行描述，请参阅图1，本专利技术实施例中基于Wincc的CVD炉生产监控系统的一个实施例包括：
[0023]所述基于Wincc的CVD炉生产监控系统包括：上位机101、下位机102和检测装置103；所述上位机101配置有Wincc组态软件人机界面设计；所述下位机102通过梯形图实现CVD炉生产控制；
[0024]需要说明的是，Wincc(Windows Control Center)视窗控制中心，Wincc是一种工业控制系统，它可以帮助用户更好地管理工厂的生产过程，并且可以提高工厂的生产效率。Wincc可以支持多种类型的控制系统，包括PLC、DCS、SCADA等，可以满足不同类型的需求。此外，Wincc还提供了一系列的功能，包括数据采集、数据分析、报警管理等，可以帮助用户更好地管理CVD炉的生产过程。
[0025]所述上位机101用于：对CVD炉的设备和参数进行监控和管理；以及读取所述CVD炉的生产数据，并将所述生产数据传输至所述下位机102；
[0026]所述检测装置103用于：采集所述CVD炉的参数信号，并根据所述参数信号检测所述CVD炉的实际参数值；以及将所述实际参数值传输至所述下位机102；
[0027]所述下位机102用于：根据所述生产数据控制所述CVD炉，并将所述生产数据对应的参数信号传输至所述上位机101；以及本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于Wincc的CVD炉生产监控系统，其特征在于，所述基于Wincc的CVD炉生产监控系统包括：上位机、下位机和检测装置；所述上位机配置有Wincc组态软件人机界面设计；所述下位机通过梯形图实现CVD炉生产控制；所述上位机用于：对CVD炉的设备和参数进行监控和管理；以及读取所述CVD炉的生产数据，并将所述生产数据传输至所述下位机；所述检测装置用于：采集所述CVD炉的参数信号，并根据所述参数信号检测所述CVD炉的实际参数值；以及将所述实际参数值传输至所述下位机；所述下位机用于：根据所述生产数据控制所述CVD炉，并将所述生产数据对应的参数信号传输至所述上位机；以及接收所述实际参数值，并对所述实际参数值和预置的期望值进行比较，生成比较结果；以及根据所述比较结果执行对应的控制指令。2.根据权利要求1所述的基于Wincc的CVD炉生产监控系统，其特征在于，所述上位机具体用于：通过异地实时共享所述CVD炉的监控信息；以及显示所述CVD炉的生产参数信息；以及查询实时数据、历史数据和报表数据。3.根据权利要求1所述的基于Wincc的CVD炉生产监控系统，其特征在于，所述上位机具体用于：实时数据采集、数据保存、实时控制、修改参数、屏幕显示、查询打印以及与下位机进行通信。4.根据权利要求2所述的基于Wi...

【专利技术属性】
技术研发人员：林梓峰，李铭湛，邹明蓓，朱佰喜，薛抗美，
申请(专利权)人：广州志橙半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：