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金属/介质多层薄膜结构10.6μm红外波段的光极化分离器制造技术

技术编号:3788081 阅读:279 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种金属/介质多层薄膜结构10.6μm红外波段的光极化分离器。该光极化分离器由敷设在二氧化硅基底上的金属性的碳化硅薄膜和介质特性的二氧化硅薄膜交替构成。本发明专利技术的光极化分离器具有良好的极化消光系数,且具有结构简单,容易实现,便于安装等优点,可以广泛应用于光通讯交换、光信息测量和光耦合等光学系统中。为光学系统中极化分离和极化变换的实现提供了一条新的途径。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种10.6ym红外波段光极化分离器,属于信息光学
,是用于使不 同极化的光波沿不同光路传播而达到分离效果的光学器件。
技术介绍
在光通讯交换、光信息测量和光耦合等诸多光学系统中,日益要求设备向着体积小、重量 轻的方向发展。光极化分离器是这些光学系统中的基础器件。传统的光极化分离是采用光波 导传播的方式来实现,对于光波导的尺寸和形状有着极其严格的要求。10.6ixm红外激光在 军事、科研等领域应用广泛,这一波段对于传统的光极化分离器件有着很高的工艺要求,成 为制约该波段光学设备往小型化发展的一个瓶颈,限制了光学设备在一些特殊环境下的应用 (如激光制导)。
技术实现思路
专利技术目的本专利技术针对现有技术的不足,提供一种高效的10.6um红外波段光极化分离 器,该光极化分离器完全屏弃了光波导传播的方式,而是根据等效介质理论,采用金属/介质 多层薄膜结构来实现极化分离,同时保证该分离器呈平面结构,具有低剖面的优点。技术方案本专利技术所述的10.6um红外波段光极化分离器的理论基础是等效介质理论, 在二氧化硅基底上由碳化硅薄膜和二氧化硅薄膜交替构成; 一层碳化硅薄膜和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属/介质多层薄膜结构10.6μm红外波段的光极化分离器,其特征是该光极化分离器包括一个二氧化硅为基底(1),碳化硅薄膜(2)和二氧化硅薄膜(3)交替组合敷设在二氧化硅基底上。光从左边入射后,根据极化的不同(TE/TM)形成不同的光路从右边透射出,实现极化分离的功能。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:冯一军郝玙姜田赵林左钰
申请(专利权)人:南京大学
类型:发明
国别省市:84[中国|南京]

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