二芳基氧化膦衍生物制造技术

本公开提供新型的磷化合物。本公开尤其提供以下的通式R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】二芳基氧化膦衍生物


[0001]本公开涉及二芳基氧化膦衍生物。

技术介绍

[0002]磷化合物由于其性质而在各种用途中使用。提供新型的含磷的化合物是有意义的。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：国际公开第2018/124205号
[0006]专利文献2：日本特开2017
‑
132731号

技术实现思路

[0007]用于解决问题的方案
[0008]本专利技术人等进行了深入研究，结果合成了认为具有高的有用性的二芳基氧化膦衍生物的新型化合物，提供本专利技术。
[0009]本专利技术提供迄今被认为特别困难的二芳基氧化膦衍生物的合成方法。
[0010]本公开还提供以下的项目。
[0011](项目1)
[0012]一种氧化膦化合物或其盐，其由以下的通式所示，
[0013]R
a
‑
P(＝O)R1R2[0014]式中，
[0015]R1和R2不同或相同，各自独立地为具有取代基的芳基，
[0016]R
a
为具有不饱和双键的基团、具有环氧基的基团、包含羟基的基团、或包含磷的基团。
[0017](项目2)
[0018]根据项目1所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的前述芳基各自独立地具有1个、2个或3个取代基。
[0019](项目3)
[0020]根据项目1所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的前述芳基分别具有1个取代基。
[0021](项目4)
[0022]根据项目1所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的前述芳基分别具有2个取代基。
[0023](项目5)
[0024]根据项目1所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的前述芳基分别具有3个取代基。
[0025](项目6)
[0026]根据项目1～5中任一项所述的化合物或其盐，其中，前述R1和R2中的前述芳基上的取代基选自由卤素、烷基、
‑
O烷基、
‑
OH、
‑
NO2、
‑
NH2、
‑
C(＝O)H、
‑
C(＝O)烷基、和
‑
C(＝O)O烷基组成的组，前述烷基为取代或非取代的烷基。
[0027](项目7)
[0028]根据项目1～6中任一项所述的化合物或其盐，其中，前述R1和R2中的前述芳基上的取代基选自由卤素、
‑
C1～C4烷基、
‑
OC1～C4烷基、
‑
OH、
‑
NO2、
‑
NH2、
‑
C(＝O)H、
‑
C(＝O)C1～C4烷基、和
‑
C(＝O)OC1～C4烷基组成的组，前述烷基为取代或非取代的烷基。
[0029](项目8)
[0030]根据项目1～7中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中，前述取代基各自独立地为
‑
C1～C4烷基。
[0031](项目9)
[0032]根据项目1～8中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中，前述具有取代基的芳基为具有取代基的单环、二环或三环。
[0033](项目10)
[0034]根据项目1～9中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中，前述具有取代基的芳基为具有取代基的苯基。
[0035](项目11)
[0036]根据项目1～10中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2为
[0037][0038]*表示键合位点。
[0039](项目12)
[0040]根据项目1～11中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R
a
为末端具有不饱和双键的基团、末端具有环氧基的基团、具有2个以上的羟基的芳基、或包含氧化膦的基团。
[0041](项目13)
[0042]根据项目1～12中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R
a
为
[0043][0044]或二羟基取代芳基，
[0045]R3和R4各自独立地为氢、或者取代或非取代的烷基，
[0046]n为1或2，
[0047]此处，n为2时，各R3任选各自相同或不同，各R4任选各自相同或不同，
[0048]R5为氢、或者取代或非取代的烷基，
[0049]R6、R7、R8、和R9各自独立地为氢、或者取代或非取代的烷基，
[0050]n1和n2各自独立地为1～3，
[0051]此处，n1为2或3时，各R6任选各自相同或不同，各R7任选各自相同或不同，
[0052]此处，n2为2或3时，各R8任选各自相同或不同，各R9任选各自相同或不同，
[0053]*表示键合位点。
[0054](项目14)
[0055]根据项目1～13中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R
a
为丙烯酰氧基甲基、甲基丙烯酰氧基甲基、环氧甲氧基丙基或2,5
‑
二羟基苯基。
[0056](项目15)
[0057]根据项目13所述的化合物或其盐，其中，前述氧化膦化合物由以下的通式(I)表示，
[0058][0059]R1、R2如项目1中所述，R3、R4、n和R5如项目13中所述。
[0060](项目16)
[0061]根据项目15所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的前述芳基各自独立地具有1个、2个或3个取代基。
[0062](项目17)
[0063]根据项目16所述的氧化膦化合物或其盐，其中，前述R1和R2中的前述芳基上的取代基为取代或非取代的烷基。
[0064](项目18)
[0065]根据项目13所述的氧化膦化合物或其盐，其中，前述氧化膦化合物由以下的通式(II)表示，
[0066][0067]R1、R2如项目1中所述，R6、R7、R8、R9、n1、和n2如项目13中。
[0068](项目19)
[0069]根据项目18所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的前述芳基各自独立地具有1个、2个或3个取代基。
[0070](项目20)
[0071]根据项目19所述的氧化膦化合物或其盐，其中，前述R1和R2中的前述芳基上的取代基为取代或非取代的烷基。
[0072](项目21)
[0073]根据项目13所述的化合物或其盐，其中，前述氧化膦化合物由以下的通式(III)表示，
[0074][0075]R1、R2如项目1中所述。
[0076](项目22)
[0077]根据项目21所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种氧化膦化合物或其盐，其由以下的通式所示，R
a
‑
P(＝O)R1R2式中，R1和R2不同或相同，各自独立地为具有取代基的芳基，R
a
为具有不饱和双键的基团、具有环氧基的基团、包含羟基的基团、或包含磷的基团。2.根据权利要求1所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的所述芳基各自独立地具有1个、2个或3个取代基。3.根据权利要求1所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的所述芳基分别具有1个取代基。4.根据权利要求1所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的所述芳基分别具有2个取代基。5.根据权利要求1所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的所述芳基分别具有3个取代基。6.根据权利要求1～5中任一项所述的化合物或其盐，其中，所述R1和R2中的所述芳基上的取代基选自由卤素、烷基、
‑
O烷基、
‑
OH、
‑
NO2、
‑
NH2、
‑
C(＝O)H、
‑
C(＝O)烷基、和
‑
C(＝O)O烷基组成的组，所述烷基为取代或非取代的烷基。7.根据权利要求1～6中任一项所述的化合物或其盐，其中，所述R1和R2中的所述芳基上的取代基选自由卤素、
‑
C1～C4烷基、
‑
OC1～C4烷基、
‑
OH、
‑
NO2、
‑
NH2、
‑
C(＝O)H、
‑
C(＝O)C1～C4烷基、和
‑
C(＝O)OC1～C4烷基组成的组，所述烷基为取代或非取代的烷基。8.根据权利要求1～7中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中，所述取代基各自独立地为
‑
C1～C4烷基。9.根据权利要求1～8中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中，所述具有取代基的芳基为具有取代基的单环、二环或三环。10.根据权利要求1～9中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中，所述具有取代基的芳基为具有取代基的苯基。11.根据权利要求1～10中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2为*表示键合位点。12.根据权利要求1～11中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R
a
为末端具有不饱和双键的基团、末端具有环氧基的基团、具有2个以上的羟基的芳基、或包含氧化膦的基团。
13.根据权利要求1～12中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R
a
为或二羟基取代芳基，R3和R4各自独立地为氢、或者取代或非取代的烷基，n为1或2，此处，n为2时，各R3任选各自相同或不同，各R4任选各自相同或不同，R5为氢、或者取代或非取代的烷基，R6、R7、R8、和R9各自独立地为氢、或者取代或非取代的烷基，n1和n2各自独立地为1～3，此处，n1为2或3时，各R6任选各自相同或不同，各R7任选各自相同或不同，此处，n2为2或3时，各R8任选各自相同或不同，各R9任选各自相同或不同，*表示键合位点。14.根据权利要求1～13中任一项所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R
a
为丙烯酰氧基甲基、甲基丙烯酰氧基甲基、环氧甲氧基丙基或2,5
‑
二羟基苯基。15.根据权利要求13所述的化合物或其盐，其中，所述氧化膦化合物由以下的通式(I)表示，R1、R2如权利要求1中所述，R3、R4、n和R5如权利要求13中所述。16.根据权利要求15所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的所述芳基各自独立地具有1个、2个或3个取代基。17.根据权利要求16所述的氧化膦化合物或其盐，其中，所述R1和R2中的所述芳基上的取代基为取代或非取代的烷基。18.根据权利要求13所述的化合物或其盐，其中，所述氧化膦化合物由以下的通式(II)表示，
R1、R2如权利要求1中所述，R6、R7、R8、R9、n1、和n2如权利要求13中所述。19.根据权利要求18所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的所述芳基各自独立地具有1个、2个或3个取代基。20.根据权利要求19所述的氧化膦化合物或其盐，其中，所述R1和R2中的所述芳基上的取代基为取代或非取代的烷基。21.根据权利要求13所述的化合物或其盐，其中，所述氧化膦化合物由以下的通式(III)表示，R1、R2如权利要求1中所述。22.根据权利要求21所述的氧化膦化合物或其盐，其中，R1和R2中的所述芳基各自独立地具有2个或3个取代基。23.根据权利要求22所述的氧化膦化合物或其盐，其中，所述R1和R2中的所述芳基上的取代基为取代或非取代的烷基。24.根据权利要求1所述的化合物或其盐，其中，所述氧化膦化合物由以下的通式(IV)表示，(R1)(R2)P(＝O)
‑
(连接体)
‑
P(＝O)(R1)(R2)(IV)R1和R2如权利要求1中所述。25.根据权利要求24所述的化合物或其盐，其中，所述连接体为
‑
(C(R
10
)(R
11

【专利技术属性】
技术研发人员：美浓由佳，篠原广幸，北村优斗，西村直伦，藤野博良，伊川英市，
申请(专利权)人：片山化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：