蒸镀掩模的制造方法技术

本发明专利技术要解决的技术问题是，提供能够使开口区域的位置精度提高的蒸镀掩模的制造方法。蒸镀掩模的制造方法中，在支承基板上隔着基底金属层形成具有规定的图案的光致抗蚀剂层，以支承基板的第一面与水平面垂直的方式配置支承基板，测量支承基板的第一翘曲量，在基底金属层中的没有形成光致抗蚀剂层的区域，通过电铸使金属析出而形成掩模主体，以支承基板的第一面与水平面垂直的方式配置支承基板，测量支承基板的第二翘曲量，根据基于第一翘曲量和第二翘曲量计算的翘曲量的变化量与基于翘曲量的变化量计算的支承基板的内部应力，计算掩模主体的收缩率。主体的收缩率。主体的收缩率。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模的制造方法


[0001]本专利技术涉及蒸镀掩模的制造方法。本专利技术特别涉及在掩模框上具有薄膜状的掩模主体的蒸镀掩模的制造方法。

技术介绍

[0002]作为平板型显示装置的例子，可以列举液晶显示装置和有机EL显示装置。这些显示装置是在基板上层叠包含绝缘体、半导体、导电体等各种材料的薄膜而得到的结构体。通过将这些薄膜适当进行图案化并连接，能够实现作为显示装置的功能。
[0003]形成薄膜的方法大致可以分为气相法、液相法、固相法。气相法可以分为物理气相法和化学气相法。作为物理气相法的代表性例子，已知有蒸镀法。蒸镀法中最简便的方法是真空蒸镀法。真空蒸镀法通过在高真空下对材料进行加热，使材料升华或蒸发而生成材料的蒸气(下面，将这些统称为气化)。在用于使该材料沉积的区域(下面，称为蒸镀区域)，气化了的材料固化、沉积，从而得到材料的薄膜。为了使得有选择地在蒸镀区域形成薄膜，而在蒸镀区域以外的区域(下面，称为非蒸镀区域)不沉积材料，使用掩模(蒸镀掩模)进行真空蒸镀(参照日本特开2009
‑
87840号公报和日本特开2013
‑
209710号公报)。
[0004]蒸镀掩模中，在形成有蒸镀图案的掩模主体上接合有用于将掩模主体固定的掩模框。掩模主体可以通过以在支承基板上隔着金属层形成的具有规定的图案的光致抗蚀剂层作为掩模形成镀膜，与掩模框接合之后，将掩模主体与支承基板和基底金属层分离来形成。

技术实现思路

[0005]专利技术要解决的技术问题
[0006]在掩模主体的制造工序中，在将利用电镀法在支承基板上形成的由精细图案构成的镀层从支承基板分离时，会因镀层的应力而导致镀层收缩。从而，会导致开口区域偏离期望的位置，因此，镀层的收缩率的管理很重要。然而，如果不将镀层从支承基板分离，就无法测量镀层的收缩率，因此，为了从镀层的收缩率的实测结果反馈到精细图案的形成工序或镀层的形成工序，需要必要的天数。
[0007]另一方面，有为了测量镀层的收缩率而在模拟的支承基板上形成镀层并立即剥离，来测量镀层的收缩率的方法。在该情况下，需要将镀层形成得较厚，以使得即使将镀层单独剥离，镀层也不会破损和变形。然而，从模拟的支承基板剥离的镀层，与构成实际的掩模主体的镀层相比状态不同，因此，无法准确地评价收缩率。
[0008]鉴于上述问题，本专利技术的一个实施方式的目的之一是提供能够使开口区域的位置精度提高的蒸镀掩模的制造方法。
[0009]用于解决技术问题的手段
[0010]本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模的制造方法中，在支承基板上隔着基底金属层形成具有规定的图案的光致抗蚀剂层，以支承基板的第一面与水平面垂直的方式配置支承基板，测量支承基板的第一翘曲量，在基底金属层中的没有形成光致抗蚀剂层的区域，通过
电铸使金属析出而形成掩模主体，以支承基板的第一面与水平面垂直的方式配置支承基板，测量支承基板的第二翘曲量，根据基于第一翘曲量和第二翘曲量计算的翘曲量的变化量与基于翘曲量的变化量计算的支承基板的内部应力，计算掩模主体的收缩率，在掩模主体的收缩率小于规定的范围的下限值且为第一阈值以上的情况下，或者在掩模主体的收缩率大于规定的范围的上限值且为第二阈值以下的情况下，与掩模主体的收缩率相应地，改变接下来要制造的掩模主体的规定的图案各自的描画坐标。
附图说明
[0011]图1A是本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模的平面图。
[0012]图1B是本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模的平面图。
[0013]图1C是本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模的截面图。
[0014]图2是对本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模的制造工序的概要进行说明的流程图。
[0015]图3是对调节掩模主体的收缩率的工序进行说明的流程图。
[0016]图4A是表示掩模主体的制造方法的截面图。
[0017]图4B是表示掩模主体的制造方法的截面图。
[0018]图4C是表示掩模主体的制造方法的截面图。
[0019]图5是在SUS基板上形成有镀层的情况下的翘曲量的模拟结果。
[0020]图6是在玻璃基板上形成有镀层的情况下的翘曲量的模拟结果。
[0021]图7是在支承基板上示意性地表示出图5所示的区域301～区域305的图。
[0022]图8是基于由图5得到的掩模主体的收缩率对规定的图案的倍率进行调节后的光致抗蚀剂层的一个例子。
[0023]图9A是表示在掩模主体形成掩模框的方法的截面图。
[0024]图9B是表示在掩模主体形成掩模框的方法的截面图。
[0025]图9C是表示在掩模主体形成掩模框的方法的截面图。
[0026]图9D是表示在掩模主体形成掩模框的方法的截面图。
[0027]图9E是表示在掩模主体形成掩模框的方法的截面图。
[0028]附图标记说明
[0029]10、10
‑
1～10
‑
3：蒸镀掩模，110：掩模主体，110
‑
1：掩模主体，110
‑
2：掩模主体，110a：第一面，110b：第二面，111：开口区域，112：非开口区域，113：开口，120：掩模框，121：框部，122：隔档部，130：连接部，210：支承基板，210a：第一面，210b：第二面，220：金属层，230：光致抗蚀剂层，240：第一镀层，250：保护层，270：第二镀层，280：粘接层，301～305：区域，311～315：区域。
具体实施方式
[0030]下面，参照附图等对本专利技术的各实施方式进行说明。但是，本专利技术可以在不脱离其主旨的范围内以各种方式实施，不应限定于下面例示的实施方式的记载内容来解释。
[0031]为了使说明更明确，有时附图与实际的方式相比，示意性地表示各部分的宽度、厚度、形状等。但是，附图所示的例子只不过是一个例子，只要不对图示的方式进行特别说明，
就不是对本专利技术的解释进行限定。在本说明书和各图中，对于与关于已经出现的图在前面说明过的构成要素相同的构成要素，有时标注相同的附图标记而适当省略详细说明。
[0032]在本说明书和权利要求书中，在表达在某个结构体上配置有另一个结构体的方式时，在仅记载为“在
……
上”的情况下，只要没有特别说明，就定义为包含下述两种情况：以与某个结构体接触的方式，在该结构体的正上方配置另一个结构体的情况；和在某个结构体的上方，隔着其它结构体配置另一个结构体的情况。
[0033](第一实施方式)
[0034]参照图1A～图1C，对本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模的构成进行说明。
[0035]图1A和图1B是本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模10的平面图。具体而言，图1A是从蒸镀掩模10的掩模主体110的第一面110a看的平面图，图1B是从蒸镀掩模10的掩模主体110的第一面110a的相反侧的第二面110b看的平面图。另外，图1C本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：在支承基板上隔着基底金属层形成具有规定的图案的光致抗蚀剂层，以所述支承基板的第一面与水平面垂直的方式配置所述支承基板，测量所述支承基板的第一翘曲量，在所述基底金属层中的没有形成所述光致抗蚀剂层的区域，通过电铸使金属析出而形成掩模主体，以所述支承基板的第一面与水平面垂直的方式配置所述支承基板，测量所述支承基板的第二翘曲量，根据基于所述第一翘曲量和所述第二翘曲量计算的翘曲量的变化量与基于所述翘曲量的变化量计算的所述支承基板的内部应力，计算所述掩模主体的收缩率，在所述掩模主体的收缩率小于规定的范围的下限值且为第一阈值以上的情况下，或者在所述掩模主体的收缩率大于规定的范围的上限值且为第二阈值以下的情况下，与所述掩模主体的收缩率相应地，改变接下来要制造的掩模主体的所述规定的图案各自的描画坐标。2.如权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：福田加一，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器，
类型：发明
国别省市：