一种基于多层薄膜基底精密电铸的射线反射聚焦镜制造方法技术

本发明专利技术提出一种基于多层薄膜基底精密电铸的射线反射聚焦镜制造方法，通过制备聚焦镜的高精度模具，在模具外表面磁控溅射模具分离膜和多层薄膜，在多层薄膜表面电铸镜壳体，利用模具分离膜与多层薄膜的有效分离最终获得内表面附有多层薄膜的射线反射聚焦镜；本发明专利技术将射线反射聚焦镜内表面的超精密加工和磁控溅射多层薄膜难题转化到与聚焦镜模具外表面的直接处理，解决部分小口径内表面直接超精密加工和磁控溅射多层薄膜难题，充分发挥了电铸离子沉积和磁控溅射高均匀性镀膜的技术优势，将模具外表面粗糙度、面形精度和多层薄膜高度、均匀、一致地复制到反射聚焦镜内表面。一致地复制到反射聚焦镜内表面。一致地复制到反射聚焦镜内表面。

【技术实现步骤摘要】
一种基于多层薄膜基底精密电铸的射线反射聚焦镜制造方法


[0001]本专利技术涉及反射聚焦镜技工
，尤其涉及一种基于多层薄膜基底精密电铸的射线反射聚焦镜制造方法。

技术介绍

[0002]反射聚焦镜是研究宇宙天文学、极紫外光刻、光谱学、微探针荧光分析和等离子诊断的关键技术手段。伴随着光学应用领域的不断拓展，射线的科学观测必须延伸至更高能段且具有聚焦单色性，导致现有沉积单层反射薄膜的聚焦镜难以满足应用需求。
[0003]基于布拉格反射原理的多层薄膜由数纳米厚度的异种薄膜材料交替沉积而成，其反射特性可由沉积层厚度、周期性和界面突变性灵活控制，通过逐渐改变基底到表面厚度能够反射不同入射角度和入射能量的射线，从而实现宽能谱反射调控。因此，多层薄膜是未来反射聚焦镜光学应用的理想结构。
[0004]为了实现反射聚焦镜在宽角度范围和宽能段范围内的高反射率目标，多层薄膜必须沉积致密且厚度均匀。目前多层薄膜的制备方法主要有电子束蒸发、离子束溅射和磁控溅射，而前两种方法所制备膜层致密性低、均匀性差。磁控溅射具有低温、高速、高薄膜聚集度和大粒子动能本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于多层薄膜基底精密电铸的射线反射聚焦镜制造方法，其特征在于，包括如下步骤：S1：根据光学应用领域需求，设计射线反射聚焦镜的形状和多层薄膜材料及结构；S2：依照设计的所述射线反射聚焦镜的形状，制造与所述射线反射聚焦镜内部轮廓相同且内部尺寸相匹配的射线反射聚焦镜模具；S3：在所述模具外表面磁控溅射模具分离膜；S4：在所述模具分离膜表面磁控溅射所述多层薄膜；S5：在磁控溅射有所述模具分离膜和多层薄膜的模具外表面精密电铸加工一层镜壳体；S6：在精密电铸加工完成后，通过所述模具分离膜实现所述多层薄膜与所述模具的无形变剥离，获得内表面附有多层薄膜的电铸射线反射聚焦镜。2.根据权利要求1所述的基于多层薄膜基底精密电铸的射线反射聚焦镜制造方法，其特征在于，在步骤S1中，根据光学应用领域需求，所述多层薄膜的设计包括总厚度在纳米尺度变化、所述多层薄膜的材料为金属、半导体或非金属、所述多层薄膜的为包括周期性或非周期性。3.根据权利要求1所述的基于多层薄膜基底精密电铸的射线反射聚焦镜制造方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：王昆，陈海翔，王占山，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：