OPC修正方法技术

本发明专利技术公开了一种OPC修正方法，包括步骤：步骤一、对第一层图形进行变形，包括：在第一层图形中需要设置安全距离的邻近区域中设置辅助图形。步骤二、对第二层图形进行OPC修正，在所述OPC修正中，辅助图形为第二层图形不可覆盖的部分，根据第二层图形和辅助图形的相对关系对第二层图形进行操作从而实现所述OPC修正，OPC修正完成后，在第一层图形中需要设置安全距离的位置处第一层图形和第二层图形的距离大于等于安全距离。本发明专利技术能在OPC修正过程中一步到位的对两层相邻的图形之间的安全距离进行设置，既能保证相邻层的图形之间的安全距离，又能提高OPC工作效率。又能提高OPC工作效率。又能提高OPC工作效率。

【技术实现步骤摘要】
OPC修正方法


[0001]本专利技术涉及一种半导体集成电路制造方法，特别涉及一种光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction，OPC)方法。

技术介绍

[0002]在现有OPC修正中，金属(metal)层往往会因为某些原因进行不同程度的形状改变，而这种改变往往都是以边的前进后退来实现，而为了保证相应通孔(via)与metal图形的安全距离，则只能通过部分的条件和最终的检查来避免，并再重新做处理，这样费时费力。

技术实现思路

[0003]本专利技术所要解决的技术问题是提供一种OPC修正方法，能在OPC修正过程中一步到位的对两层相邻的图形之间的安全距离进行设置，既能保证相邻层的图形之间的安全距离，又能提高OPC工作效率。
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术提供的OPC修正方法包括如下步骤：
[0005]步骤一、提供第一层图形，所述第一层图形的层数包括一层以上，各层所述第一层图形的层次都和后续需要做OPC修正的第二层图形的层次相邻；对所述第一层图形进行变形，包括：
[0006]在所述第一层图形中需要设置安全距离的邻近区域中设置辅助图形。
[0007]步骤二、提供第二层图形并对所述第二层图形进行OPC修正，在所述OPC修正中，所述辅助图形为所述第二层图形不可覆盖的部分，根据所述第二层图形和所述辅助图形的相对关系对所述第二层图形进行操作从而实现所述OPC修正，所述OPC修正完成后，在所述第一层图形中需要设置所述安全距离的位置处所述第一层图形和所述第二层图形的距离大于等于所述安全距离。
[0008]进一步的改进是，步骤一中，根据所述第一层图形和所述第二层图形的关系设置所述辅助图形，以保证在所述第一层图形和所述第二层图形的各区域的间距都大于等于所述安全距离。
[0009]进一步的改进是，所述辅助图形的形状包括多边形。
[0010]进一步的改进是，步骤二中，所述OPC修正的操作包括对所述第二层图形的边进行移动。
[0011]进一步的改进是，所述OPC修正中，对所述第二层图形的边的移动操作包括前进和后退。
[0012]进一步的改进是，所述OPC修正中，当所述第二层图形的边向所述第一层图形的边移动时，所述第二层图形的边所能达到的最大位置停止在所述辅助图形的外侧边上。
[0013]进一步的改进是，所述第一层图形包括通孔。
[0014]进一步的改进是，所述第二层图形包括金属层图形。
[0015]进一步的改进是，所述第一层图形的层数为两层，两层所述第一层图形的层次分别位于所述第二层图形的层次的底部和顶部。
[0016]进一步的改进是，在所述第一层图形的周围都设置有所述辅助图形。
[0017]进一步的改进是，所述金属层图形包括金属线。
[0018]本专利技术在对和第一层图形容易产生较小间距的第二层图形进行OPC修正之前，预先在第一层图形对应的邻近区域中设置辅助图形，辅助图形的设置区域中绝不允许第二层图形的覆盖，这样在OPC修正中，第二层图形不会移动到辅助图形上，这样就能对第一层图形进行保护，使得在设置了辅助图形的区域，第二层图形和第一层图形的最小间距将由辅助图形的宽度决定，而辅助图形的宽度则是根据满足安全距离的要求设置的，故在OPC完成后，能直接使得第一层图形和第二层图形之间的间距大于等于所设置的安全距离，所以，本专利技术能在OPC修正过程中一步到位的对两层相邻的图形之间的安全距离进行设置，既能保证相邻层的图形之间的安全距离，又能提高OPC工作效率。
附图说明
[0019]下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明：
[0020]图1是本专利技术实施例OPC修正方法的流程图；
[0021]图2A
‑
图2D是本专利技术实施例OPC修正方法各步骤中的图形结构。
具体实施方式
[0022]如图1所示，是本专利技术实施例OPC修正方法的流程图；如图2A至图2D所示，是本专利技术实施例OPC修正方法各步骤中的图形结构。本专利技术本专利技术实施例OPC修正方法包括如下步骤：
[0023]步骤一、如图2A所示，提供第一层图形101，所述第一层图形101的层数包括一层以上，各层所述第一层图形101的层次都和后续需要做OPC修正的第二层图形103的层次相邻。
[0024]对所述第一层图形101进行变形，包括：
[0025]如图2B所示，在所述第一层图形101中需要设置安全距离的邻近区域中设置辅助图形102。
[0026]本专利技术实施例中，根据所述第一层图形101和后续的第二层图形103的关系设置所述辅助图形102，以保证在所述第一层图形101和所述第二层图形103的各区域的间距都大于等于所述安全距离，也即在有可能产生较近距离风险的区域都设置所述辅助图形102。
[0027]所述辅助图形102的形状包括多边形。
[0028]在一些实施例中，所述第一层图形101包括通孔。在所述第一层图形101的周围都设置有所述辅助图形102。图2A中所示的所述第一层图形101为通孔，由图2B可以看出，在所述第一层图形101的周围都设置有所述辅助图形102。
[0029]步骤二、如图2C所示，提供第二层图形103并对所述第二层图形103进行OPC修正，在所述OPC修正中，所述辅助图形102为所述第二层图形103不可覆盖的部分，根据所述第二层图形103和所述辅助图形102的相对关系对所述第二层图形103进行操作从而实现所述OPC修正。
[0030]如图2D所示，所述OPC修正完成后，所述第二层图形单独采用标记103a标出。在所
述第一层图形101中需要设置所述安全距离的位置处所述第一层图形101和所述第二层图形103a的距离大于等于所述安全距离。
[0031]本专利技术实施例中，所述OPC修正的操作包括对所述第二层图形103的边进行移动。
[0032]所述OPC修正中，对所述第二层图形103的边的移动操作包括前进和后退。
[0033]所述OPC修正中，当所述第二层图形103的边向所述第一层图形101的边移动时，所述第二层图形103的边所能达到的最大位置停止在所述辅助图形102的外侧边上。
[0034]在一些实施例中，所述第二层图形103包括金属层(metal)图形。所述金属层图形包括金属线。由图2D所示，所述OPC修正完成后，所述第二层图形103a的底边具有凹陷部分，该凹陷部分对应的边段会移动并终止在底部的所述辅助图形102的外侧边上，从而能防止该凹陷部分的边继续靠近所述第一层图形101，这样就能直接在OPC修正中解决现有技术中存在的图形过于接近的技术问题。
[0035]在一些实施例中，作为所述通孔，所述第一层图形101的层数为两层，两层所述第一层图形101的层次分别位于所述第二层图形103的层次的底部和顶部，也即在所述金属层图形的顶部和底部都形成对应的所述通孔，以分别实现所述第二层图形103和顶部的金属层图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种OPC修正方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、提供第一层图形，所述第一层图形的层数包括一层以上，各层所述第一层图形的层次都和后续需要做OPC修正的第二层图形的层次相邻；对所述第一层图形进行变形，包括：在所述第一层图形中需要设置安全距离的邻近区域中设置辅助图形；步骤二、提供第二层图形并对所述第二层图形进行OPC修正，在所述OPC修正中，所述辅助图形为所述第二层图形不可覆盖的部分，根据所述第二层图形和所述辅助图形的相对关系对所述第二层图形进行操作从而实现所述OPC修正，所述OPC修正完成后，在所述第一层图形中需要设置所述安全距离的位置处所述第一层图形和所述第二层图形的距离大于等于所述安全距离。2.如权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于：步骤一中，根据所述第一层图形和所述第二层图形的关系设置所述辅助图形，以保证在所述第一层图形和所述第二层图形的各区域的间距都大于等于所述安全距离。3.如权利要求2所述的OPC修正方法，其特征在于：所述辅助图形的形状包括多边形。4.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡平，廖显煌，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：