一种芯片边缘放置误差确定方法、装置、设备、存储介质制造方法及图纸

本申请公开了一种芯片边缘放置误差确定方法、装置、设备、存储介质，涉及光学邻近校正技术领域，包括：对芯片仿真的光刻胶图形边缘进行像素化处理，获取目标像素；利用预设编码方式对目标像素进行编码，获取目标像素编码；对目标像素编码进行适应性评估，并从与目标像素编码对应的目标像素中选择出第一目标像素；基于第一目标像素生成第一目标像素种群，并输出第一目标像素种群的目标适应值；利用目标适应值对PID控制器的参数进行调整，确定芯片边缘放置误差。对光刻胶图形边缘进行像素化处理并且基于对目标像素编码的适应性评估的方式选择合适的适应值，将目标适应值至PID控制器的参数调整中，实现简单便捷的确定芯片边缘放置误差。置误差。置误差。

【技术实现步骤摘要】
一种芯片边缘放置误差确定方法、装置、设备、存储介质


[0001]本专利技术涉及光学邻近校正
，特别涉及一种芯片边缘放置误差确定方法、装置、设备、存储介质。

技术介绍

[0002]光学邻近效应纠正(OPC)是芯片光刻技术中被广泛使用的改进图像真实度和过程健壮性的重要技巧之一。其一般可以分为基于经验规则的光学邻近效应修正(RBOPC)和基于模型的光学邻近效应修正(MBOPC)。RBOPC主要是利用当前邻域的几何性质来更改特征。然而，对相邻成像失真的局部修改是相互耦合的，并且由于其非迭代校正过程，在90nm以下的技术节点上，RBOPC没有竞争力。而MBOPC利用数学模型来表征图像形成过程，并迭代地寻找优值函数的全局最优值以提高成像质量。MBOPC又分为基于边缘的OPC和基于像素的OPC。基于边缘的OPC把掩膜上的多边形分割成边和角，通过这些边和角从原始位置的移动，来减少成像失真。该移动的目标是使目标轮廓与预设观察点处晶片上图像的轮廓相匹配。OPC的每次迭代都需要重新计算目标轮廓和预设观察点处晶片上图像的轮廓，该计算的时间复杂度和空间复杂度都相当本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种芯片边缘放置误差确定方法，其特征在于，包括：对芯片仿真的光刻胶图形边缘进行像素化处理，以获取所述光刻胶图形边缘的目标像素；利用预设编码方式对所述目标像素进行编码，获取目标像素编码；对所述目标像素编码进行适应性评估，并从与所述目标像素编码对应的目标像素中选择与符合预设筛选条件规则的目标像素编码对应的第一目标像素；基于所述第一目标像素生成第一目标像素种群，并输出所述第一目标像素种群的目标适应值；利用所述目标适应值对PID控制器的参数进行调整，以确定芯片边缘放置误差。2.根据权利要求1所述的芯片边缘放置误差确定方法，其特征在于，所述利用预设编码方式对所述目标像素进行编码，获取目标像素编码，包括：利用格雷编码对所述目标像素进行编码，对所述目标像素进行初始化处理，并获取目标像素编码；其中，所述初始化的迭代次数为零。3.根据权利要求1所述的芯片边缘放置误差确定方法，其特征在于，所述对所述目标像素编码进行适应性评估，包括：利用预设评估函数对所述目标像素编码进行适应性评估，以获取所述目标像素编码的适应值。4.根据权利要求3所述的芯片边缘放置误差确定方法，其特征在于，所述从与所述目标像素编码对应的目标像素中选择与符合预设筛选条件规则的目标像素编码对应的第一目标像素，包括：判断所述目标像素编码的适应性值是否符合预设适应值，若不符合，则从所有所述适应值中确定出最大适应值和对应的第一目标像素。5.根据权利要求1所述的芯片边缘放置误差确定方法，其特征在于，所述基于所述第一目标像素生成第一目标像素种群，并输出所述第一目标像素种群的目标适应值，包括：基于所述第一目标像素生成第一目标像素种群，并从所述第一目标像素种群选择待交配目标像素；对所述待交配目标像素进行交配处理，生成新目标像素；基于所述新目标像素与除所述待交配目标像素外的第一目标像素生成新目标种群，并输出所述新目标像素种群...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：华芯程杭州科技有限公司，
类型：发明
国别省市：